脆性金属玻璃断面上的奇妙图案

文章简要介绍了脆性块体金属玻璃(简称BMG)断裂面上几种主要的图案花样:河流花样、"韧窝"结构花样和自组装条纹结构花样,并总结了目前对上述各种形貌形成机理的可能的物理解释.对BMG断裂面上形貌的研究可以揭示材料的断裂机理,有助于更深刻地理解材料的力学性能,开发高性能金属玻璃材料,并为工程选材提供安全标准.     

金表面聚合物刷及图案化微结构的制备

采用表面引发室温原子转移自由基聚合(ATRP)方法在金基底上原位制备了接枝聚合物刷,其制备过程用厚度测量,ATR-FTIR,XPS等进行了表征,初始时聚合物刷的厚度随着聚合时间的增加线性增加,表现为活性聚合的特征．XPS表征证明表面引发聚合后聚合物刷末端仍然存在ATRP反应的引发剂．紫外光刻图案化的聚合物刷作为电沉积的模板,经电沉积、后紫外处理、湿化学刻蚀步骤后得到了分离的导电聚合物微阵列结构,通过浇注／粘附处理将导电聚合物微阵列转移至硅油弹性体片,由于导电聚合物在湿化学刻蚀中对基底金具有良好的保护作用,因此在导电聚合物阵列被转移后,基底表面得到金微阵列。     

基于gOMP算法的循环码译码研究

在压缩感知理论中,广义正交匹配追踪(gOMP)算法常用于解决l0范数的最小化问题.借助无噪声干扰的压缩感知观测模型,提出了循环码差错图案E重构的压缩感知模型,以校验矩阵H作为测量矩阵,伴随式S作为测量信号,采用gOMP算法重构了差错图案E,其与收码R进行模2加运算,求得发码C的估值.进一步提出了校验矩阵H作为测量矩阵的构成形式及其2个定理.详细论述了gOMP算法重构差错图案E的计算过程.以(7,1)、(7,3)、(7,4)、(15,7)和(31,21)循环码为例,分析了gOMP算法对循环码的纠错能力;以(7,1)循环码为例,分析了gOMP算法中原子选取个数s与纠错位数的关系.通过误码率和码字C重构的成功率,比较分析了gOMP算法和最大似然译码算法的译码效果.仿真实验表明,采用压缩感知理论和广义正交匹配追踪gOMP算法实现循环码译码是可行和有效的.     

蒸发效应对高分子溶液沉积图案影响的研究进展

高分子薄膜在化工制造、绿色能源、材料、光电以及生命科学等领域有着重要的应用.溶剂蒸发作为高分子薄膜加工制备的重要手段,因其操作简单、成本较低和易于大规模制备的优点而被广泛应用和研究.本文综述了利用蒸发效应调控高分子溶液沉积图案、制备功能性高分子薄膜的研究进展,包括蒸发诱导高分子沉积图案的实际应用、基本原理和技术手段三个方面.本文旨在梳理该领域的各个研究方向及其相互联系,通过阐述溶剂蒸发对高分子沉积图案影响的机理为后续研究提供思路.此外,本综述简要总结了高分子溶液蒸发领域未解决的问题,并对未来发展方向进行了展望.     

基于四阶累计量的固定噪音参量估计

根据高斯噪音高于二阶的累积量为零的特性,提出基于四阶累计量的红外焦平面固定噪音乘性参量估计算法,完成从图象场景中自适应估计阵列单元的增益.利用泰勒级数展开给出乘性参量估计均值和方差的统计特性,证明算法给出乘性增益的估计为渐进无偏估计.提出的算法用蒙特卡罗仿真给予验证,证明了算法的有效性.并将提出的算法应用于实际图象的处理,有效降低了固定图案噪音,达到了较高的非均匀校正水平.     

基于规则学习的传统纹样统一生成模式研究

传统纹样的生成是图案生成领域最具代表性的研究方向之一,从传统纹样的构图规则出发生成纹样是最常用的方法之一。以传统纹样为研究对象,针对现有传统纹样生成方法泛化能力差的问题,通过对不同传统纹样进行特征分析,找出其生成规则的异同,提出了一种传统纹样统一生成模式：寓意嵌入的层次迭代生成模式。选取几何纹、动物纹、植物纹中的典型纹样,利用统一生成模式进行重构,验证了模式的有效性。实验结果表明,统一生成模式适合多种传统纹样的重构,一定程度上是对传统纹样重构的创新应用。     

关于实际换能器指向性指数确定的简便方法

指向性指数在评价电声换能器,特别是在声呐应用中,一直是一个重要的参量。但因为它包含三维图案的积分,所以精确地计算和测量这个参数是困难的。因此,在理论上和测量中都广泛使用了近似方法。本文报道中运用的三种近似方法是:1.利用理论近似计算公式计算指向性指数;2.实测波束宽度再作理论近似计算;3.方向性图案测量和图表积分。用这三种方法分别测量和计算了四种换能器的指向性指数。     

光电系统中探测器与光学系统的匹配

研究了小目标在光电成像系统中的成像 ,讨论了光电成像系统中影响系统分辨率的两个主要因素 :光学系统的爱里斑和探测器的尺寸。通过对这两个因素的分析可以看到 ,光电成像系统中光学系统的F数以及系统的工作波段与探测器尺寸的相互制约关系     

图案化自组装膜导向的电沉积

通过图案化自组装膜导向的电沉积制备了聚吡咯(PPy)微结构. 由微接触印刷方法制备图案化自组装膜并作为电沉积的模板. 研究发现, 自组装膜在导向电沉积中在不同的基底上具有不同的作用: 在十二烷基硫醇(DDT)、十八烷基硫醇(ODT)修饰的金基底上和十八烷基三氯硅烷(OTS)修饰的铟锡氧化物玻璃上(ITO), 电沉积主要发生在自组装膜未修饰区, 而在半导体单晶硅表面, PPy沉积在OTS修饰区, 是基底表面的导电性及PPy与基底表面基团相容性共同作用的结果.     

结构光周期图案的统一解码方法

针对结构光解码问题,在传统相位测量轮廓术（PMP）理论的基础上,提出一种结构光周期图案的统一解码方法。通过把经典PMP的相位计算公式运用到任何周期波图案中,比如三角波、锯齿波、方波图案等,通过多频时间相位展开算法实现了对包含高频率的图案的相位展开。实验结果表明,提出的方法达到了相对高的精度,验证了此方法的有效性。