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读《权方和不等式及其应用》一文小议千溪本刊1994年第8期刊登了《权方和不等式及其应用》一文,(下称“权文”)文中称为权方和不等式,并给予证明,还讨论了若干应用例于.本文想对此作一些补充和议论.公式(*)从表面上看似乎挺繁杂,但如果把它调整为而且熟悉... 相似文献
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DC SQUID的I-V曲线依赖于穿过它的外加磁通,在不同的给定磁通下DC SQUID具有一组I-V曲线.在某些有关DC SQUID的实验中,发现在两个不同给定磁通下,相应的两条I-V曲线不再象通常那样呈现准平行的特点,而是具有一个或几个交点.本文的计算表明,如果DC SQUID具有的电感不对称程度较为显著时,确实会出现上述实验现象.这是一种造成上述实验结果的可能解释. 相似文献
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376.
本文报导从绵毛马兜铃(Aristolochia Mollissima Hance)中提取的一种结晶体K,C_(15)H_(20)O_2的分子及晶体结构。晶体属于正交晶系,晶胞参数为:a=6.543(2),b=13.972(3),c=14.732(2),空间群为P2_12_12_1,Z=4,d_(cal)=1.15g/cm~3。结构模型由SHELXTL程序解出,经最小二乘修正,最后的一致性因子R=0.055。 结构测定表明,分子内存在一个10员二烯环和一个5员内酯环,它们共有一个碳—碳双键。5员内酯环呈平面构型,且与10员环的最小二乘平面相互垂直。 相似文献
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在对超辐射式和腔式光泵NH3分子远红外激光(NH3-OPFIRL)进行系统 深入地理论和实验研究的基础上,对这两类激光器的结构、特点、频谱特性及最佳工作参数 的差异进行了分析和比较,并给出了一系列有重要参考价值的理论结果和实验数据。 相似文献
379.
380.
The effect of a HfO2 insulator on the improvement of breakdown voltage in field-plated GaN-based HEMT 下载免费PDF全文
A GaN/Al0.3Ga0.7N/AlN/GaN high-electron mobility transistor utilizing a field plate (with a 0.3 μm overhang towards the drain and a 0.2 μm overhang towards the source) over a 165-nm sputtered HfO2 insulator (HfO2-FP-HEMT) is fabricated on a sapphire substrate. Compared with the conventional field-plated HEMT, which has the same geometric structure but uses a 60-nm SiN insulator beneath the field plate (SiN-FP-HEMT), the HfO2-FP-HEMT exhibits a significant improvement of the breakdown voltage (up to 181 V) as well as a record field-plate efficiency (up to 276 V/μm). This is because the HfO2 insulator can further improve the modulation of the field plate on the electric field distribution in the device channel, which is proved by the numerical simulation results. Based on the simulation results, a novel approach named the proportional design is proposed to predict the optimal dielectric thickness beneath the field plate. It can simplify the field-plated HEMT design significantly. 相似文献