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31.
X射线衍射研究N2+注入Si   总被引:4,自引:0,他引:4       下载免费PDF全文
本文首先给出了180keV的N2+注入Si的X射线衍射(XRD)分布,然后用Levenberg-Marquardt最优化方法模拟实验曲线。根据XRD运动学理论,在我们给出的试探胁变函数和多层模型的基础上,用自编程序计算给出了晶格胁变随注入深度、剂量和退火温度的变化。最后我们对实验和计算结果进行了初步的分析讨论。 关键词:  相似文献   
32.
A novel cycloartane,named sphaerophysone A,9,19-cycloart-7β,24β,25-triol-1-en-3-one,was isolated from the ethanol extract of Sphaerophysa salsula DC.The structure was elucidated on the basis of spectral evidences and confirmed by X-ray analysis,the stereochemistry of the compound was also defined by X-ray analysis.  相似文献   
33.
蓝宝石R面上ZnO薄膜的NH3掺杂研究   总被引:3,自引:1,他引:2  
以NH3为掺杂源,利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统在蓝宝石R面上生长出掺氮ZnO薄膜。通过XRD,SEM测量优化了其生长参数,在610℃和在80sccm的NH3流量下生长出了〈1120〉单一取向的ZnO薄膜。经Hall电阻率测量,得知该薄膜呈现弱p型或高电阻率,并对其光电子能谱进行了研究。  相似文献   
34.
35.
多重休假的带启动--关闭期的Geom/G/1排队   总被引:4,自引:0,他引:4  
本研究多重休假的带启动——关闭期的Geom/G/1离散时间排队,给出稳态队长,等待时间分布的母函数及其随机分解结果,推导出忙期的全假期的母函数,给出该模型的几个特例。  相似文献   
36.
光学傅氏变换离焦近似及对解卷积的应用   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
陈岩松  郑师海  马学斌 《物理学报》1989,38(10):1723-1726
本文研究了光学傅氏变换的离焦近似问题,导出了使傅氏变换关系近似成立在光学上所需要满足的离焦条件,并以此为基础,提出用离焦谱平面方法对电子显微照相图象进行解卷积处理,使得光学解卷过程大大简化。实验得到了满意的结果。 关键词:  相似文献   
37.
Based on the algebraic entanglement measure proposed [G. Vidal et al., Phys. Rev. A 65 (2002) 032314],we study the entanglement evolution of both pure quantum states and mixed ones of 2-qutrit system in a symmetrybroken environment consisting of a fermionic bath. Entanglement of states will decrease or remain constant under the influence of environment, and the class of states which remain unchanged has been found out.  相似文献   
38.
利用声波控制超短脉冲的色散   总被引:2,自引:2,他引:0       下载免费PDF全文
 声光互作用器件声光可编程色散滤波器(AOPDF)是一种实时的色散补偿器件,它可用于飞秒啁啾脉冲放大系统。通过耦合模理论推导,得到了输出脉冲的群延迟与调制声波的频率、啁啾、带宽等参数的关系,并且对用2.5cm长的LiNbO3作为声光晶体的AOPDF补偿飞秒光脉冲的色散进行了数值模拟,得到了对中心波长为800 mm的钛宝石飞秒激光色散补偿特性及所需声波的频率和啁啾参数。  相似文献   
39.
一种微型空调器的优化设计   总被引:1,自引:1,他引:0  
介绍了一种微型空调器的研制背景及设计方案 ,采用仿真优化的设计手段对空调器的制冷、制热系统进行了优化设计 ,实践证明其设计是成功的。同时说明了该型空调器所具有的特点及应用场合  相似文献   
40.
制作高密度衍射光栅的光电式刻划控制的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
高精度的光电式刻划控制系统是制作高密度母光栅的关键技术,以光栅干涉仪为控制核心,设计了光电式的光栅刻划控制系统,并对可能产生的加工误差进行了初步的分析;采用该控制系统的光栅刻划实践表明,所设计的光电式刻划控制系统已完全达到了高密度衍射光栅的亚微米栅距分度要求。  相似文献   
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