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孙开良  邱昆  武保剑 《光子学报》2006,35(5):664-666
研究了横向不均匀偏置磁场作用下掺Bi的YIG薄膜中微波静磁波的激发和传播特性；采用变分方法计算了静磁正向体波的色散关系和交变磁化强度，分析了不均匀场对静磁波－导波光耦合的影响理论计算得到的衍射效率曲线与实验结果基本一致，表明适当不均匀场可以大大提高磁光Bragg器件的衍射性能.  相似文献   
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