首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   14篇
  免费   8篇
  国内免费   2篇
化学   1篇
物理学   23篇
  2014年   1篇
  2009年   1篇
  2008年   1篇
  2007年   4篇
  2006年   4篇
  2005年   9篇
  2004年   2篇
  2003年   2篇
排序方式: 共有24条查询结果,搜索用时 7 毫秒
21.
A broad angular response supermirror is designed by the simplex optimization method and fabricated by de magnetron sputtering. The negative effect of the interracial imperfection, mainly consulting from interface roughness and diffusion, is emerged in the calculation of the precise performance of the supermirror. The refleetvity of such a supermirror is measured by the x-ray diffraction instrument (XRD) at Cu Kα line (λ=0.154nm). The experimental refleetivity is about 30% in a fixed broad grazing incident angular range (0.55°-0.85°). The fitting data prove that the thickness of each layer, which is larger than the prospect 0.5 nm, is different from the designed one and the roughness in the supermirror is about 0.85 nm.  相似文献   
22.
Investigation of ultra-short-period W/C multilayers for soft X-ray optics   总被引:2,自引:0,他引:2  
The periodic multilayer has many interesting and useful mechanical, electrical, magnetic, and optical properties, which are related to either the coherent effect of mod- ulation or the structure of thin films. The periodic multilayer mirrors are used for enhancing reflectivity in the wavelength range of 0.1—10 nm from grazing to normal incidence. Therefore, the multilayer reflectors have been used successfully in a range of applications, including extreme ultraviolet (EUV) lithography[1], so…  相似文献   
23.
利用自行研制的同步辐射软X射线多层膜综合偏振测量装置, 对北京同步辐射装置(BSRF)的3W1B软X射线光束线的偏振特性进行了系统的研究. 给出了多层膜偏振元件起偏前后的测量结果, 测量能量为206eV时, 经反射镜、光栅等光束线光学元件后输出的线偏振度(起偏前)为0.585, 经多层膜偏振元件起偏后输出光的 线偏振度达到0.995.  相似文献   
24.
50~11O nm波段高反射率多层膜的设计与制备   总被引:1,自引:3,他引:1  
阐述了50~110 nm强吸收波段亚四分之一波长多层膜的设计方法.这种膜系是由强吸收材料叠加而成,每层膜光学厚度小于四分之一个波长.与常规周期多层膜相比,这种膜系更适用于提高强吸收波段的反射率.利用该方法设计了50 nm处高反射多层膜,并以此为初始条件通过Levenberg-Marquart优化方法完成了50~110 nm强吸收波段宽带高反射率Si/W/Co多层膜的设计,其平均反射率达到45%.采用直流磁控溅射方法制备了Si/W/Co多层膜,用X射线衍射仪(XRD)对膜层结构进行了测试,测试结果表明制作出的多层膜结构与设计结构基本相符.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号