基于偏差的不确定型多属性决策的综合集成方法

对不确定型条件下的多属性决策问题,规范化后的区间数能消除属性值之间量纲的差异,建立了相离度偏差、中间值偏差和理想方案偏差计算公式,构建了以总偏差平方和为目标函数的综合集成优化模型,求解出各属性的客观权重,提出了一种客观属性权重的可能度法,为不确定型多属性决策提供了一种简单实用的可靠方法.最后通过一个算例说明了该方法的实用性和有效性.     

不均匀磁化薄膜中静磁波对导波光的Bragg衍射

研究了横向不均匀偏置磁场作用下掺Bi的YIG薄膜中微波静磁波的激发和传播特性；采用变分方法计算了静磁正向体波的色散关系和交变磁化强度，分析了不均匀场对静磁波－导波光耦合的影响理论计算得到的衍射效率曲线与实验结果基本一致，表明适当不均匀场可以大大提高磁光Bragg器件的衍射性能.     

拉长截面等离子体垂直位移不稳定性及其动力稳定

本文研究了拉长截面Tokamak上等离子体的垂直位移不稳定性。计算表明,其快速振荡部分由周围导体中感生的涡流稳定;其慢速漂移部分则需由主动稳定系统予以控制。本文提出一种动力稳定的方法。它在物理上是可行的,并具有技术上简单、较低的功率要求及有利的频率效应等优点。这些说明,这种动力控制方法是一种有吸引力的控制垂直位移不稳定性的手段。     

不倒翁的力学分析

从力学上对不倒翁进行了分析，得出了对其配重位置的限定条件及其微振动的周期公式。     

鲁棒稳定性分析的值映射与参数化方法

本文运用值映射与参数化的方法研究了鲁棒D稳定性问题。文中给出了主要结果——参数空间鲁棒分析的边界定理,作为该结果的应用,一些现代鲁棒分析的知名结果,例如多项式族的稜边定理,Kharitonov定理和菱形定理都被简洁地证明出来;给出了一种判定双参数多项式族D稳定的新方法。用该方法可以方便地确定H稳定多项式按一定摄动模式(区间方式和菱形方形)的最大摄动界。     

光刻机硅片表面不平度原位检测技术

随着光刻特征尺寸的不断减小,硅片表面不平度对光刻性能的影响越来越显著.该文提出了一种新的硅片表面不平度的原位检测技术本文在分析特殊测试标记成像规律的基础上,讨论了测试标记的对准位置偏移量与硅片表面起伏高度的变化规律,提出了一种新的硅片表面不平度原位检测技术.实验表明,该技术可实现硅片表面不平度及硅片表面形貌的高准确度原位测量.该技术考虑了光刻机承片台吸附力的非均匀性对硅片表面不平度的影响,更真实反映曝光工作状态下的硅片表面不平度大小.与现有的原位检测方法相比,硅片表面不平度的测量空间分辨率提高了1.67%倍,可实现硅片表面形貌的原位检测.     

市场竞争与国有企业所有权安排

改进了张维迎对地区间竞争与国有企业民营化的分析,给出了经营者的剩余索取份额对竞争性的连续依赖关系:国有企业若要降低成本,就必须参与市场竞争,随着市场竞争的加强,国有企业经营者的剩余索取份额应该逐渐增大,而当市场竞争水平超过某一阈值,国有企业经营者拥有全部剩余索取权是最优的.     

β分式α稳定过程的1/H变差

本文主要讨论了β分式α稳定过程的1/H变差,这对关于β分式α稳定过程的随机分析是非常重要的.     

替代法测量微安表内阻的不确定度分析

在测量微安表内阻的众多方法中,替代法是最简单的方法。本文全面分析了影响测量结果不确定度的因素,求出了实验测量的最佳条件,计算了普通仪器组合下测量结果的相对不确定度。     

Theoretical Study of the Opacity for Mixture Materials at High Temperatures

Using a detailed configuration accounting model with term structures treated by the umresolved transition array model,we have extensively investigated the opacitiesof mixture materials.For plasmas at the temperature of 250 eV and density of 1 g/cm^3,our calculated Rosseland mean opacities are in good agreement with other theoretical results.A high increase in the Rosseland mean opacity to 2944cm^2/g is achieved for a multi-element mixture compared to the value of 1729cm^2/g for pure gold.Various mixtures at other plasma conditions are also studied.