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51.
线性嵌套阵可以很好地在很宽的频率(N个倍频程,N=7)上实现恒定束宽。这种方法设计简单,又节省线阵阵元。本文给出了线性嵌套阵具体的数字化实现方法,解决了FIR滤波器设计,滤波器时间延迟等问题。由于数字化实现过程中使用了很多组FIR滤波器,计算量很大,文章采用了DSP信号处理板实现数字化算法,利用DSP处理板可以多任务同时处理优势,解决了计算量大的问题。经过实验验证,在DSP上实现的数字化的线性嵌套阵宽带恒定束宽方法满足了工程上实时处理的需要。 相似文献
52.
通过对宁波港的交通环境,现有VTS系统及港口发展的趋势研究,提出了改善宁波港通航环境,建立和完善VTS系统的有效措施。 相似文献
53.
多目标最优化的一种积分型实现算法 总被引:2,自引:1,他引:1
在文[1]中给出了求解多目标最优化的一种积分总极值的概念性算法.本文利用数论中的一致分布佳点集列,较为简便的得出了多目标最优化的积分总极值的实现算法和算法终止准则.并经过有关函数数值计算表明该算法是有效的,可用来求解多目标最优化问题的有效解. 相似文献
54.
芳环羟基化HPLC分离荧光法检测Cu(Ⅱ)-H2O2体系中产生的·OH 总被引:4,自引:3,他引:1
采用L-苯丙氨酸为探针,使用液相色谱分离荧光检测(FLD)和荧光分光光度分析(FS)两种方法平行检测Cu(Ⅱ)-H2O2 体系中产生的·OH.试验采用的激发波长277 nm,发射波长306 nm.体系在反应前后的荧光变化,可反映·OH产生量.对FLD与FS所得数据进行了比较分析,结果显示两种方法具有较高一致性.FS使用混合体系检测,易对荧光的产生造成干扰,而FLD法没有干扰. 相似文献
55.
在误差序列为Lqmixingale情形下,给出了半参数回归模型中β和g(t)估计,研究了估计量的q阶平均相合性在较一般的条件下,得到了理想的结果 相似文献
56.
57.
本文在Q-正则Loewner空间中用环模不等式刻划了拟对称映射.另外,在 Q-维Ahlfors-David正则空间中建立了拟对称映射作用下的Grotzsch-Teichmuller型 模不等式,它是通过伸张系数的积分平均来表示. 相似文献
58.
电子离子碰撞激发速率系数在超组态碰撞辐射模型中真实模拟非局域热动力学平衡Au激光等离子体M带谱 5f 3d跃迁中各种复杂电荷态离子的电离态特性 (譬如离子的平均电离度 ,相对丰度和能级布居数 )是必不可少的。基于准相对论多组态Hartree Fock方法和扭曲波玻恩交换近似 ,采用自编的扭曲波程序ACDW (9)和Fit(9) ,从头计算了Au等离子体M带 5f 3d电子离子碰撞激发速率系数。结果表明 :在“神光II”实验装置诊断的电子温度约 2keV ,电子密度约 6× 10 2 1cm-3 范围内 ,这些电子离子碰撞激发参数有利于采用超组态碰撞辐射模型模拟Au的激光等离子体M带 5f~ 3d细致谱的平均电离度和电荷态分布。 相似文献
59.
Teleportation for an Ionic Entangled Internal State by Entanglement Swapping 总被引:4,自引:0,他引:4 下载免费PDF全文
We present an effective scheme to teleport an unknown ionic entangled internal state via trapped ions without joint Bell-state measurement. In the constructed quantum channel process, we adopt entanglement swapping to avoid decrease of entanglement during the distribution of particles. Thus our scheme provides new prospects for quantum teleportation over longer distance. The distinct advantages of our scheme are that our scheme is insensitive to heating of vibrational mode and can be generalized to teleport an N-ion electronic entangled GHZ class state. Furthermore, in our scheme the success probability can reach 1. 相似文献
60.
本文报道在国内首次采用离子束铣技术研制自集成透镜InGaAsP/InP DH LED的实验结果。采用烘烤正性光致抗蚀剂来形成球状掩膜适合于离子束铣,且重复性很好。为了获得光洁的刻蚀表面,刻蚀条件均已最优化。 相似文献