消除数字光刻像素栅格衍射影响的研究

提出用优化成像系统设计参量的方法有效消除基于数字微镜阵列的栅格结构及其衍射对微结构成像质量的影响.模拟结果表明,当照明光源的波长为0.365 μm,系统的数值孔径为0.3左右,缩小倍率为10～20×时,栅格像的可见度在0.1以下,DMD的栅格结构对成像质量的影响大幅降低;对微透镜的成像分析发现,合理的成像系统结构参量能有效地减少栅格的影响.如果结合DMD显示图形的可编程特点,优化图形的结构或灰度,则能在像面获得较理想的曝光量分布,达到快速加工二维和三维微结构的目的.实验结果证实了优化系统参量可有效消除DMD栅格的影响.     

大量铜存在时镍的比色测定

本文报告用丁二肟法比色测定镍时,用EDTA作为铜的隐蔽剂的可能性。找出:(1)若在加丁二肟前加EDTA,则镍及铜均不能形成丁二肟络合物。(2)若在先加丁二肟再加EDTA,则丁二肟镍不变,而相应的铜络合物破坏(在强硷性溶液中破坏不完全)。文中叙述在大量铜存在时少量镍的测定法。当铜量不超过镍一千倍时,可得准确的结果。钴、锰以及大量的铬、钒及银干扰。     

氢化物法-原子光谱分析的进展

利用砷化氢的发生以测定砷约在100年前就在分析化学中得到应用。1969年Holak首先将砷化氢导入氩氢焰中,并以原子吸收法测定,巧妙地将这个古老的方法与现代化的原子光谱法结合起来。1972年Braman用硼氢化钠作还原剂,在酸性溶液中产生砷及锑的氢化物,并用氩气带入放电管中激发以发射光谱法测定。硼氢化钠的引入使得氢化物法可以测定的元素扩大到砷、锑、铋、锡、硒、碲、铅、锗等八个元素,由于这些元素在采用常规的原子光谱     

温敏性水杨酸分子印迹水凝胶的合成与性能研究

以水杨酸为模板分子,丙烯酰胺为功能单体,N-异丙基丙烯酰胺为温敏单体,乙二醇二甲基丙烯酸酯为交联剂,偶氮二异丁腈为引发剂,采用本体聚合法,60℃热聚合制备了温度敏感的分子印迹(MIP)水凝胶,其最低临界溶解温度(LCST)在40℃左右.该分子印迹水凝胶对水杨酸显示了高的选择识别性,非分子印迹水凝胶则表现出低的选择性.温敏性分子印迹水凝胶的吸附容量达6.35 mg/g,是非印迹水凝胶的3.66倍.相对于未添加温敏单体的分子印迹聚合物,温敏性水杨酸分子印迹水凝胶对目标分子的吸附和洗脱效率分别提高33.3％和50％,并实现了温度响应的水凝胶结合、释放水杨酸的功能.     

一种新型脉冲进样装置的研究及其在火焰原子吸收光谱中的应用

本文设计了一种双脉冲微量进样装置。本装置与氢化物法相结合并应用于微量样品的分析。本装置不仅结构简单、操作方便,同时又具备各种单脉冲进样装置所不具备的优点。     

氢化物原子荧光光谱中高浓度镍对硒测定的影响及其消除

研究了高浓度镍对硒测定的影响，探讨了干扰的原因。找出了一系列抗干扰的试剂，这些试剂包括磷酸、柠檬酸、甲酸、酒石酸、草酸等。镍的允许量可高达５００００ｍｇ／Ｌ。文中对有关的机理作了初步的探讨。在此基础上制定了用氢化物－原子荧光光谱法直接测定金属镍中硒的方法。测定了电解镍、氧化镍中的硒，结果满意。方法的检测限为：Ｓｅ＝５．０ｎｇ／ｇ（１ｇ试样３σ，ｎ＝１１）。本文的研究成果也可适用于其它氢化物－原子光     

表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)

表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.     

从碱性溶液中发生氢化物的原子荧光／原子吸收光谱法测定Te~（4＋）及Te~（6＋）

在０．３ｍｏｌ／ＬＮａＯＨ介质中，Ｔｅ（Ⅵ）和Ｔｅ（Ⅳ）都可与ＫＢＨ４作用，生成氢化物。在酸性介质中，只有Ｔｅ（Ⅳ）与ＫＢＨ４反应生成氢化物。利用这个事实测定不同价态碲的含量，方法快速、正确。用原子荧光法测定的检出限（３σ）为０．１ｎｇ／ｍｌ。可用于水样中不同价态碲的分析。