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N-邻羟基苯基氮氧方酸与铬显色反应的研究和应用 总被引:2,自引:0,他引:2
研究了N 邻羟基苯基氮氧方酸与Cr(Ⅵ )的显色反应 ,在柠檬酸 柠檬酸铵缓冲溶液中 ,发生氧化还原反应生成棕黄色水溶性化合物。其最大吸收波长在 4 10nm处 ,ε值为 9.5× 10 3,线性范围为 0~ 75 μg/2 5ml。此显色反应可用于铬的光度测定 ,其结果与使用二苯基碳酰二肼吻合 相似文献
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胡攀 《数学的实践与认识》2016,(17):218-222
根据灰色系统理论的新信息优先原理,建立了以x~((1))(n)为初始条件的离散灰色预测模型,证明了灰色预测模型与离散灰色预测模型分别在初始值优化前后的等价性,最后通过一个算例验证了模型的有效性与实用性. 相似文献
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推广了奇偶函数的概念,讨论关于奇偶性的两个定理及其在定(重)积分中的一些应用,某些经典的积分定理和一些已知的结论,均可作为其推论。 相似文献
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竹锦霞 《原子与分子物理学报》2012,29(5):863-866
利用NaI闪烁体探测器组成的伽马射线探测系统和BF3正比计数管、3He正比计数管和ZnS闪烁体探测器组成的中子探测系统,研究了欧姆放电平稳阶段充入工作气体后对逃逸电子产生过程的影响.实验结果表明:在欧姆放电平稳阶段充入工作气体严重影响了逃逸电子行为,充入的工作气体能有效抑制逃逸电子的产生. 相似文献
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采用双极脉冲和射频磁控共溅射沉积法在不同温度的Si(100)衬底和石英衬底上制备了富硅SiNx薄膜。在氮气氛中,于1 050℃下采用快速光热退火热处理,获得了包含硅量子点的SiNx薄膜。采用Fourier变换红外光谱、Raman光谱、掠入射X射线衍射和光致发光光谱对退火后的薄膜样品进行了表征。结果显示:Fourier变换红外光谱中出现了富硅Si—N键,表明薄膜为富硅SiNx薄膜;当衬底温度不低于200℃时,薄膜样品的拉曼光谱中出现了硅纳米晶的Si—Si振动横光学模,掠入射X射线衍射中出现了明显的Si(111)和Si(311)的衍射峰,证实了硅量子点的形成;发现存在一最佳衬底温度(300℃),该条件下获得的硅量子点的数量和晶化率最高;衬底温度为300和400℃的样品的光致发光光谱中均有3个可见荧光峰,结合拉曼光谱结果,用纳米晶硅的量子限域效应和辐射复合缺陷态对荧光峰进行了合理解释;由光致发光光谱计算出的衬底温度为300和400℃的样品的硅量子点平均尺寸分别为3.5和3.4nm。这些结果有助于优化含硅量子点的SiNx薄膜的制备参数,在硅基光电子器件的应用方面有重要意义。 相似文献
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Hg2+可以猝灭核黄素的荧光,碘离子(I-)可以与Hg2+形成HgI2,基于此,发展了一种新型的荧光增强法检测水中I-的方法。Hg2+加入后,核黄素在525 nm处的荧光被猝灭;继续在体系中加入不同浓度的I-,体系中Hg2+被不断消耗,导致核黄素在525 nm处的荧光逐渐增强。该方法检测I-的线性范围在1-100μmol·L-1,检测限是0.4μmol·L-1;同时,该方法具有较快的响应时间(2 min);对其他卤素离子具有较好的选择性;用于水中I-检测时得到了较好的回收率。 相似文献
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关于对称性的一个定理及其应用 总被引:2,自引:0,他引:2
袁南桥 《数学的实践与认识》2007,37(21):203-208
在一个问题中存在某种对称性时,若能充分利用这一性质,常常可以起到化繁为简,变难为易的作用.本文给出一个关于对称性的定理,以及它在定积分中的一些应用.某些经典的定积分定理和一些已知的结论,均可作为其推论. 相似文献
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自1986年Gedye[1]和G iguere[2]等报道利用微波辐射促进有机反应的研究之后,微波技术在合成化学中的应用已成为人们关注的热点,采用微波固相法合成酞菁化合物已有报道[3,4]。本研究小组以邻苯二腈和氯化铜为原料,采用微波固相法合成铜酞菁,其特点为反应速度快,收率高,污染少,且节约能源[5]。将合成的铜酞菁进行磺化,发现其磺化液有很强的荧光特性[6]。进一步研究得出,NO2-能使磺酸基铜酞菁溶液发生荧光猝灭,荧光强度和NO2-浓度呈现出良好的线性关系,线性范围为4×10-7mol·L-1~1×10-5mol·L-1,检测下限3.01×10-7mol·L-1,且常见共存离… 相似文献