首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   3篇
  免费   24篇
  国内免费   17篇
化学   16篇
力学   2篇
物理学   26篇
  2014年   6篇
  2013年   10篇
  2012年   7篇
  2011年   2篇
  2010年   5篇
  2009年   5篇
  2008年   3篇
  2006年   1篇
  2005年   1篇
  2003年   1篇
  2002年   1篇
  1999年   2篇
排序方式: 共有44条查询结果,搜索用时 31 毫秒
31.
 利用强流脉冲电子束(HCPEB)装置对多晶纯镍进行轰击,采用X射线衍射及扫描电子显微镜等技术,详细分析了受轰击样品的变形组织与结构。通过分析建立了强流脉冲电子束诱发的应力特征与变形结构之间的关系,并对目前现有的几种应力波数值模拟结果进行了讨论。实验结果表明:强流脉冲电子束能够在材料表层诱发约5GPa的应力,造成纯镍表面发生孪生塑性变形。除了热膨胀引起的表层横向准静态热应力外,强流脉冲电子束产生的等离子体脉冲爆炸可以直接诱发幅值很高的冲击应力波,二者的共同作用是引起表层微观结构变化的直接原因。  相似文献   
32.
采用无助剂、非模板的水热法可控制备Bi4Ti3O12 (BIT)晶体.通过调节反应物的pH值可以选择性地获得BIT纳米球、纳米带和纳米片.通过对不同pH值制备的样品的结构分析研究了这些不同形貌的形成机制.pH值为1制备的BIT样品在可见光下光催化活性最高.基于不同pH值制备的BIT样品的形状、尺寸和局部结构振动分析了光催化活性不同的原因.  相似文献   
33.
用一步水热法制备了直径约为40 nm的Bi3.25Sm0.75Ti3O12(BSmT)纳米线。BSmT纳米线为层状钙钛矿结构。紫外可见漫反射光谱表明,制备出的BSmT材料的带隙能约为2.67 eV。催化反应结果表明,BSmT的光催化活性比掺氮TiO2(N-TiO2)和纯相钛酸铋(Bi4Ti3O12,BIT)高得多,经可见光照射360 min,浓度为0.01 mmol.L-1甲基橙溶液的降解率可达到92.0%。BSmT光催化剂具有更高催化活性的原因是Sm3+离子掺杂拓展了BIT对可见光的吸收范围,同时抑制了BIT的光生电子-空穴的复合。并且BSmT光催化剂经循环使用4次后,其光催化活性并没有明显降低,表明BSmT是一种稳定有效的可见光催化剂。  相似文献   
34.
采用水热法合成2种配合物[Pb2(ptcp)2(DDA)](NO3)2·2H2O(1)和[Co(ptcp)2(DDA)(H2O)]·0.5H2DDA·H2O(2)(ptcp=2-苯基-1H-1,3,7,8-四-氮杂环戊二烯并[l]菲,H2DDA=1,12-十二烷二酸),并采用单晶X-射线衍射、元素分析、红外光谱、X-射线粉末衍射和理论计算对其进行了结构表征。配合物1和2分别呈现双核和单核结构,通过π-π和氢键作用形成二维和三维结构。此外,配合物1具有较好的发光性质。利用Gaussian09W程序,采用B3LYP/LANL2DZ方法对配合物1进行自然键轨道(NBO)分析。结果表明配位原子与Pb(Ⅱ)离子之间存在明显的共价相互作用。  相似文献   
35.
林雪  关庆丰  刘洋  李海波 《中国物理 B》2010,19(10):107701-107701
We present an effective way in this paper to increase the density of lanthanum doped bismuth titanate ceramics, Bi4-xLaxTi3O12 (BLT), thereby significantly improving the performance of the BLT ceramics. Dense BLT ceramicses, Bi4-xLaxTi3O12 (x = 0.25, 0.5, 0.75, 1.0), are prepared by using nanocrystalline powders fabricated by a-gel method and high-pressure technique. The microstructures of the BLT ceramicses prepared separately by conventional-pressure and high-pressure techniques are investigated by using x-ray diffraction and transmission electron microscope. The influence of La-doping on the densification of bismuth titanate ceramics is investigated. The experimental results indicate that the phase compositions of all samples with various lanthanum dopings sintered at 900°C possess layer-structure of Bi4Ti3O12 . The green compacts are pressed under 2.5 GPa, 3.0 GPa, 3.5 GPa and 4.0 GPa, separately. It is found that the density of BLT ceramics is significantly increased due to the decreasing of porosity in the green compacts by high-pressure process.  相似文献   
36.
