两相钛合金再结晶退火组织与织构演变的蒙特卡罗模拟

蒙特卡罗(MC)方法被广泛应用于模拟金属材料在退火过程中的静态再结晶行为. 在已有两相材料晶粒长大MC模型基础上, 引入形核阶段, 综合考虑再结晶晶粒吞并形变晶粒和再结晶晶粒竞争长大两种情况, 建立了退火时两相合金再结晶MC模型.结合电子背散射衍射所测 初始晶粒形貌、相成分、晶体学取向及应变储能相对值, 该模型被应用于TC11钛合金退火过程中的微观组织及织构演变模拟.结果表明, 所建模型能够较好体现退火过程中两相晶粒的形核及晶粒长大行为. 与β相相比较, α相具有较低的再结晶速率和较高的晶粒长大速率, 前者主要归结于α相较低的初始应变储能, 后者则体现了该条件下初始组织形貌、分布及两相比例对晶粒长大具有重要影响; 由于非均匀形核的影响, 模拟得到的再结晶速率变化与 假设均匀形核的Johnson-Mehl-Avrami-Kolmogorov 再结晶方程存在明显差异.同时, 两相的基本织构特征在退火过程中无明显变化, 但织构强度增加. 关键词： 两相钛合金 再结晶 蒙特卡罗方法 织构     

强流脉冲电子束作用下纯镍表层中织构及结构缺陷的演化行为

利用强流脉冲电子束(HCPEB)装置对金属纯Ni进行轰击,采用X射线衍射及透射电子显微镜(TEM)技术详细分析了受轰击样品的变形结构和缺陷。X射线衍射分析表明,经强流脉冲电子束处理后,在{111}和{200}晶面出现了择优取向。TEM表层微观结构分析表明:强流脉冲电子束轰击1次和5次后,晶粒内部形成了大量的(111)[112]型波状条带结构,在波状条带内部包含大量平行的(200)[110]型微条带;10次轰击后,样品变形结构发生变化,除大量的条带状结构外,变形孪晶的数量明显增多。这些变形微结构不仅影响表层的织构演化行为,而且还能细化晶粒,强流脉冲电子束技术为制备表面纳米材料提供了一条有效的途径。     

一种基于皮肤纹理特征的皮肤分类算法

根据皮肤纹理的深浅、节点数及纹理粗细等主要特征,采用小波包及二维傅里叶变换分析方法和数学形态学分析法实现了皮肤的特征提取。利用小波包分解得到的空间频率信息对二值化纹理图像进行空域滤波去噪,利用基本竞争型人工神经网络进行纹理分类。结果表明,这一方法可获得较理想的分类结果。     

基于图谱理论的纹理图像分析

图谱理论作为目前模式识别研究的热门方法之一,广泛应用于聚类与分割,但对其进行图像分析,尤其是复杂的纹理图像分析未见报道。将图谱理论引入到图像分析领域,并结合窗口纹理分析方法构造新的纹理分析算法。首先对图像灰度级进行窗口划分得到不同灰度级下的子图像,然后以各子图像作为图的顶点,子图像间的相似度作为图的边,将原图像解析为一幅带权无向图。利用图谱理论的相关思想对该无向图进行分析,可以从中获得纹理粗糙度等特征,从而完成对原始图像的分析。通过对Brodatz图像库的检索实验证明,该方法优于传统纹理分析算法。     

基于自相关函数的非平面表面粗糙度的图像纹理研究

采用自相关函数对不同加工工艺形成的非平面工件表面粗糙度进行了研究。讨论了自相关函数及其扩展度参数与图像纹理特性的关系,构建了实验装置,利用图像处理软件对实验所得的激光散斑图像进行了处理,得到了自相关函数及其扩展测度参数随表面粗糙度的变化曲线。为研究非平面工件的粗糙度,提供了一种新的方法。     

Scaling and self-similarity in Pb<Subscript>1-x</Subscript>Fe<Subscript>x</Subscript>S nanoparticle films

This paper addresses the issues of scaling and self-similarity in typical nanoparticle films. The role played by microscopic processes contributing to growth on these issues is probed. While we perform this investigation for a specific system viz., Pb_1-xFe_xS nanoparticle films for clarity of the procedures, the analysis is general and can be applied to a variety of systems obtained using different deposition techniques.     

Properties and Characterization of Modified HZSM—5 Zeolites

Physicochemical and catalytic properties of phosphorus and boron modified HZSM-5 zeolites treated with 100% steam at 673K were investigated.The acidity and distribution of acidic sites were studied by infrared spectroscopy using pyridine as probe molecule and temperature programmed desortion (TPD) of ammonia.The structure of the samples was characterized by XRD,and the textural properties of the catalysts were determined by nitrogen isothermal adsorption-desorption measurements and scanning electron microscopy(SEM).The XRD results show that the modified samples have no novel crystalline phase,indicating a high dispersion of phosphorus and boron species.After treatment,the microporous volume and surface area of the samples markedly decrease,implying the bolockage of the channel.The nitrogen adsorption-desorption measurements suggest that the isothermal type of all samples is a combination of isothermal type Ⅰ and Ⅳ，and all hysteresis loops resemble the H4-type in the IUPAC classification.The total acidity of the modified samples,determined by pyrldine adsorption IR and TPD of ammonia,decreases in contrast to that of the parent HZSM-5.The conversion of n-heptane over P and B steammodified HZSM-5 is higher than that of P and B-modified HZSM-5 zeolites but lower than that of the parent HZSM-5.     

条带织构装饰技术观察含T─型液晶基元的热致性聚芳酯液晶态的向错

采用条带织构装饰新技术研究了含Ｔ─型液晶基元的热致性聚芳酯液晶态的向错形态．经过培养的液晶样品无需剪切，淬火后便可呈现出围绕向错点取向排列的条带织构，而条带织构长轴的垂直方向正代表了液晶基元的指向矢方向，这样，在普通偏光显微镜下就能直接观察到这些条带织构装饰的强度Ｓ＝±１／２和Ｓ＝±１的向错，并观察到Ｓ＝－３／２的高强度向错和闭环状的反转壁．     

某些含二维液晶基元的热致液晶高分子的向列态纹影响构

发现某些含二维液晶基元的热致液晶高分子容易产生反向壁织构与含有高强度有错点（│Ｓ│大于１）的向列态纹影织构。这类液晶高分子的织构与形态学特点与含一维棒状液晶基元的其他液晶高分子不同。     

氰乙基纤维素溶致性液晶的研究

氰乙基纤维素在二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基亚砜、乙腈以及丙酮等溶剂中可以形成溶致性液晶。随浓度增加,溶液从各向同性状态经两相共存态转变成为完全的液晶态。升高温度到T_c,液晶相消失;降低温度到T′_c,液晶相再生成。T_c总大于T′_c。而且,浓度越高,过冷温度△T=T_c—T′_c越小。在各向同性,两相共存或完全的液晶状态,溶液平均折射率和消光度均与浓度呈线性关系。但在两相间相互转变时,即在C_1~*和C_2~*处,n-C和 A-C 曲线上出现转折点。高聚物与溶剂的相互作用参数X_(12)愈小,临界浓度C_1~*愈小。把描述大分子链柔顺性的参数f与X_(12)联系起来,可用 1956年 Flory的理论定性地解释溶剂对高聚物溶致性液晶形成的影响。