全文获取类型
收费全文 | 24834篇 |
免费 | 6924篇 |
国内免费 | 4987篇 |
专业分类
化学 | 7916篇 |
晶体学 | 693篇 |
力学 | 560篇 |
综合类 | 187篇 |
数学 | 168篇 |
物理学 | 27221篇 |
出版年
2024年 | 165篇 |
2023年 | 703篇 |
2022年 | 830篇 |
2021年 | 967篇 |
2020年 | 490篇 |
2019年 | 922篇 |
2018年 | 706篇 |
2017年 | 950篇 |
2016年 | 948篇 |
2015年 | 1094篇 |
2014年 | 1972篇 |
2013年 | 1595篇 |
2012年 | 1665篇 |
2011年 | 1833篇 |
2010年 | 1676篇 |
2009年 | 1900篇 |
2008年 | 1975篇 |
2007年 | 1592篇 |
2006年 | 1616篇 |
2005年 | 1395篇 |
2004年 | 1376篇 |
2003年 | 1139篇 |
2002年 | 1021篇 |
2001年 | 946篇 |
2000年 | 852篇 |
1999年 | 769篇 |
1998年 | 667篇 |
1997年 | 756篇 |
1996年 | 656篇 |
1995年 | 761篇 |
1994年 | 548篇 |
1993年 | 465篇 |
1992年 | 480篇 |
1991年 | 388篇 |
1990年 | 383篇 |
1989年 | 337篇 |
1988年 | 97篇 |
1987年 | 67篇 |
1986年 | 15篇 |
1985年 | 17篇 |
1984年 | 5篇 |
1983年 | 5篇 |
1982年 | 1篇 |
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 625 毫秒
71.
(Tm,Ho):YLF晶体激光器的实验研究 总被引:2,自引:1,他引:1
报道了一台连续792nmTi:Al2O3激光器纵向抽运的(Tm,Ho):YLF微片激光器。在室温条件下,当抽运功率为680mW时,激光器在2.06μm波长的输出功率达到90mW。激光器阈值为380mW,光光转换效率为13%,斜率效率为26%. 相似文献
72.
73.
在我们自己研制的具有恒温加热进样系统的激光质谱仪上实验获得了气相萘分子的共振增强多光子电离/飞行时间质谱(REMPI-TOFMS),以及萘母体离子C10H+8和一些主要碎片离子C8H+6、C6H+6、C5H+3、C4H+3、C3H+3在264~280 nm的分质量光谱.结合在266 nm激发波长下实验得到的这些离子的光强指数及不同激光能量下的分支比,对母体离子及主要碎片离子的生成机理进行了探讨:在该波段范围内,萘母体分子首先吸收一个光子从基态跃迁至激发态,激发态分子再吸收一个光子而电离产生母体离子C10H+8;碎片离子C8H+6、C6H+6、C5H+3、C4H+3、C3H+3则是由母体离子进一步吸收光子解离形成的,并给出了可能的解离通道. 相似文献
74.
用提拉法生长了Lu2Si2O7:Ce晶体,对该晶体的闪烁性能进行了研究。透射光谱表明,Lu2Si2O7:Ce晶体的吸收边比Lu2SiO5:Ce晶体向短波方向移动了25nm,使透光范围进一步拓宽。X射线发射光谱和UV激发发射光谱均具有典型的双峰特征,主峰在378nm。UV激发发射谱具有温度效应,即375K以上时,发光效率迅速降低;425K以上时,发光主峰位明显红移。衰减曲线符合单指数式衰减规律,常温下经UV激发后的衰减时间约为34ns。从曲线形态看,375K以下的衰减谱与室温下的几乎完全相同,拟合的结果在32.8~34ns之间;衰减时间的温度效应从375K开始显现,即随温度的升高,衰减时间有加速变短的趋势,到500K时缩短为6.72ns。热释光谱在488,553K处有两个热释光峰,但室温附近几乎观察不到热释光峰。 相似文献
75.
针对刚性约束层、柔性约束层以及液体约束层,从激光诱导冲击波阵面状态、汽化物(包括气体和等离子体)扩散以及冲击波的反射进行分析,发现对于脉宽小于冲击波通过汽化物层的时间间隔的短脉冲激光,约束层并不能直接提高冲击波的冲量,而对于脉宽大于冲击波通过汽化层时间间隔的激光,其增强冲击效果是通过约束汽化物的扩散,提高压力幅值和由于冲击波在约束层与工件表面的多次反射而延长对工件的作用时间来实现的.刚性约束层能最大地增加冲击冲量,而柔性约束层和液体约束层的主要优点是其形状可与非平面形工件表面符合.
关键词:
激光
约束层
扩散
反射波 相似文献
76.
基于分步式压印光刻的激光干涉仪纳米级测量及误差研究 总被引:1,自引:1,他引:0
针对在未做隔离保护处理的环境中,基于Michelson干涉原理的激光干涉仪测量系统存在严重的干扰误差,不适合分步式压印光刻纳米级对准测量的要求.采用Edlen公式的分析及计算,不仅在理论上揭示出环境温度、湿度、气压等变化对激光干涉仪测量准确度的影响,而且证明影响测量准确度的最大干扰源是空气流动的结果.通过气流隔离措施和系统测量反馈校正控制器,能够实时补偿激光干涉仪两路信号的相差.最终,测量漂移误差在10 min内由13 nm降低到5 nm以内,满足压印光刻在100 mm行程中达到20 nm定位准确度要求. 相似文献
77.
78.
79.
80.