利用强流脉冲(HCPEB)电子束技术对多晶纯Cu进行了辐照处理,并利用透射电镜对HCPEB诱发的空位簇缺陷进行了表征.实验结果表明,HCPEP辐照金属可在纯Cu表层诱发大量的过饱和空位,并形成四方形空位胞及空位型位错圈和堆垛层错四面体(SFT),HCPEB瞬间的加热和冷却诱发的幅值极大的应力和极高的应变导致的整个原子平面的位移是空位簇缺陷形成的主要原因.此外,扫描电镜分析表明HCPEB辐照可以在纯Cu表面形成高密度、弥散分布和尺寸细小的微孔.过饱和空位或空位团簇沿晶体缺陷向表面扩散、凝聚是表面微孔形成的根  相似文献   
37.
碳纤维增强摩阻材料的摩擦损特性研究   总被引:6,自引:2,他引:4  
利用D-MS摩擦磨损试验机研究了自制的碳纤维增强摩阻材料的碳纤维含量、表面状态、强度及长度对其摩擦磨损性能的影响。结果表明:碳纤维含量对摩阻材料的摩擦磨损性能有显著影响,低含量时主要起减摩作用,高含量时主要起抗犁削作用;经过表面改性的碳纤维与粘结剂结合强度较高,能改善摩阻材料的摩擦磨损性能,高强度碳纤维增强摩擦材料具有较好的摩擦磨损性能;碳纤维长度对摩阻材料的摩擦磨损性能和加工性能具有一定的影响。  相似文献   
38.
强流脉冲电子束诱发温度场及表面熔坑的形成   总被引:7,自引:0,他引:7       下载免费PDF全文
在强流脉冲电子束表面改性实验的基础上,通过数值计算方法对铝和钢的温度场和熔化过程 进行模拟,给出了最先熔化的位置、形成熔孔的最大深度以及表面层下熔化的最大深度. 通 过铝和钢的熔化潜热温度补偿的数值模拟结果和实验结果的对比,揭示了亚表层率先升温及 熔化从而通过表层向外喷发的熔坑的形成机制. 关键词: 强流脉冲电子束 热传导 数值模拟 熔孔  相似文献   
39.
采用离子注入技术将Zn离子注入Si(001)基片,并在大气环境下加热氧化制备了ZnO纳米团簇.利用电子探针、薄膜X射线衍射仪、原子力显微镜和透射电子显微镜,对注入和热氧化后的薄膜成分、表面形貌和微观结构进行表征,探讨了热氧化温度以及注入剂量对纳米ZnO团簇的成核过程及生长行为的影响.结果表明,Zn离子注入到Si基片表面后形成了Zn纳米团簇,热氧化过程中Zn离子向表面扩散,在表面SiO2非晶层和Si基片多晶区的界面处形成纳米团簇.热氧化温度是影响ZnO纳米团簇结晶质量的一个重要参数.随着热氧化温度的升高,金属Zn的衍射峰强度逐渐变弱并消失,而ZnO的(101)衍射峰强度逐渐增强.当热氧化温度高于800 ℃以后,ZnO与SiO2之间开始发生化学反应形成Zn2SiO4. 关键词: ZnO纳米团簇 离子注入 微观结构 形貌分析  相似文献   
40.
强流脉冲电子束辐照诱发金属纯镍中的空位簇缺陷   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
邹慧  荆洪阳  王志平  关庆丰 《物理学报》2010,59(9):6384-6389
利用强流脉冲电子束(high-current pulsed electron beam,HCPEB)技术对多晶纯Ni进行了辐照处理,采用透射电子显微镜详细分析了辐照诱发的缺陷结构.HCPEB辐照后,纯镍表层积聚了幅值极大的残余应力,沿{111}晶面形成了稠密的位错墙及孪晶结构,另外还形成了大量的包括位错圈、堆垛层错四面体(SFT)及孔洞在内的空位簇缺陷.SFT缺陷的数量远高于其他空位簇缺陷,其周围区域位错密度很低.孔洞缺陷主要出现在SFT密集区域.HCPEB瞬间的加热和冷却诱发的幅值极大的应力和极高的应变 关键词: 强流脉冲电子束 多晶纯Ni 空位簇缺陷 堆垛层错四面体  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号