从防垢剂对碳酸钙晶形分布影响的角度研究防垢机理

为研究防垢剂的作用机理, 收集了不同防垢剂加入前后出现的碳酸钙垢. SEM分析表 明, 加入防垢剂前, 碳酸钙垢的SEM表现为方解石的六方柱和菱面体; 加入防垢剂后, 碳酸钙垢的形态发生变化, 且防垢剂的效果越好, 垢的形态改变程度越大. 进一步通过FT-IR, XRD对碳酸钙垢进行了定性、定量分析, 发现加入防垢剂后, 垢中除方解石外, 出现了六方方解石和文石, 且防垢率越大, 垢中六方方解石的含量越高. 上述结果说明, 加入防垢剂后垢形态改变的本质原因是垢中碳酸钙晶型分布发生了变化. 结垢过程主要包括不稳定相的生成和消失、介稳相的生成和消失、稳定相的生长三个阶段. 不出现防垢剂时, 介稳相可以转变为稳定相, 碳酸钙垢的主要成分为方解石; 加入防垢剂后, 防垢剂阻止了介稳相的生成和转化, 导致碳酸钙垢中出现了六方方解石和文石. 防垢率越大, 碳酸钙垢中六方方解石含量越高, 说明防垢剂主要通过将结垢过程控制在第二阶段或第一阶段而起到防垢作用.     

3,5-二溴水杨醛缩氨基吡啶的合成及其应用于萃取荧光法测定微量季铵盐

本文合成了新荧光试剂3，5-二溴水杨醛缩氨基吡啶，用元素分析、红外光谱证实了新化合物的结构。并且将此试剂用于萃取荧光法测定水中微量季铵盐。研究了反应条件．探讨了反应机理。所提出的方法灵敏度好，干扰少。     

庆大霉素与3,5—二溴水杨醛的缩合反应及其应用

本文研究了庆大霉素与３，５－二溴水杨醛缩合成席夫碱的条件及其应用，在加热条件下，庆大霉素与３，５－二溴水杨醛缩合成亮黄色席夫碱，其分子反应比为，庆大霉素＋３，５－二溴水杨醛＝１＋１，据此提出了庆大霉素生物效价总量的光度测定法，庆大霉素在０～１１８．９μｇ／ｍＬ内符合比尔定律，λｍａｘ＝４３０ｎｍ表观摩尔吸光系数ε＝９．９８×１０＾４Ｌ．ｍｏｌ＾－１．ｃｍ＾－１本法干扰少，重现性好。     

卡尔曼 波—分光光度法用于复方雷锁辛涂剂中苯酚与间苯二酚的测定

本文研究了卡尔曼滤波－分光光度法及其在多组分混合物同时光度测定中的应用。测定复方雷琐辛涂剂中苯酚与间苯二酚，平均回收率分别为100.86％与98.76％。     

模板剂与ＭＣＭ-22分子筛匹配作用的分子模拟计算

本文用Ｍｏｎｔｅ Ｃａｒｌｏ方法和分子力学方法研究了模板剂分子六次甲基亚胺(ＨＭＩ)在ＭＣＭ-22分子筛孔道中的排布与取向。模拟结果表明模板剂分子能够稳定地嵌入在ＭＣＭ-22分子筛的超笼、窗口和正弦孔道中。对这三种位置上模板剂与分子筛骨架之间的主客体非键相互作用能(包括范德华能和库仑能)进行了计算,结果表明模板剂分子与分子筛的骨架之间作用力主要以范德华吸引力为主。本文还进一步讨论了模板剂分子的结构导向作用和对骨架Ａｌ的靶向作用。     

7-十二烯基-8-羟基喹啉的合成

7-十二烯基-8-羟基喹啉是一种新型螯合型萃取剂(Kelex 100的主要成份)。它是(1a)和(1b)异构体的混合物。本文报道了利用1-氯-1,1,3,3-四甲基丁烷与过量丁二烯-[1,3]的1,4加成反应合成重要中间体1-氯-5,5,7,7-四甲基辛烯-[2](3)的方法,此法具有室温、常压、产率高、设备简单、操作方便等优点。     

去氢枞酸类成核剂改性聚丙烯的非等温结晶动力学研究

对以去氢枞酸盐为成核剂的聚丙烯非等温结晶动力学进行了研究，用修正Avrami方程的Jexiorny法和莫志深法进行处理。结果表明：修正Avrami方程的Jeziorny方法和莫志深法都适用于去氢枞酸类成核剂改性的聚丙烯的非等温结晶动力学。在同样的降温速率下纯聚丙烯的t1/2比成核聚丙烯的t1／2要长，当降温速率为20K/min时，纯聚丙烯和成核聚丙烯的t1/2分别为0．78min和0．51min。同时从莫志深法得到的F(T)结果可以看出，达到相同的结晶度时纯聚丙烯所需的降温速率要大于成核聚丙烯所需的降温速率，说明成核剂的加入提高了聚丙烯的结晶速率。从Jeziorny法求出的纯聚丙烯和成核聚丙烯的Avrami指数分别为4．46和2．77，表明成核剂改变了聚丙烯的结晶成核和生长方式。     

手性配体立体选择性萃取分离扁桃酸对映体

Based on chiral ligand exchange, the distribution behavior of mandelic acid enantiomers in the two-phase system containing copper ion(Ⅱ)(Cu²⁺) and N-n-dedecane-L-hydroxyproline (L), was studied. At different pH, the partition of Cu²⁺ in the two-phase system containing N-n-dedecane-L-hydroxyproline, was investigated. The formation constant of binary cpmplex(Li₂Cu) was obtained by regression. The influence of pH, concentrations of Cu²⁺ and chiral ligand, and solvents on partition coefficients(K) and separation factor(α), was discussed. The experimental results show that Li forms more stable ternary complex with D-mandelic acid than with L- mandelic acid. There is a large influence of pH on K and α. At low pH values (<3.5), formation of binary complexes is thermodynamically unfavourable. K and α are best when pH values are above 3.5 and the molar ratio of chiral ligand to Cu²⁺ is 2∶1. At the same time, solvents influence K and α very much.