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分析了双轴应变Si p型金属氧化物半导体场效应晶体管(PMOSFET)在γ射线辐照下载流子的微观输运过程,揭示了γ射线的作用机理及器件电学特性随辐照总剂量的演化规律,建立了总剂量辐照条件下的双轴应变Si PMOSFET阈值电压与跨导等电学特性模型,并对其进行了模拟仿真.由仿真结果可知,阈值电压的绝对值会随着辐照总剂量的积累而增加,辐照总剂量较低时阈值电压的变化与总剂量基本呈线性关系,高剂量时趋于饱和;辐照产生的陷阱电荷增加了沟道区载流子之间的碰撞概率,导致了沟道载流子迁移率的退化以及跨导的降低.在此基础上,进行实验验证,测试结果表明实验数据与仿真结果基本相符,为双轴应变Si PMOSFET辐照可靠性的研究和应变集成电路的应用与推广提供了理论依据和实践基础. 相似文献
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直接带隙Ge$lt;sub$gt;1-$lt;em$gt;x$lt;/em$gt;$lt;/sub$gt;Sn$lt;sub$gt;$lt;em$gt;x$lt;/em$gt;$lt;/sub$gt;本征载流子浓度研究 下载免费PDF全文
通过合金化改性技术, Ge可由间接带隙半导体转变为直接带隙半导体. 改性后的Ge半导体可同时应用于光子器件和电子器件, 极具发展潜力. 基于直接带隙Ge1-xSnx半导体合金8带Kronig-Penny模型, 重点研究了其导带有效状态密度、价带有效状态密度及本征载流子浓度, 旨在为直接带隙改性Ge半导体物理的理解及相关器件的研究设计提供有价值的参考. 研究结果表明: 直接带隙Ge1-xSnx合金导带有效状态密度随着Sn组分x的增加而明显减小, 价带有效状态密度几乎不随Sn组分变化. 与体Ge半导体相比, 直接带隙Ge1-xSnx合金导带有效状态密度、价带有效状态密度分别低两个和一个数量级; 直接带隙Ge1-xSnx合金本征载流子浓度随着Sn组分的增加而增加, 比体Ge半导体高一个数量级以上.
关键词:
1-xSnx')" href="#">Ge1-xSnx
直接带隙
本征载流子浓度 相似文献
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设L=S(m;n)是定义在特征P>3的代数闭合域F上的阶化特殊型李代数,利用已研究L的不可约表示的方法,通过定义L的如下阶化:限制情形定义L=(田)q≥-1 L[q],I,非限制情形定义(L)=(田)q≥-1 (L)[q],I,这里是L的本原P-包络,有表达式(L)=(田)mΣi=1 ni-1Σdi=1 FDpidi,而I是{1,2,…,m)的子集,得到当P-特征标x是正则半单时,在限制李代数情形所有不可约Ux(L)-模都是从不可约Ux(L[0],I)-模诱导的;在非限制的情形,所有不可约U(x)(L),(Upx(L,x))-模都是从不可约L(x)_(L[0],I)-模诱导的,这里(x)是x到(L)*上的平凡扩张. 相似文献
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SubalgebrasGeneratedbyallAdjointp-nilpotentElementsandTheirNormalizersinGradedLieAlgebrasofCartanTypeShuBin(舒斌)(InstituteofAp... 相似文献
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Cartan型李代数的自同构群 总被引:2,自引:0,他引:2
舒斌 《数学年刊A辑(中文版)》1999,(1)
本文证明了素特征域 F上广义 Cartan型李代数的自同构群都是 AutW(m,n)的子群.文中对于除幂代数相应的可容许自同构给出了刻划,从而对广义 Cartan型李代数的自同构给出了刻划 相似文献
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