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光学光刻是目前超大规模集成电路(VLSI)制备中主要的微米和亚微米的图形加工技术,这一技术将继续保持其主导地位成为90年代VLSI发展的关键。本文综述了近年来光学光刻工艺的发展,主要介绍了G线(436nm)、Ⅰ线(365nm)和准分子激光光刻的现状,并对实现高的光学光刻分辨率所必须解决的透镜设计、套准精度和像场面积等问题作了详细描述。最后展望了发展方向、 相似文献
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在数学教学过程中 ,如何切实做到以学生发展为本 ,充分发挥学生的主体作用 ,下面教学片断或许能给我们提供一些启示 .1 案例 :立体几何在实践中的应用1 1 导入教师 :我们已经学习了研究空间线线、线面及面面这些位置关系的判定定理、性质定理等基本知识和解决问题的基本方法 ,今天将继续探讨 ,如何将这些知识和方法应用到实践中去 ,解决一些实际问题 .教师 :出示问题 :如图四面体木块PABC中 ,M是面PAB内的一点 ,木工要过点M画一条直线与PC垂直 ,应当如何画 ?(选自上海教育出版社《高中数学科教学基本要求与训练》P1 37题 6) … 相似文献
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以前在贫化铀/聚乙烯/铁组合球装置上进行的高能中子消失法的检验,存在的问题在于贫化铀内腔太小,距离的微小误差就会对实验结果产生很大影响,实验重复性差。因此用同样是中子增殖材料的铍代替贫化铀作补充实验。这样,一则可以减小因为距离的偏差对实验的影响;二则可能对^197Au(n,γ)、^198Au反应的影响再做研究。用铍/聚乙烯/铁组合球装置,在ns-200加速器上照射,用HPGe探测器测量.Au,Al,Nb高阈能指示剂的活化γ射线,确定它们在装置中的反应燃耗,以此检验高能中子消失法。 相似文献
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The measure of uncertainty is adopted as a measure of information. The measures of fuzziness are known as fuzzy information measures. The measure of a quantity of fuzzy information gained from a fuzzy set or fuzzy system is known as fuzzy entropy. Fuzzy entropy has been focused and studied by many researchers in various fields. In this paper, firstly, the axiomatic definition of fuzzy entropy is discussed. Then, neural networks model of fuzzy entropy is proposed, based on the computing capability of neural networks. In the end, two examples are discussed to show the efficiency of the model. 相似文献
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为了满足“神光”-Ⅲ装置对大批量大口径光学元件的需求,解决加工精度以及加工效率等方面的问题,对计算机控制光学表面成型技术(CCOS)进行了多方面的研究。在对平面数控软件进行了深入的研究工作后,结合高精度干涉检测手段,对数控工艺软件进行了大幅的改进。 相似文献
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要对聚能和流场的剧烈变化进行模拟,欧拉方法具有明显的优势。而在这些方面的研究中,所涉及的流场十分复杂,为达到所需的计算精度,必须采用很密的网格才能以较好的分辨率去模拟流场的剧烈变化部分和介质的界面,特别是大空间尺度流场局部细节的数值模拟,有些问题如果用统一网格计算,即使最快的计算机也不能提供足够的分辨率。所以目前计算机的内存和速度限制了整个计算区域的网格细分程度,对计算区域作局部的网格自适应细分、用大的动态空间分辨率划分流场是必要的和迫切的。 相似文献
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