有机-无机复合ZrO2-SiO2平面光波导

采用溶胶-凝胶法合成ZrO2-SiO2有机一无机复合光波导材料,通过改变其中ZrO2的含量来调节材料的折射率,使材料分别适用于平面光波导的导光层(ng≈1．497)和衬底层、包层(mb=nc≈1．479)。采用旋转涂膜工艺和相应的热处理,在单晶硅基片上制备衬底层、导光层和包层等薄膜,其中导光层介质因具有感光性而可通过紫外光刻来制备光路图案。所得有机一无机复合ZrO2-SiO2板型平面光波导(衬底层 导光层),用棱镜耦合截断法测试其光损耗在632．8nm波长处约为0．8dB／cm。对板型平面波导的导光层薄膜进行紫外光刻和异丙醇淋洗,制备出脊状光波导通道,在覆盖包层后,即获得埋层沟道式平面光波导。采用端耦合截断法测试了埋层沟道式平面光波导的光损耗(小于0．1dB／cm),并观察了其近场图像以及导光材料在近红外窗口的吸收光谱。     

PMNT热释电陶瓷材料的制备及性能研究

用软化学法合成了驰豫型复合钙钛矿结构铁电PMNT粉体,并将制备好的粉体压制成圆片状后放入硅碳棒炉中,于1150℃下烧结成致密热释电陶瓷材料．然后用x射线粉末衍射对合成材料进行物相分析,并用扫描电镜观察了晶粒形貌特征．结果表明：烧结后的陶瓷具有很好的致密性和热释电性,其中,0．67PMN．0．33PT组分热释电陶瓷的热释电系数为4．5×10^-4C·m^-2．K^-1,探测优值Fd为3．9×10^-5Pa^-1/2。     

基于CorelDRAW与Origin联合应用的制图方法研究

实验结果的图形表达是现代科技交流的主要手段之一. 为使所绘制图形能符合科技期刊规范化出版要求, 探讨了联合应用CorelDRAW和Origin的制图方法. 根据相关图形的特点, 运用Origin软件的数据处理和图形输出功能, 结合CorelDRAW软件的矢量化特点以及某些特性功能, 方便快捷地绘制出符合规范的期刊插图, 并通过实例证明了这是一种简易的制图方法, 可有效地提高期刊的出版质量和效率.     

Fe:LiNbO3单晶的坩埚下降法生长及其成分不均匀性研究

本文报道了用坩埚下降法生长Fe:LiNbO3晶体的新工艺.通过选择合适的原料配比、控制固液界面的温度梯度为20～40℃/cm及晶体生长速度0.8～1.5mm/h,生长出掺杂0.04mol;Fe2O3的无宏观缺陷LiNbO3单晶.XRD图谱和DTA曲线用来表征所得晶体,并且测定了从晶体下部到上部的紫外可见吸收光谱.结果表明:沿生长方向,晶胞参数a、c增大,熔点降低,晶体中的Fe2+浓度呈增加趋势,作者分析了造成成分不均匀分布的原因.     

含有氨基的有机—无机复合材料合成

报道了以r 氨基丙基三乙氧基硅烷 ( 3 aminopropyltriethoxysilane ,NH2 (CH2 ) 3Si(OC2 H5) 3,KH550 ) ,r 氨基丙基二乙氧基甲基硅烷 ( 3 (diethoxymethylsily)propylamine,NH2 (CH2 ) 3Si(OC2 H5) 2 CH3,KH551 )及r 缩水甘油醚基三甲氧基硅烷 ( 3 glycidyloxypropytrimethoxysilane,H2 COCHCH2 O(OCH3) 3·Si(OCH3) 3,KH560 )为先驱体原料 ,经水解和聚合反应后 ,合成了具有一定弹性的有机 无机复合材料 .红外光谱表征了复合材料的结构特征 ;DTA/TG曲线表明 ,在 2 0 0℃以下 ,复合材料保持了很好的热稳定性 ;KH560 KH580 ,KH560 KH551复合材料的弹性模量约在 3 70～ 470MPa之间 .     

