第六章 一元一次方程

亲爱的同学，你们好!在新学期的开始，让我们一起走进第六章——一元一次方程的学习探究。本章中有许多应用问题、探究性和开放性的问题都在向你招手，相信你的聪明才智必定能在解决问题中得到进一步的展现，通过本章的学习，你将：     

三种瓜环与4,4′-联吡啶及N,N′-二甲基4,4′-联吡啶盐酸盐相互作用的研究

以七元瓜环(Q[7])和新型椭圆型改性瓜环———对称四甲基取代六元瓜环(TM eQ[6])为主体,4,4′-联吡啶的盐酸盐(44)以及N,N′-二甲基4,4′-联吡啶的盐酸盐(dm44)为客体的主客体相互作用进行了考察.实验结果表明,Q[7]与客体44及dm44作用体系中,客体为了更有效地被主体Q[7]包结,在Q[7]内腔中呈倾斜状分布的几率最高.用核磁共振、循环伏安以及紫外吸收光谱对实验结果进行了印证和补充,验证了TM eQ[6]与客体44及dm44可发生较强的相互作用,形成一维的自组装超分子结构.核磁共振以及循环伏安方法的实验结果表明,没有观察到Q[6]与客体44及dm44的明显作用,而紫外吸收光谱方法证实,Q[6]与客体44确实存在一定的相互作用,比较主客体的结构特征,该作用体系也可能存在自组装的一维超分子结构等多种作用形式.     

从防垢剂对碳酸钙晶形分布影响的角度研究防垢机理

为研究防垢剂的作用机理, 收集了不同防垢剂加入前后出现的碳酸钙垢. SEM分析表 明, 加入防垢剂前, 碳酸钙垢的SEM表现为方解石的六方柱和菱面体; 加入防垢剂后, 碳酸钙垢的形态发生变化, 且防垢剂的效果越好, 垢的形态改变程度越大. 进一步通过FT-IR, XRD对碳酸钙垢进行了定性、定量分析, 发现加入防垢剂后, 垢中除方解石外, 出现了六方方解石和文石, 且防垢率越大, 垢中六方方解石的含量越高. 上述结果说明, 加入防垢剂后垢形态改变的本质原因是垢中碳酸钙晶型分布发生了变化. 结垢过程主要包括不稳定相的生成和消失、介稳相的生成和消失、稳定相的生长三个阶段. 不出现防垢剂时, 介稳相可以转变为稳定相, 碳酸钙垢的主要成分为方解石; 加入防垢剂后, 防垢剂阻止了介稳相的生成和转化, 导致碳酸钙垢中出现了六方方解石和文石. 防垢率越大, 碳酸钙垢中六方方解石含量越高, 说明防垢剂主要通过将结垢过程控制在第二阶段或第一阶段而起到防垢作用.     

六钨酸四丁基铵盐和异丙醇体系的催化氧化反应的ESR研究Ⅰ.

本文研究了六钨酸四丁基铵盐在紫外光辐照的条件下催化氧化异丙醇为丙酮的反应。采用自旋捕捉技术与电子自旋共振相结合的方法,在位检测到氧化反应过程中有活泼自由基中间体产生,并观察到光电流产生。文中对六钨酸四丁基铵盐的催化反应机理进行了讨论。     

硫代钼酸盐和硫代钨酸盐的合成性质和取代反应的研究

本文提出了在水或水/醇溶液中[NH_4]_2[MO_nS_(4-n)](M=Mo、W,n=0-2)进行取代反应的方法。用该方法合成出[X]_2[MO_nS_(4-n)](X=(n-Bu)_4N、Ph_4P、py—C_(16)H_(33)共18个化合物,其中11个为新化合物,并采用元素分析、红外光谱、电子光谱和X-粉末衍射等方法对这些化合物进行了表征。     

