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通过对交链蒙脱土(CLS)的分析表明,AI-CLS的底面间距(d001)为18.8A,N_2吸附BET表面积为400m~2/g。经500℃,2小时预处理的酸量较HY分子筛少,但酸强度分布与HY相似。CLS的酸性来源于羟基聚合物离子(柱子)。Al-CLS柱结构在500℃以内是稳定的,但酸量在300—500℃范围内随予处理温度的升高而迅速下降。 相似文献
332.
Enhanced Depth of Lift-off Pattern Defined with Soft Mold Ultraviolet Nanoimprint by Multi-Layer Masks 下载免费PDF全文
The traditional lift-off process can hardly be carried out in ultraviolet nanoimprint defined patterns due to the poor solubility of the ultraviolet resist. Moreover, the depth of lift-off pattern defined by an ultraviolet nanoimprint is limited by that of the soft mold. In this work, a modified nanoimprint process by a multi-layer mask method is introduced to enhance the depth of the final lift-of[pattern. Pillar photonic crystal is fabricated from the hole pattern defined by NIL to prove the pattern-reversal capability. On its basis, combining the features of overetehing technology and the lateral diffusion phenomenon in the metal depositing process, pillar-shaped photonic crystal stamps with different duty cycles have been fabricated by adjusting the etching time of the lift-off layer. Based on this process, a 50-nm line width metal grating is fabricated from a soft stamp with an aspect ratio as low as 1. 相似文献
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335.
聚氧化乙烯/蒙脱土纳米嵌入化合物的制备与结构表征 总被引:9,自引:1,他引:8
利用溶液法和熔融法制备聚氧化乙烯(PEO)/蒙脱土纳米嵌入化合物,用XRD、IR和DSC等测试手段对嵌入化合物进行了表征.嵌入的PEO分子同蒙脱土晶层中的Na+生成PEO-Na+络合物,嵌入化合物具有一定的耐溶剂萃取性,PEO分子以单层螺旋构象排列于蒙脱土的晶层中.PEO分子在蒙脱土层间运动受到限制,致使嵌入化合物的结晶熔融峰减弱. 相似文献
336.
本文采用交错模型对蒙脱土/尼龙6纳米复合材料的弹性模量进行预测。模型划分为四个区域:以拉伸变形为主的A(蒙脱土片)、B和D区,和同时承受拉伸和剪切两种变形的C区。通过对各区之间合力平衡和变形协调的简单分析,本文得到了封闭形式的蒙脱土/尼龙6纳米复合材料模量预测公式。引用文献[1]中的蒙脱土材料的几何参数和弹性常数,以及纯尼龙6的弹性常数,对纳米复合材料的模量进行预测,预测结果与实验结果基本吻合。有限元法对交错模型的分析证实了理论模型中变形区划分的合理性,同时也发现FEM的预测结果与实验更为接近。 相似文献
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介绍了提取蒙成药黑木日嘎-13中水溶性多糖的方法,并用硫酸-苯酚法测定了黑木日嘎-13的水溶性多糖的含量。平均回收率为98.9%,RSD为0.95%。用GC测定了黑木日嘎-13中水溶性多糖由阿拉伯糖、木糖、甘露糖、半乳糖、葡萄糖等组成。摩尔比为:1.5:0.7:2.5;2.45:23.0。 相似文献