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在扼要地归纳了几种CP破坏模型对中子电偶极矩(EDM)的理论预言之后,我们重点评述了与温伯格提出的胶子CP破坏算符有关问题的最新发展,并讨论了通过温伯格算符在一些CP破坏模型中产生的中子EDM.在温伯格工作的启发下,最近又提出了几种产生大的带电轻子EDM和轻夸克EDM及色电偶极矩(CEDM)的新机制,我们也将对此做简要讨论. 相似文献
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光学玻璃加工破坏层研究及粗磨、精磨、抛光工序加工余量的合理匹配 总被引:5,自引:1,他引:4
本文通过用五种散粒磨料(碳化硅)、五种固着磨料(金刚石)对八大类常用光学玻璃进行加工,用扫瞄电子显微镜观察其表面形貌,用抛测法测出其破坏层深度,得出一系列破坏层的深度数值,从而找出破坏层与磨料之问的函数关系。以破坏层的绝对深度为依据,得出光学加工中精磨、抛光工序的加工余量的合理匹配值。 相似文献
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宇宙学家认为在大爆炸中产生了相等数量的物质与反物质。如果物质与反物质粒子是严格地彼此相反的,它们应该已经发生湮灭而只剩下光子。然而,我们的宇宙是以物质为主的,这意味着大爆炸之后物质与反物质经历了不同的过程。为说明这种过剩的物质,粒子物理的标准模型预言,物质和反物质的衰变速率略有不同。 相似文献
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参考国内外现有的τ-c工厂及其探测器的设计结果,给出了BTCF探测器的总体指标. 根据这些指标设计并开发了用于BTCF物理研究的快速蒙特卡罗模拟方法,并用此方法对一系列重要的物理课题进行了蒙特卡罗模拟. 文中描述了该模拟方法的设计思想、程序流程以及这种方法在BTCF可行性研究乃至预制研究阶段的优越性,同时也给出了对若干重要物理问题的模拟结果. 从而论证了建造BTCF的必要性和不可替代性. 相似文献
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本文阐述了在中国原子能科学研究院“天光一号”KrF激光核聚变实验装置上,MOPA系统光学元件加工与镀膜研究工作的进展。实验测量结果表明,加工后的基片表面均方根粗糙度对于K9光学玻璃与熔融石英玻璃来说分别为σrms=1.8±0.5nm,σrms=2.0±0.4nm。镀HfO2/SiO2高反射膜的光学元件的反射率与破坏阈值分别为R>99.5%,Eth=1.30~1.33J/cm2。镀Al2O3/MgF2增透膜的光学元件的透射率与破坏阈值分别为T>99.5%,Eth=1.3~1.97J/cm2。 相似文献