六甲氧基甲基三聚氰胺-多元醇-丙烯酸酯混杂聚合体系的研究

六甲氧基甲基三聚氰胺 (HMMM) 多元醇 丙烯酸酯 酸催化剂混杂聚合体系在高温下同时进行缩聚和自由基聚合并表现出协同效应 .体系中的活泼亚甲基在HMMM的催化下被空气氧化成过氧化氢物 ;过氧化氢物在酸催化下分解成自由基进而引发自由基聚合反应 .研究结果表明 ,体系中存在固化加速的协同效应 ;同时体系中还存在热互补效应 ,丙烯酸酯的自由基聚合反应放出的热可以传递给缩聚反应 ,满足缩聚反应吸热的要求 .混杂聚合得到的高分子合金膜具有优良的机械性能和耐溶剂性能 ,这是由于在混杂聚合过程中形成了互穿聚合物网络 (IPN)结构 .使用潜酸催化剂作为酸的来源 ,可以提高体系的储存稳定性 ;交联 引发剂的使用可以拓宽它的使用范围 ;对超枝化聚合物在混杂体系中的应用也进行了初步研究     

LaB6-ZrB2共晶复合材料的组织特征及控制

用电弧炉和电子束悬浮区熔炉法制备了ＬａＢ６ＺｒＢ２共晶复合材料，并用ＳＥＭ和ＴＥＭ方法对其显微组织进行了研究。结果表明，ＬａＢ６ＺｒＢ２形成纤维状共晶组织，控制凝固条件可得到定向排列的组织，ＬａＢ６基体上均匀分布着直径为０２～１２μｍ的ＺｒＢ２纤维，纤维长度可达１００μｍ以上。对于固液界面为平面生长的试样，其结晶学取向关系为［００１］ＬａＢ６∥［００１］ＺｒＢ２，（１１０）ＬａＢ６∥（０１０）ＺｒＢ２。     

电子俘获材料Zn_4B_6O_(13)∶Dy~(3+)的热释光特性研究

通过高温固相扩散反应合成了稀土元素镝掺杂的 Zn4 - x B6 O1 3∶ x Dy3+ 磷光体 .测定了该化合物在高能6 0 Co伽玛射线辐照下的热释发光曲线和三维热释光谱 .三维热释光谱表明 ,位于大约 480 nm和 5 80 nm的发光谱带来自于 Dy3+ 离子的 f-f 跃迁 .基质中掺杂的 Dy3+ 离子浓度的变化能够改变陷阱的相对分布 ,随着Dy3+浓度的增加 ,发光峰温向高温方向移动 ,这可提高剂量器的热稳定性 .当辐照剂量增加时 ,发光峰温亦向高温方向移动 ,即陷阱加深 .确定了 Zn3.86 B6 O1 3∶ 0 .1 6Dy3+样品主峰的陷阱深度 E=0 .73 e V,频率因子S=2 .43× 1 0 9s- 1 .在 1～ 1 0 0 Gy治疗级范围内 ,Zn3.86 B6 O1 3∶ 0 .1 6Dy3+ 对 6 0 Co伽玛射线辐照的热释光剂量响应呈良好的线性关系 .实验结果表明 ,Zn3.86 B6 O1 3∶ 0 .1 6Dy3+是一个潜在的应用于临床医疗的伽玛射线电离辐射热释光剂量计材料 .     

高纯度植酸的制备

高纯度植酸的制备孙定光胡佩廖显威（四川师范大学化学系成都６１００６６）关键词植酸制备高纯试剂中图分类号Ｏ６２９．９植酸（ＰｈｙｔｉｃＡｃｉｄ）又名肌醇六磷酸酯，分子式：Ｃ６Ｈ１８Ｏ２４Ｐ６，结构为植酸是中等强度的有机酸，因其结构特殊，具极强的螯合作用...     

熔盐电解合成希土六硼化物的研究——REBO3、LiBO2和LiF体系熔盐电解合成RER6

本文在800℃和空气中电解REBO₃-LiBO₂-LiF熔盐体系合成了单相的REB₆.石墨川埚兼作容器和阳极.耐火金属棒如Cu和Mo等被悬吊在电解质中作为阴极.根据似二元体系LiBO₂-LiF和LiBO₂-LaBO₃的低熔点组成以La₂O₃、B₂O₃、Li₂CO₃和LiF为原料找到了具有较低熔点的熔盐体系.根据X射线粉末衍射,该熔体是由REBO₃、LiBO₂和LiF三个物相组成.