排序方式: 共有134条查询结果,搜索用时 296 毫秒
81.
聚(3-甲基噻吩)的电化学稳定性及电催化行为 总被引:1,自引:0,他引:1
用连续循环伏安法研究了电化学法制备的聚(3-甲基噻吩)(PMT)薄膜修饰玻璃碳电极在不同支持电解质溶液中的电化学稳定性。在易嵌入PMT的阴离子存在下, PMT电活性随扫描次数按表现二级反应降低; 在难嵌入PMT的离子存在下, PMT具有良好稳定性; 在含有氯、溴离子的水溶液中, PMT可将卤离子电催化氧化, 并引起PMT电活性迅速下降。光电子能谱分析表明氯已键合到PMT结构上。 相似文献
82.
可多重N-羟甲基化的Mannich反应机理研究 总被引:1,自引:0,他引:1
用MNDO法全优化了20多个Mannich反应中间体-N-羟甲基胺和亚甲胺碳正离子的平衡几何构型, 计算了它们的电子结构。根据N-羟甲基胺脱水反应的能量变化(△E)、亚甲胺碳正离子的净电荷(Q~C~+)和几何构型, 分类讨论比较了N-羟甲胺脱水的难易、亚甲胺碳正离子的稳定性以及对反应历程的影响。以脲素、甲醛和硝仿之间的mannich反应为例, 建议在可多重N-羟甲基化情形下Mannich反应的机理。此外还对硝基脲的N-羟甲基胺及其亚甲胺碳正离子进行了计算研究。 相似文献
83.
本文用RHF/STO-3G解析梯度方法研究了钠卤类硅烯H2SiNaX(X=F,Cl)势能面的主要特征, 得到了它们的几种平衡构型及其异构化的过渡态构型。与锂卤类硅烯相似, 三元环构型和P-配合物构型是最稳定的构型; 其它的两种构型-σ-配合物和经典"四面体", 也是势能面上的极值点, 但能量相对较高, 不稳定。文中对各构型的特点进行了分析。 相似文献
84.
TiO_2-K_2SiO_3无机涂层对空间材料Ag的防护行为研究 总被引:1,自引:0,他引:1
在微波电离型原子氮(AO)源地面模拟设备中对空间材料Ag及TiO_2- K_2SiO_3无机涂层进行原子氧剥蚀效应试验。用扫描电镜(SEM)、光电子能谱( XPS)、红外光谱(FT-IR)、X射线衍射光谱(XRD)和LAMBDA-9分光光度计,对在 模拟原子氧(AO)环境中Ag及在其表面涂覆的无机涂层,所发生的侵蚀与防护作用 进行了表征研究。AO对Ag表现了较严重的侵蚀作用,原来光亮如镜的表面形貌变得 粗糙,且失去光泽。而所施用的TiO_2-K_2SiO_3无机涂层,经AO辐照后,表面形貌 则变化甚少。实验表明,该涂层对AO辐照有较强的防护效果、较好的空间稳定性( AO辐照前后Δα ≈ 0.024),能阻止AO对基材的侵蚀。 相似文献
85.
86.
87.
本文报道了L-苏氨酸同Cu(II),Zn(II),Fe(II),Mn(II),Ca(II),Mg(II),Ni(II),Cd(II)的二元及三元配合物的pH电位法研究.电位滴定数据是使用MINIQUAD和ESTA计算机程序处理的.在每个体系中确定了最佳配合物粒子模型,并测定了在生理条件下(温度为37±0.1℃离子强度为150mmol.dm^-3NaCl)的稳定常数.结果表明在铜配合物中Cu,Thr.His混配配合物是与Cu(His)~2^-同样重要的配合物,因此需要重新计算在血浆中铜在这些配合物中的分布.虽然苏氨酸可以看作为三齿配位体,但本工作的结果并无证据支持羟基参与配位,然而在Cd-The-His体系中,Cd.Thr.His同它的1:2母体二元配合物相比表现了显著的稳定性,这可能显示了不同的配位状况.但这一点有待于进一步证实. 相似文献
88.
89.
90.