加筋圆柱曲板的侧压稳定性

本文对四边简支加筋圆柱曲板在侧向压力作用下的弹性稳定问题进行了计算。把加筋曲板作为各向异性曲板处理,考虑加筋位置偏心及筋条抗扭刚度的影响,在经典简支和直边顶住简支两种边界条件下,采甩线性理论。对有关参数进行分析,找出影响临界载荷的主要参数,给出便于使用的曲线。      

破甲过程初步分析及一些基础知识(续)

三、基本方程的推导上面介绍了材料的物态方程,包括静水压和体积变化、温度变化之间的关系以及应力偏量和弹塑性变形之间的关系。描写破甲过程,除了需要知道弹和板的材料的物态方程以外,最基本的方程还是三个守恒方程,即:质量守恒、动量守恒和能量守恒。      

破甲过程初步分析及一些基础知识

前言爆炸力学这门学科有一个中心课题,那就是研究材料或物体在高速冲击下的变形和运动。这个课题主要包括两方面内容:一是材料在高速冲击下的性能,例如高速、高压、高温下的材料的物态方程,破坏强度或塑性屈服强度以及应力同应变、应变率之间的关系;另一是材料或物体受爆炸作用或高速冲击后的变形和运动。前者属于材料基本性质的研究,后者则直接和实际问题相联系。当然,对两者的研究是不可分割的,是相辅相成的。      

晶体压杆传感器的动力特性

为了获得设计晶体压杆传感器的正确原则,本文对晶体压杆的动力性质进行了实验研究。研究的结果表明,就晶体与压杆的匹配问题而言,单纯考虑声阻抗匹配与否是不够的。为了取得正确的压力波形,就必须把晶体与压杆看作两个弹性振动系统,来研究它们的相互作用。根据这一分析,我们提出改善传感器性能的几种方法。经过实验,证明这些方法是有效的。      

氢化多孔石墨烯反渗透特性及机理分析

单层石墨烯凭借超薄的厚度和优异的力学化学防污性能,成为新一代纳滤膜材料的最佳选择之一.本文采用经典分子动力学方法,研究了氢化多孔石墨烯反渗透膜对盐水的反渗透特性.结果表明,水渗透量会随着驱动力、孔径和温度的增加而增加;而孔径大于水合半径的条件下,盐离子截留率会随驱动力和温度的增加而降低.当反渗透膜和盐水存在切向运动时,随着切向速度的增加可以有效提高盐离子截留率和减弱浓差极化现象,但也在一定程度上牺牲了水通量.通过分析水流沿渗透方向的能障分布、水分子的氢键分布和离子水合状态,解释了各参数变化对盐水在氢化多孔石墨烯中反渗透特性的影响机理.研究结果将提供基于单层多孔石墨烯反渗透特性的理论认识,并将为纳米级反渗透膜的设计提供帮助.     

庆祝唐有祺教授九十寿辰暨执教六十年

本期<物理化学学报>是庆祝中国科学院院士、北京大学化学与分子工程学院教授、<物理化学学报>主编唐有祺教授九十寿辰暨执教六十年的特刊.     

焦炭与CO2和水蒸气气化后孔隙结构和高温抗压强度研究

通过焦炭气化反应装置和高温抗压强度测定装置,研究了焦炭与CO₂和水蒸气气化后孔隙结构变化规律及溶损率、温度和孔隙结构对焦炭高温抗压强度的影响。结果表明,与CO₂气化相比,水蒸气气化后焦炭平均孔径较小,比表面积和100 μm以下气孔数量增加,且整体高温抗压强度更高。焦炭气化后高温抗压强度随溶损率增加而降低,随温度升高而降低。温度为1 200 ℃时,随溶损率增加压缩过程焦炭承受压缩功(WOC_u)逐渐降低,水蒸气气化后的WOC_u高于CO₂条件,随溶损率增加焦炭压缩过程形变量呈降低趋势。在相同溶损率下,水蒸气气化后焦炭的孔隙结构对焦炭强度损害相对较小,抗变形能力更强。     

热解压力和升温速率对焦结构和氧化反应性的影响

以锡盟褐煤（L）、西山烟煤（B）和玉米秸秆（C）为原料考察了热解压力和升温速率对焦结构及氧化反应性的影响。利用两段式加压固定床反应器,在终温900℃,升温速率5℃/min和200℃/min以及压力0.1-2.0 MPa的热解条件下分别得到了慢速热解焦（SC）和快速热解焦（FC）,对焦进行了比表面积、表面形貌和芳香度表征,并且采用等温热重法对焦的氧化反应性进行了分析。结果表明,热解压力和升温速率影响挥发分的停留时间和释放速率,进而影响焦的产率和性质。三种原料的热解行为不同,热解压力和升温速率对焦的产率及焦结构和反应性的影响表现出不同的特点。三种原料快速热解焦产率都低于慢速热解焦产率,且焦产率都随着压力的升高而略微上升。L-FC和B-FC的比表面积分别大于L-SC和B-SC的比表面积。C-FC的比表面积却小于C-SC的比表面积。FC的表面要比SC的表面更为粗糙。B-FC的芳香度小于B-SC的芳香度,但是在加压热解条件下L-SC和C-SC的芳香度反而分别比L-FC和C-FC的低。高压慢速热解的焦氧化反应性较差。玉米秸秆焦的氧化反应性与矿物质的催化密切相关。热解过程中升温速率和压力会影响玉米秸秆焦中矿物质的含量和分布,这也是玉米秸秆焦的氧化反应性明显高于煤焦的氧化反应性的主要原因。     

Structure Properties of MgxZn1-xO Films Deposited at Low Temperature

MgxZn1-xO films (x = 0.23) have been prepared on silicon substrates by radio-frequency magnetron sputtering at 80℃. The structure properties of Mgx Zn1-xO films are studied using x-ray diffraction (XRD), high-resolution transmission electron microscopy (HRTEM), x-ray photoelectron spectroscopy and Raman spectra. The analysis of XRD and HRTEM indicates that the Mgx Zn1-xO films have hexagonal wurtzite single-phase structures and a preferred orientation with the c axis perpendicular to the substrates. Raman spectra of ZnO and MgxZn1-xO films reveal that the MgxZn1-xO films have not only the hexagonal wurtzite structure but also higher crystalline quality than ZnO films.