CePO_4/Ce-ZrO_2可加工陶瓷性能与断裂机制研究

以Ce ZrO2为基体,通过复合不同加入量的第二相CePO4颗粒,研究了陶瓷材料力学性能的变化,并借助加载能谱仪(EDS)的扫描电子显微镜(SEM)对材料弯曲断口及压痕裂纹扩展方式进行分析。当CePO4加入量为25%时,虽然材料力学性能有一定下降,但已经能用WC刀具进行加工。材料的弯曲断口显示,CePO4在两相体系中的断裂呈层片状形式;加入CePO4后,由于两相之间弱结合界面的存在,压痕裂纹扩展形式发生明显变化,由连续扩展机制过渡为不连续扩展。由这两种机制形成的材料断裂过程是阶段性的,在实际中可以用作材料最终破坏前的预报。     

扫描探针纳米加工技术的现状与发展趋势

介绍了扫描探针纳米加工技术的基本原理、应用前景和最新进展 ,并讨论了该技术的发展趋势     

软刻蚀及其应用

软刻蚀是一类基于自组装和复制模塑等原理的非光刻微米和纳米加工方法。它为形成和制作微米、纳米图案提供了简便、有效、价廉的途径。在软刻蚀中，用一个表面带图案的弹性模板来实现图案的转移，其加工的分辨率可达30nm－100μm。软刻蚀是微接触印刷、复制模塑、转移微模塑、毛细微模塑、溶剂辅助微模塑等的总称。本文将简介软刻蚀的原理、方法以及它们在微米和纳米加工、微电子学、材料科学、光学、微电子机械系统、表面化学等方面的应用。     

镧钇对铍铜QBel.9合金性能的影响

研究了加入镧或钇和不加镧钇的ＱＢｅｌ．９合金性能差别。采用相同的加工工艺加工的含镧和钇和ＱＢｅｌ．９和不含镧和钇的ＱＢｅｌ．９合金的样品，然后观察和检测三种合金的质量和性能。     

能动抛光磨盘的变形实验研究

 能动抛光磨盘实时产生不同的表面变形，在对大口径非球面光学元件进行精磨和抛光时实现与工件表面良好的大尺寸吻合，可以消除传统光学加工采用小尺寸磨头时带来的高频残余误差并提高加工效率。以加工直径1.3m左右，F/2的抛物面光学元件为例，对能动磨盘在不同离轴度时能够产生的变形进行了计算和实验。结果表明，能动磨盘能够以较高精度产生旋转对称或非对称的抛物面形状。对能动磨盘产生变形后的残余误差进行了分析。     

浅谈黄原胶及其在农药制剂加工中的应用

黄原胶是极具发展潜力的生物多糖,独特的分子结构使其具有良好的增稠、乳化和稳定作用,已被广泛应用于日用化工、石油开采、纺织印染、食品、医药、涂料、农药等众多工业领域,拥有广阔的市场前景。本文对黄原胶的结构、特性、生产工艺以及主要应用领域等进行了简单综述,总结了黄原胶在农药制剂加工中的应用现状,指出黄原胶优越的流变特性对悬浮剂、水乳剂、悬乳剂等农药制剂悬浮稳定性的提高具有重大意义,最后展望了黄原胶未来的发展前景。     

蓝宝石整流罩光学加工建模研究

采用了面向对象的Petri网(Object-Oriented Petri Net,OOPN)作为建模方法对蓝宝石整流罩的光学加工过程进行研究,通过对加工过程的分析,以对象化的方式进行封装,建立了OOPN模型并进行了性能分析,证明利用该方法建模可以充分发挥面向对象技术和petri网原理的优点,做到简化流程,便于分析,易于扩展和复用,为光学等特殊加工过程的建模和分析提供了一种思路。     

HTS双饼线圈的加工工艺及实验研究

详细介绍了高温超导双饼线圈的加工工艺和流程,针对绕制时带材弯曲形变使临界电流退化的技术难点,重点阐述了其解决方法。在液氮温度、自场环境下对采用该加工工艺制作的YBCO双饼线圈及Bi2223/Ag双饼线圈进行低温实验,测试其V-I特性曲线。实验结果表明:该工艺制作的双饼线圈性能良好,工艺安全可靠,是合适的。同时,实验测量数据也为线圈在磁体中的进一步应用提供了可靠依据。     

2012中科院光学设计高级讲习班(第九届)

课程介绍光学系统设训主讲:王之江院士、徐文东研究员、黄惠杰研究员结合光学设计中的基本设计理念,阐述光学系统的基本要求及指标。并配以当前流行的光学设计软件,立足于当前具有代表性的产品,进行大量设计实例的分析和讲解。不仅仅停留在软件的学习和使用为目的,涉及光学系统本身的本质性质问题,以实例讲解提高设计的策略和方法。光机系统设计、光学加工主讲:朱健强研究员     

薄膜微结构的近红外透射诱导增强特性

在SiNx薄膜中引入微金字塔结构,综合利用包含界面的薄膜光学微结构的折射、衍射与干涉现象,实现透反射的调控.通过单点金刚石切削与纳米压印、等离子体各向异性刻蚀技术相结合,将大面积、高效率、低成本的微结构制备方法推广至光学薄膜中,实现了多种尺寸的金字塔薄膜微结构的制备,结构单元尺寸可以在1.5～10μm之间进行调控.光谱特性检测结果表明,SiNx薄膜微金字塔结构阵列在近红外至长波红外波段,表现出超宽波段的减反射特性;在0.8～2.5μm的近红外波段,反射率低于1.0%;在3～5μm的中红外波段,反射率小于2.5%;在10～12μm长波红外波段,平均反射率低于5%;与传统的四分之一波长抗反射膜系相比,SiNx薄膜微金字塔结构阵列的减反射效果的实现,无需膜系设计时的折射率匹配,简化了膜系结构.研究发现SiNx薄膜微金字塔结构阵列的近红外透射诱导增强特性,高度为2～4μm的SiNx薄膜微金字塔结构阵列,均在2.1μm波长处出现明显的透射诱导增强效应,且高为4μm,底宽为8μm的微金字塔结构阵列的透射增强作用最为明显,透射率达到了96%以上.实验检测与仿真分析证明,透射增强的位置和强度由微结构的形貌尺寸及其结构比例关系决定.