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81.
利用半导体光放大器进行光脉冲消基座的理论研究   总被引:5,自引:4,他引:1  
提出了一种利用半导体光放大器(SOA)联合可调谐光滤波器进行高阶孤子压缩消基座的新方法.进行了详尽的理论分析和优化.数值计算表明,在一定条件下,这种方法能够在不展宽脉冲的前提下,对基座进行有效地抑制.  相似文献   
82.
Self-assembled oligomeric nanostructures consisting of bisbiotinylated DNA fragments connected by the protein streptavidin (STV) are studied by dynamic scanning force microscopy (SFM) operating in air. A comparison of the images taken in repulsive and attractive regimes is systematically made on DNA and STV structures. Stable and reproducible SFM images are obtained in the attractive regime by using a special feedback circuit, called Q-control. On the other hand, when SFM is operating in the repulsive regime, deformation of the structures that reduce the resolution and the image quality are clearly observable. The heights of both DNA and STV have been measured as a function of the tip/molecule interaction forces. This study offers the possibility to suggest a different mechanical behavior of DNA with respect to STV. Received: 24 July 2001 / Accepted: 3 December 2001 / Published online: 4 March 2002  相似文献   
83.
本文通过对大量的黄酮类化合物13C NMR图谱的分析和研究,总结了不同类型的黄酮类化合物的13C NMR图谱特征及化学位移规律.对影响黄酮类化合物结构骨架上不同位置碳原子化学位移的因素进行了分析,建立了用于黄酮类天然产物13C NMR图谱智能解析的知识库.  相似文献   
84.
本文证明了:若X是K-半分层空间,f是闭映射,则f(X)是K-半分层空间,这一结果推广改进了Lutzer与高国士的有关结果。  相似文献   
85.
郭云  王恩科 《中国物理 C》2006,30(5):417-422
在e-A深度非弹性散射过程中, 喷注穿过冷核介质时, 多重散射诱导胶子辐射会导致对碎裂函数的修正及喷注的能量损失.前期研究中关于计算e-A深度非弹性散射中胶子辐射振幅的两种方法: 螺旋振幅近似和微扰QCD严格计算都异常繁杂. 本文发展了一种新的方法, 可以方便计算出多重散射导致胶子辐射的振幅, 得到的碎裂函数的修正以及能量损失与严格计算的结果一致.  相似文献   
86.
Using a simple vapor phase transport technique, we have fabricated unique complex disk-shaped ZnO microstructures comprising a small disk coaxially grown on a large one and observed spatially perfect six-fold symmetric patterns. The observed results can be explained based on the spontaneous nanoindentation (NI) effect under the geometric constraints and the explanation can be extended to fathom the growth mechanism of other highly symmetrical ZnO nanostructures. Our results indicate that NI not only can elucidate the mechanical properties of surfaces and thin films but also is an effective approach to fabricate ordered nanostructures with high precision on the location of the building blocks. PACS 81.16.Rf; 81.07.-b; 81.05.Dz  相似文献   
87.
A pectic polysaccharide was isolated from the fruits of Ziziphus jujuba Mill. cv. jinsixiaozao Hort. and its structure was characterized by acid hydrolysis, methylation, and NMR spectroscopies. The purified fraction Ju-B-7 had a molecular mass of over 2000 kDa. Chemical and spectroscopic analyses indicated that Ju-B-7 is composed mainly of α-1,4-linked D-galactopyranosyluronic acid and 1,2-linked L-rhamnose with a molar ratio of 8.1:1. It can significantly stimulate spleen cell proliferation in vitro (P<0.01, 10 μmg/mL). Published in Khimiya Prirodnykh Soedinenii, No. 4, pp. 311–312, July–August, 2007.  相似文献   
88.
中物院远红外自由电子激光实验研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
中国工程物理研究院基于射频直线加速器技术的远红外自由电子激光(FIR-FEL)实验取得阶段性进展,于2005年3月24晚8时30分首次出光, 并多次重复. 中心波长115μm, 谱宽1%.介绍了实验系统的主要组成部分和主要实验结果.  相似文献   
89.
90.
The effects of Si doping on the structural and electrical properties of Ge2Sb2Te5 film are studied in detail. Electrical properties and thermal stability can be improved by doping small amount of Si in the Ge2Sb2Te5 film. The addition of Si in the Ge2Sb2Te5 film results in the increase of both crystallization temperature and phase-transition temperature from face-centered cubic (fcc) phase to hexagonal (hex) phase, however, decreases the melting point slightly. The crystallization activation energy reaches a maximum at 4.1 at.% and then decreases with increasing dopant concentration. The electrical conduction activation energy increases with the dopant concentration, which may be attributed to the increase of strong covalent bonds in the film. The resistivity of Ge2Sb2Te5 film shows a significant increase with Si doping. When doping 11.8 at.% of Si in the film, the resistivity after 460 °C annealing increases from 1 to 11 mΩ cm compared to the undoped Ge2Sb2Te5 film. Current-voltage (I-V) characteristics show Si doping may increase the dynamic resistance, which is helpful to writing current reduction of phase-change random access memory.  相似文献   
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