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791.
敏化中心的形成是Ag2S的聚集过程, 一般包括两步[1]. 在第一步中, 增感剂中的硫离子与银离子在AgX晶体表面生成Ag2S分子, 然后, 多个Ag2S分子接合(coalescence)形成敏化中心. 相似文献
792.
室温离子液体介质中尺寸、结构可控Ni纳米微粒的制备及结构表征 总被引:27,自引:0,他引:27
分别以室温离子液体1-丁基-3-甲基-咪唑四氟硼酸盐和1-己基-3-甲基.咪唑四氟硼酸盐为介质,采用有机化合物热分解的方法制备了尺寸和结构均可控的金属Ni纳米微粒.采用X射线衍射仪、透射电子显微镜和傅立叶红外光谱仪对所制备的样品进行了结构表征.X射线衍射结果表明:以1-丁基-3-甲基-咪唑四氟硼酸盐为介质制备的Ni纳米微粒具有立方相结构,而以1-己基-3-甲基-咪唑四氟硼酸盐为介质制备的Ni纳米微粒具有六方相结构.透射电子显微镜结果表明:随着反应原料浓度的不同所制备的纳米微粒具有不同的粒径.傅立叶红外光谱表明:离子液体不但作为反应的介质而且作为修饰剂修饰在了Ni纳米微粒的表面,从而有效地阻止了Ni纳米微粒的团聚和氧化。 相似文献
793.
在海轮运输及样品的制备过程中,进口硫化铜精矿氧化的现象普遍存在,使得货物的重量和铜品位发生变化,但该种现象的机理研究不多。针对硫化铜精矿的物相进行分析,并对硫化铜精矿的氧化机理进行研究。首先,利用显微镜、扫描电子显微镜、X射线荧光光谱(XRF)、X射线衍射(XRD)等方法对两个硫化铜精矿进行物相分析,并对其中的主要元素和含铜主要物相进行定量化学分析。再次,利用热重分析(TGA)研究这两个硫化铜精矿发生氧化反应的温度,结果表明在400℃时铜精矿样品重量开始增加,在约650℃重量达到顶峰,随后重量开始下降。最后,分别在400、650和900℃对两个铜精矿样品进行灼烧,并利用XRF和XRD方法进行测定,从而研究铜精矿的氧化机理,结果表明在400℃时,出现了铁的氧化物和铜的硫氧化物,说明黄铜矿和黄铁矿开始氧化,但还没有完全氧化,在650℃时,化合物中的氧含量继续增加,硫含量逐步减少,在900℃时,铜和铁的化合物只剩氧化物,硫已全部被氧化。结果表明,硫化铜精矿中的铜、铁等元素在温度和时间的作用下逐步氧化,硫氧化物的产生为中间态,氧化物的产生为最终态。实验解释了进口硫化铜精矿氧化的原理,有助于贸易双方减少分歧,有助于海关技术中心更规范地制备样品,降低数据误差。 相似文献
794.
王馨楠 《分析测试技术与仪器》2023,(4):400-406
纳米粉末材料是化学化工领域常见的样品,在其扫描电子显微镜表征中,通常会遇到以下几个问题:二次电子产率低,粉末聚集结块从而导致无法观察纳米形貌,以及荷电效应等.以二氧化硅小球粉末、ZSM-5分子筛纳米片以及聚苯乙烯小球粉末为研究对象,在不镀金属膜的前提下,分别采用粉末直接涂抹在导电碳胶或银胶上和溶液分散后滴涂在不同基底上的方法进行样品制备,比较了直接涂抹和分散后滴涂在基底上两种方法对扫描电子显微镜成像的影响.结果表明,样品经过溶液分散能够有效的减小粉末的团聚,其中,滴涂在硅片基底上可以减小荷电效应和背景影响,清晰观察到粉末的纳米级形貌. 相似文献
795.
低能Ti+注入植物种子深度-浓度分布的初步研究 总被引:2,自引:0,他引:2
报导了用扫描电子显微镜-能量色散X射线谱仪(SEM-EDS)测量了能量为20keV的Ti^ 注入干棉花和花生种子的深度-浓度分布。测量结果表明:该分布是带有长尾巴的非对称高斯分布,对于棉花和花生种子。Ti^ 的最大穿透深度分别达到21μm和36μm。最后讨论了低能离子注入使植物种子后代发生变异的机理. 相似文献
796.
通过扫描电子显微镜及其附带的X射线能谱仪对镀锌钢板表面出现腐蚀锈斑、耐腐蚀性能不合格的原因进行了分析.结果表明:镀锌钢板通过热镀工艺生产出来后,未给予足够的镀后防护,同时长时间露在腐蚀性环境中,受到腐蚀产生了白锈甚至红锈,最终导致其耐腐蚀性能不合格,通过一些改进措施可有效的解决质量问题. 相似文献
797.
在SiO2/Si衬底上面,利用射频磁控溅射方法,在不同的工艺条件下生长ZnO薄膜,然后进行热处理(600~1000℃退火).研究了氩氧比和退火温度对薄膜结晶性能的影响.薄膜的表面结构和晶体特性通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)来进行表征.结果表明:所制备的薄膜为多晶纤锌矿结构,具有垂直于衬底的c轴(002)方向的择优取向性.热处理可使ZnO(002)衍射峰相对强度增强,半峰全宽(FWHM)变小,即退火使c轴生长的薄膜取向性增强.未经退火的ZnO薄膜存在张应力,经过热处理后应力发生改变,最后变成压应力,并且随着退火温度的升高,压应力逐渐增大. 相似文献
798.
799.
扫描电子显微镜通过电子束轰击样品产生的二次电子、背散射电子等实现对样品表面形貌的观测,通过对样品横断面的观测来获得薄膜厚度信息,但难以实现对薄膜表面形貌和厚度的同时观测。通过能谱仪研究各种厚度的薄膜同其激发的特征X射线计数率之间的关系,实现了通过特征X射线计数率来测量薄膜厚度的方法。对于激光吹气系统所需的钨薄膜而言,结果表明,计数率随薄膜厚度的增加先线性增加后趋于稳定,利用该曲线的直线部分作为刻度曲线,可实现对5~19μm范围内钨薄膜表面形貌和厚度的同时测量,精度约为10%,通过增加电子能量可实现对更厚样品的测量。该方法可推广到其他种类的薄膜研究,有助于推动薄膜物理研究的开展。 相似文献
800.