不同掺杂浓度Tm3+∶LiLuF4单晶的1800 nm荧光发射

采用坩埚下降法生长了Tm3+掺杂浓度为0.45％,0.90％,1.63％与3.25％(摩尔分数,x)的LiLuF4单晶.测试了样品的电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)、X射线衍射(XRD)谱、吸收光谱(1400-2000 nm),并且分析比较了808 nm半导体激光器(LD)激发下荧光光谱.结果表明:当Tm3+的浓度从0.45％变化到3.25％时,1800 nm处的荧光强度呈现了先增后减的趋势,当掺杂浓度约为0.90％时达到最大值,而位于1470 nm处的荧光强度则呈现了相反的趋势.Tm3+∶3F4能级的荧光衰减寿命随着掺杂浓度的增加不断减小.1800 nm处的这种荧光强度变化归结于Tm3+离子间的交叉驰豫效应(3H6,3H4→3F4,3F4)和自身的浓度猝灭效应.同时计算得到了浓度为0.90％的样品在1890 nm处的最大发射截面为0.392x 10-20 cm2.并且根据Judd-Ofelt理论所得寿命和测定的荧光寿命计算得到了3F→3H6的最大量子效率约为120％.     

Ho3+/Yb3+→α-NaYF4单晶的上转换荧光光谱特性

以KF作为助熔剂,采用固液界面温度梯度(70～90 oC/cm),通过改进的助熔剂-坩埚下降法从NaF-YF₃熔体系统中生长出了Ho³⁺/Yb³⁺离子双掺杂的α-NaYF₄单晶体. 在980 nm激光泵浦下可以观察到544 nm的上转换绿光和657和751 nm的上转换红光. 上转换的绿光强度明显强于上转换红光. 通过测量泵浦功率和上转换光的强度之间的关系研究了上转换发光的机理. 当Ho³⁺的掺杂浓度保持为1.0 mol%的情况下,Yb³⁺的浓度为8.08 mol%时上转换强度最强.     

Eu3+掺杂Bi2O3-TeO2-B2O3-ZnO玻璃光谱性质

测量了Eu3+（1 mol%）掺杂(60-χ)Bi2O3-χ TeO2-30B2O3-10ZnO（χ＝5,10,20,30，摩尔百分比）玻璃的吸收光谱、发射光谱、激发光谱以及声子边带谱.根据稀土离子Eu3+光学跃起矩阵元的特点，从发射光谱获得了Eu3+光学跃起的J-O参数Ω2与Ω4.结果显示,强度参量Ω2随着Bi2O3量的增加与TeO2量的减少而减小，表明材料的对称性提高， Eu-O键强减弱，共价性减弱.随着Bi2O3量的增加，电－声子偶合减弱,材料的热稳定性大幅度提高.     

基于信号约束块的水轮机调速器的PID优化

PID控制是应用比较普遍的控制方式之一，但在控制要求以及控制对象变化的情况下，其传统的参数整定方法难以满足系统调节品质的要求．针对使用PID控制的水轮机调节系统以及基于MATLAB7中的Simulink响应优化工具，讨论了水轮机调速系统在具有参数不确定性的情况下，如何调整PID的3个参数以满足给定的性能指标要求．仿真结果表明：使用信号约束模块可快速和有效地完成PID控制器参数优化任务，不仅使系统响应满足性能指标要求，而且还有较强的抗干扰能力和鲁棒性，具有一定的参考使用价值．     

Preparation and optical spectroscopy of phosphate glasses containing divalent europium ions

P2O5.BaO.Na2O.K2O glasses doped with various content of Eu2O3 were prepared using high temperature melting method, and the Eu2+ ions in the phosphate glasses were obtained with the aid of the reductive action of silicon powder. The fabricating conditions, fluorescence, excitation spectra of the glasses were then studied. The glasses containing europium show a broad emission band at 450 nm and sharp bands from 580 to 650 nm, and the co-existence of Eu2+ and Eu3+ is identified. Also, a good glass with a dominant proportion and large quantity of Eu2+ ions can be obtained by the reductive action of silicon powder and proper processing.