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121.
为研究空间高能粒子位移损伤效应引起的星用CMOS图像传感器性能退化,对国产CMOS有源像素传感器进行了中子辐照试验,当辐射注量达到预定注量点时,采用离线的测试方法,定量测试了器件的暗信号、暗信号非均匀性、饱和输出电压、像素单元输出电压等参数的变化规律。通过对CMOS图像传感器敏感参数退化规律及其与器件工艺、结构的相关性进行分析,并根据半导体器件辐射效应理论,深入研究了器件参数退化机理。试验结果表明,暗信号和暗信号非均匀性随着中子辐照注量的增大而显著增大,饱和输出电压基本保持不变。暗信号的退化是因为位移效应在体硅内引入大量体缺陷增加了耗尽区内热载流子产生率,暗信号非均匀性的退化主要来自于器件受中子辐照后在像素与像素之间产生了大量非均匀性的体缺陷能级。另外,还在样品芯片上引出了独立的像素单元测试管脚,测试了不同积分时间下像素单元输出信号。 相似文献
122.
以客户关系为导向的服务经济时代,客户细分是企业判断具有相似特征的客户,并以此为基础有针对性的提供产品及服务的最为有效的手段.利用数据挖掘技术,将模糊聚类算法应用于客户细分中,以此寻找具有相似特征及价值的客户,并在电信行业中进行实证应用. 相似文献
123.
采用一种新的计算方法对非正方形像素进行度量换算,进而确定二值图像图形的真实面积.度量换算采用3个已知直径的实心圆形样本.先在水平和垂直方向上获取毫米/单位像素换算系数,然后将该系数分别对图形所覆盖的非正方形像素在水平和垂直方向上进行标准公制长度换算.通过求得图形的像素个数总和进而计算图形的真实面积.利用最小平方曲线拟合的方法对计算面积进行进一步的修正优化.用新方法算出的图形面积与相应的真实面积比较,结果显示该方法具有较满意的精确性,可以在解决有关图像分析处理的具体实际问题中得到应用. 相似文献
124.
125.
126.
127.
提出用优化成像系统设计参量的方法有效消除基于数字微镜阵列的栅格结构及其衍射对微结构成像质量的影响.模拟结果表明,当照明光源的波长为0.365 μm,系统的数值孔径为0.3左右,缩小倍率为10~20×时,栅格像的可见度在0.1以下,DMD的栅格结构对成像质量的影响大幅降低;对微透镜的成像分析发现,合理的成像系统结构参量能有效地减少栅格的影响.如果结合DMD显示图形的可编程特点,优化图形的结构或灰度,则能在像面获得较理想的曝光量分布,达到快速加工二维和三维微结构的目的.实验结果证实了优化系统参量可有效消除DMD栅格的影响. 相似文献
128.
129.
130.
一种快速高精度激光CCD自准直仪圆目标中心的定位方法 总被引:7,自引:0,他引:7
为满足高精度测量和瞄准跟踪系统中对激光CCD自准直仪的测量精度和实时性的要求,提出一种快速高精度激光CCD自准直仪圆目标中心的定位方法。首先利用变结构元广义形态学边缘检测算法,充分提取图像边缘细节信息的同时抑制图像噪声的影响,然后采用多项式插值算法对圆目标轮廓进行快速亚像素定位,最后利用最小二乘拟合方法实现了圆目标中心的精确定位。实验结果表明,该定位方法稳定性好,定位精度高且实时性强,应用该方法改进后激光CCD自准直仪的测量精度由2″提高到±0.25″,且单次测量时间小于0.23s,可满足激光CCD自准直仪在小角度测量和瞄准跟踪等领域的高精度实时测量需求。 相似文献