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81.
采用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(MWPECRCVD)方法,使用不同的源气体(CHF3CH4,CHF3C2H2,CHF3C6H6)体系制备了aC∶F∶H薄膜.由于CH4,C2H2,C6H6气体在等离子体中的分解反应不同导致了薄膜的沉积速率和结构上的差异.红外吸收谱的结果表明,用C6H6CHF3作为源气体沉积的薄膜中几乎不含H,而用C2H2CHF3所沉积的薄膜中的含氟量最高,其相应的CF振动峰位向高频方向偏移.薄膜的真空退火结果表明,aC∶F∶H薄膜的热稳定性除了取决于薄膜的CC键浓度外,还与CC键
关键词:
氟化非晶碳膜
电子回旋共振化学气相沉积
红外吸收光谱 相似文献
82.
聚丙烯微孔膜的等离子体接枝聚合改性 总被引:2,自引:1,他引:1
利用拉伸时的晶型转变致孔特性,从β晶相聚丙烯经单向或双向拉伸制得了新型聚丙烯微孔膜、用等离子体接枝聚合技术接上了亲水性聚合物如聚丙烯酸、聚丙烯腈等。研究了等离子体处理时间、单体性质对得到的亲水膜的亲水性、离子/溶质渗透性的影响。发现接枝聚丙烯酸的双向拉伸膜对Na~+、Mg~(++),尿素有较大的渗透性,并具有优良的形状稳定性。 相似文献
83.
NongYueHE JianXinTANG SongLI HongCHEN AnCunZHOU 《中国化学快报》2005,16(3):397-400
Polypropylene microporous membranes were treated with plasma in a mixture of N2 and H2 (1:2 in volume). Attenuated total reflectance Fourier transform infrared spectroscopy (ATR-FTIR), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and ultra-violet (UV) spectra demonstrated the success of grafting amino groups. The density of the polar amino groups on the membrane surface is about 0.59 μmol/cm^2. The as-treated membranes were successively applied to the in situ synthesis of oligonucleotides and an average coupling yield was more than 98%. The surface feature of the treated membrane is suggested to be responsible for its advantage over a glass slide. 相似文献
84.
椭偏法测膜厚的直接计算方法 总被引:15,自引:1,他引:14
改进了椭偏法测薄膜折射率和膜厚的迭代计算方法,由测量得到的起偏角A和检偏角P直接算出薄膜折射率和膜厚. 相似文献
85.
86.
87.
采用MOCVD技术在Al2O3(0001)衬底上生长了GaN薄膜,使用透射光谱、光致发光光谱和X射线双晶衍射三种技术测试了五类GaN薄膜样品,实验结果表明:GaN薄膜透射谱反映出的GaN质量与X射线双晶衍射测量的结果一致,即透射率越大,半高宽越小,结晶质量越好;而X射线双晶衍射峰半高宽最小的样品,其PL谱的带边峰却很弱,这说明PL谱反映样品的光学性能与X射线双晶衍射获得的结晶质量不存在简单的对应关系,同时还报导了一种特殊工艺生长的高阻GaN样品的RBS/沟道结果。 相似文献
88.
对高粘度液体在正弦形波纹壁面上的自由降落和蒸发建立了分析模型。对控制微分方程及边界条件作无量纲处理,引入流函数,采用摄动展开得到了0级近似和一级近似的微分方程组,讨论了液膜的流动和传热特性与壁面之间的关系。 相似文献
89.
在波长γ=632.8nm,入射功率约0.8m的He-Ne激光照射下,对TlBa2Ca2CuO2(Tl-2212)外延膜的光响应行为进行了实验研究。结果显示:在样品转变温度(Tc=105.5K)附近,TlBa-CaCuO外延膜的光响应行为表现为辐射热与非辐射热效应共存现象。光响应信号电平与样品温度、偏置电流、及入射光束的调制频率等诸因素有密切关系的关系。实验结果还表明,辐射热与非辐射热效应的响应行为 相似文献
90.
应用X光光电子能谱法测定了几种彩色胶片表面层中氟的1s能级的结合能;分别比较了水处理前后、溅蚀前后胶片护膜层氟的变化,表明氟化物分布在护膜最表层,是一种易溶于水的氟化物;测定了彩色片护膜层所含硅2p能级的结合能,与自制彩色片护膜层测定结果比较,优质片含一种较多负电性,用与自制片的无机硅不同的硅化物作毛面剂;对溅蚀前后优质片和自产彩色片中的硅铝比变化进行比较,提出优质彩色片F-400的护膜层可能是双 相似文献