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31.
以ZnO和HGaO2为原料,用不同配比合成出系列ZnGa2O4,并对其晶体结构和发光性能进行了研究。用荧光分光光度计检测了ZnGa2O4的激发和发射光谱,用X射线衍射仪检测了ZnGa2O4的衍射图谱,用热重差热仪绘制了TGA-DAT曲线。对检测结果分析认为:1.ZnGa2O4属于尖晶石结构,稍过量的Zn或Ga能进入ZnGa2O4结构中,并对ZnGa2O4的晶格常数产生一定影响。2.ZnGa2O4存在两个自激发光中心,当Ga稍过量时,自激发光中心是四面体镓氧键[Td(Ga-O)],最大激发波长约248nm,最大发射波长约367nm;当Zn稍过量时,自激发光中心是八面体镓氧键[Oh(Ga-O)],最大激发波长约270nm,最大发射波长约441nm。当n(Zn):n(Ga)在理论值附近,激发和发射光强度最大,而且光谱峰位发生了红移。3.ZnGa2O4的热稳定性能非常好。上述结论对研究ZnGa2O4基质或掺杂的发光材料具有一定意义。 相似文献
32.
设计合成了用以检测过渡金属离子的荧光化学敏感器体系,它们是由1,8-萘二酰亚胺为荧光团,多胺衍生物为金属离子受体组成.在室温下对其光物理性质的研究中发现,在没有加入过渡金属离子时,由于体系内存在有效的光诱导电子转移过程使得荧光团的荧光被淬灭.加入过渡金属离子后,金属离子受体中的氮原子和过渡金属离子之间的配位作用阻断了光诱导电子转移过程,体系的荧光增强.不同的金属离子受体表现出了和过渡金属离子不同的配位识别能力,并且通过荧光的变化传递出受体-金属离子作用的信息. 相似文献
33.
34.
利用室温下压电调制反射光(PzR)谱技术系统测量了N掺杂浓度为0.0%—3%的分子束外延生长GaNxAs1-x薄膜,并对图谱中所观察的光学跃迁进行了指认.在GaN0.005As0.995和GaN0.01As0.99薄膜的PzR谱中观察到此前只在椭圆偏振谱中才看到的N掺杂相关能态E1+Δ1+ΔN.当N掺杂浓度达到
关键词:
压电调制反射光谱(PzR)
xAs1-x薄膜')" href="#">GaNxAs1-x薄膜
分子束外延(MBE) 相似文献
35.
36.
Shougo Higashi 《Surface science》2006,600(3):591-597
We have studied the individual adsorption of Mn and Bi, and their coadsorption on Cu(0 0 1) by low-energy electron diffraction (LEED). For Mn, we have determined the c(2 × 2) structure formed at 300 K, whose structure had been determined by several methods. We reconfirmed by a tensor LEED analysis that it is a substitutional structure and that a previously reported large corrugation (0.30 Å) between substitutional Mn and remaining surface Cu atoms coincides perfectly with the present value. In the individual adsorption of Bi, we have found a c(4 × 2) structure, which is formed by cooling below ∼250 K a surface prepared by Bi deposition of ∼0.25 ML coverage at 300 K where streaky half-order LEED spots appear. The c(4 × 2) structure has been determined by the tensor LEED analysis at 130 K and it is a substitutional structure. In the coadsorption, we found a c(6 × 4) structure, which has been determined by the tensor LEED analysis. It is very similar to the previously determined structure of the c(6 × 4) formed by coadsorption of Mg and Bi, and embedded MnBi4 clusters are arranged in the top Cu layer instead of MgBi4. Large lateral displacements of Bi atoms in the c(6 × 4)-(Mn + Bi) suggest that the Mn atoms undergo the size-enhancement caused by their large magnetic moment. 相似文献
37.
The consequences of Ge deposition on Br-terminated Si(1 0 0) were studied with scanning tunneling microscopy at ambient temperature after annealing at 650 K. One monolayer of Br was sufficient to prevent the formation of Ge huts beyond the critical thickness of 3 ML. This is possible because Br acts as a surfactant whose presence lowered the diffusivity of Ge adatoms. Hindered mobility was manifest at low coverage through the formation of short Ge chains. Further deposition resulted in the extension and connection of the Ge chains and gave rise to the buildup of incomplete layers. The deposition of 7 ML of Ge resulted in a rough surface characterized by irregularly shaped clusters. A short 800 K anneal desorbed the Br and allowed Ge atoms to reorganize into the more energetically favorable “hut” structures produced by conventional Ge overlayer growth on Si(1 0 0). 相似文献
38.
Debendra K. Mohapatra Dhananjoy Mondal Mukund S. Chorghade Mukund K. Gurjar 《Tetrahedron letters》2006,47(52):9215-9219
The non-proteinogenic amino acid 3-hydroxy-4-methylproline (HMP) is an active constituent of some potent antimicrobials including echinocandins, nostopeptins, pneumocandins, sporiofungin and mulundocandins. A synthesis has been achieved in 10 steps with 29% overall yield; the Evans’ aldol reaction using Crimmins’ modified method was pivotal to the success of the strategy. 相似文献
39.
40.
Srinivasan G. 《物理学报》2006,55(5):2548-2552
讨论了Ni0.8Zn0.2Fe2O4 (NZFO)与锆钛酸铅(PZT)的双层膜结构样品的磁电(ME)效应.NZFO粉料由溶胶-凝胶法制成,再经900℃热压,并高温烧结.在该双层膜中测量到了很强的磁电相互作用.发现横向的磁电效应比纵向效应大一个数量级,并且随NZFO烧结温度的提高而增加.当烧结温度从950℃上升到1380℃时,横向ME电压系数(αE)的最大值变化范围为25.6 mV Am-2≤αE≤199.6 mV Am-2.理论分析显示NZFO-PZT双层膜样品中ME效应源于NZFO与PZT之间相对良好的磁电耦合.
关键词:
镍铁氧体
PZT
热压法
ME效应 相似文献