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101.
一类椭圆型变分不等式离散问题的迭代算法 总被引:10,自引:1,他引:9
根据一类椭圆型变分不等式离散问题所具有的非线性特征,提出了一种简明快速的迭代算法,该方法在解决障碍问题及流体润滑油膜破裂自然边值问题等工程应用问题时具有较高的效率。 相似文献
102.
田兴 《新疆大学学报(理工版)》1991,8(1):53-55
本文分析计算了荧光光纤温度传感器的温敏元件——GsAlAs/GaAs双异质结半导体材料的荧光辐射效率与激励光波长的关系。讨论了温度测量范围及温敏元件GaAlAs层铝含量对激励光源的限制,在0~200℃测温范围内,若采用LED作激励光源,其峰值波长应在0.70~0.76μm之间选择。 相似文献
103.
104.
105.
研究了HfN/HfO2高K栅结构p型金属-氧化物-半导体(MOS)晶体管(MOSFET)中,负 偏置-温度应力引起的阈值电压不稳定性(NBTI)特征.HfN/HfO2高K栅结构的等效 氧化层厚度(EOT)为1.3nm,内含原生缺陷密度较低.研究表明,由于所制备的HfN/HfO2 高K栅结构具有低的原生缺陷密度,因此在p-MOSFET器件中观察到的NBTI属HfN/HfO2高K栅结构的本征特征,而非工艺缺陷引起的;进一步研究表明,该HfN/HfO2高K栅结构中观察到的NBTI与传统的SiO2基栅介质p-MOSFET器件中观察 到的NBTI具有类似的特征,可以被所谓的反应-扩散(R-D)模型表征: HfN/HfO2 栅结构p-MOSFET器件的NBTI效应的起源可以归为衬底注入空穴诱导的界面反应机理,即在负 偏置和温度应力作用下,从Si衬底注入的空穴诱导了Si衬底界面Si-H键断裂这一化学反应的 发生,并由此产生了Si+陷阱在Si衬底界面的积累和H原子在介质层内部的扩散 ,这种Si+陷阱的界面积累和H原子的扩散导致了器件NBTI效应的发生.
关键词:
高K栅介质
负偏置-温度不稳定性(NBTI)
反应-扩散(R-D)模型 相似文献
106.
107.
从考虑驱动和粘性条件下水平矩形槽内流体服从的非线性Schrodinger方程及其孤立子解出发,得到了驱动地孤立子所做的功及孤立子总机械能的表达式,进而证明了文献(8)中提及的λ=+1型孤立子是存在的,而λ=-1型孤立子并地对应的物理实在。 相似文献
108.
本文报道了BR水溶性Raman光谱的温度相关性及吸收光谱变化。讨论了导致光谱变化的热诱导引起的结构变化。 相似文献
109.
110.
后处理温度对ZrO2气凝胶超细粉织构和结构的影响 总被引:5,自引:0,他引:5
运用神效儿宝治疗小儿厌食症210例,总有效率为95.2%,显效率为62.4%。该药使用、携带方便、见效快,疗效短,无毒副作用。实验证明,该药能显著提高胃蛋白酶含量,减慢肠管推进性运动,提高动物耐疲劳、耐缺氧能力,提高巨噬细胞吞噬率及血清补C3含量,且无毒副。作用 相似文献