软X射线投影光刻技术及其发展(续)

为了提高反射率,软X射线投影光刻中使用的掩膜是制备在多层膜上的反射式掩膜,由于有微缩光学系统,它有相对较大的特征尺寸;同时由于它是制备在镀有多层膜的较结实基片上,使用中有能力避免软X射线照射引起的掩膜热变形,便于实现高精度的光刻复制。在反射式掩膜技术中,需要着重考虑的是掩膜缺陷修复和降低多层膜的损伤。     

硅集成电路亮起来了

硅集成电路亮起来了这是英国《自然》杂志１９９６年１１月第３８４卷上斯坦福大学Ｍｉｌｅｒ教授一篇专文的题目［１］．事情还是从多孔硅（ＰＳ）发光所引起的．多孔硅在室温下高效率发射可见光是Ｃａｎｈａｍ［２］于１９９０年发现的，很快在科学界引起了一个研究热潮...     

光纤传感器及其研究现状

 随着现代科学技术的发展,信息的获得显得越来越重要。传感器正是感知、检测、监控和转换信息的重要技术手段。     

光纤连接器

介绍了光纤连接器的结构、端面形状、技术指标要求以及近几年发展起来的新型光纤连接器。对光纤连接器的关键技术———氧化锆陶瓷 (PSZ)插针体的制造进行了详细的分析。结果表明 ,生产陶瓷插针的设备和工艺相对比较复杂 ,一次性的固定投入较多 ,只有达到一定的生产规模才能产生效益     

LSI用环氧塑封料研制与中试

本文叙述了ＬＳＩ用环氧塑封料研究与中试的主要成果、技术要点及成果应用。     

X射线光刻技术的进展及问题

Ｘ射线光刻是一种能满足下世纪初超大规模集成电路（ＶＬＳＩ）生产的深亚微米图形加工技术。论述了这种光刻技术的发展历史及近年来的主要进展。重点讨论了在Ｘ射线源、接近式曝光和全反射投影曝光等方面取得的成就与存在的问题。展望了这种技术的发展前景     

绿色节能环保型化工设备市场前景可观

在不久前召开的2008年全国压力容器制造单位工作会议上，专家指出，市场环境和国家政策的有机结合，将为我国装备制造业提供一个良好的发展机遇。在化工行业推动结构调整和产业升级和过程中，节能环保设备、流程简化工艺、出口和替代进口设备、储运设备等未来的发展前景比较乐观。