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51.
用1H NMR、13C NMR谱、自旋-晶格弛豫时间(T1)和自旋-自旋弛豫时间(T2)研究了丙烯腈在60Co γ射线辐射聚合后的大分子结构变化与大分子链的运动. 结果表明随着辐射剂量增大,在单体形成聚合物的过程中,聚合物主链上出现了少量的-OH基团,继续增大辐射剂量, -OH部分被氧化. 对聚合物溶液的变温氢谱的研究表明,溶剂中的残余水与上述-OH形成氢键,且随着温度升高氢键被破坏,同时H2O与-OH之间还存在着质子交换. 利用13C NMR谱对丙烯腈辐射聚合的产物进行了序列结构分析. 对T1和T2的研究表明,辐射剂量的增大并未影响到聚丙烯腈的链运动,证明了在丙烯腈的辐射聚合过程交联反应未发生. 相似文献
52.
53.
本文研究了囚禁^85Rb原子的一维CO2光学晶格的光子带隙。由于大失谐CO2聚焦光束(λ=10.6μm)远离Rb原子的共振频率,原子与晶格光场的自恰作用可忽略,Rb原子被囚禁在周期为d=λ/2=5.3μm的周期性格点上,且单个格点上囚禁的原子数目可以达到10^3,整个晶格形成具有空间周期性调制的介电多层膜系。类似于光子晶体,其光学响应将在晶格频率与共振频率之间产生光子带隙。另一方面, 相似文献
54.
对掺有镉、硒、硫的玻璃在500—800℃退火2—24h,生长了不同尺寸的CdSxSe1x纳米晶体.用分光光度计和光致发光光谱(PL)分析了纳米晶体的性能.退火温度低于550℃,纳米晶体处于成核阶段,600—625℃处于正常扩散生长阶段,700—800℃处于竞争生长阶段;而650℃处于两种生长阶段之间.虽然650℃下生长的纳米晶体的尺寸分布比较窄,但纳米晶体的尺寸随退火时间的延长几乎不变,在该温度改变退火时间很难改变纳米晶体的平均尺寸.在所有样品中出现了深能级缺陷,在650℃退火时间小于4h或大于16h有利
关键词:
纳米晶体
生长机理
深能级缺陷 相似文献
55.
用斜坡电压法(Voltage Ramp, V-ramp)评价了0.18μm双栅极 CMOS工艺栅极氧化膜击穿电量(Charge to Breakdown, Qbd)和击穿电压(Voltage to Breakdown, Vbd). 研究结果表明,低压器件(1.8V)的栅极氧化膜(薄氧)p型衬底MOS电容和N型衬底电容的击穿电量值相差较小,而高压器件(3.3V)栅极氧化膜(厚氧)p衬底MOS电容和n衬底MOS电容的击穿电量值相差较大,击穿电压测试值也发现与击穿电量
关键词:
薄氧
可靠性
击穿电压
击穿电量 相似文献
56.
57.
在有效质量近似理论下,利用转移矩阵和有效垒高方法研究了有限磁场下含结构缺陷的多组分超晶格中局域电子态的性质.在考虑各组分层有效质量的失配时,外加磁场会导致磁耦合效应的出现.磁耦合效应不仅引起局域电子能级的量子化,并且随着朗道指数或磁场强弱的变化,局域能级及其局域程度都会发生显著移动,特别是对高能区域的局域电子态影响更大.此外,还计算了电子输运系数,讨论了含结构缺陷的三组分超晶格中局域电子能级与输运谱透射禁区中的共振透射峰的关系,发现两者之间有着很好的对应关系,为相应的实验研究提供了依据.
关键词:
超晶格
局域电子态
磁场 相似文献
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59.
60.