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41.
半个世纪以来,对半导体技术的深入研究和广泛应用推动了电子工业和信息产业的迅速发展。目前半导体技术正向高速度、高集成化方向发展,但这也不可避免地引发了一系列问题,例如电路中能量损耗过大导致集成片发热,如何进一步将电子器件小型化等。人们由此感到半导体器件的能力已基本达到了极限,转而把目光由电子投向了光子,因为光子有着电子所不具备的优势:速度快,彼此间不存在相互作用,一旦实现用光子替代电子传递信息,  相似文献   
42.
刘法贵  叶晓枫 《数学研究》2006,39(2):164-174
考虑具常数特征拟线性双曲型方程,提出一个新的可化约方程组的方法,证明了具常特征方程组Cauchy问题经典解的整体存在性定理.同时构造一些例子说明一些有趣的现象.  相似文献   
43.
Bi2O3/SrTiO3 composite powders have been prepared and their photocatalytic activities were investigated by photooxidation of methanol. These powders were characterized by UV-Visible diffuse reflectance spectra, SEM and X-ray diffraction (XRD). The results revealed that all the Bi2O3/SrTiO3 composite powders exhibited higher photocatalytic activity than pure SrTiO3, Bi2O3 and TiO2 (P25) under visible light irradiation (λ>440 nm). The effects of the Bi2O3 contents on the photocatalytic activities of the composite powders were examined, the photocatalytic activities increased with the content of Bi2O3 increasing to a maximum of 83% and then decreased under visible light irradiation. The effects of the calcination temperatures on the photocatalytic activities of the composite powders were also investigated.  相似文献   
44.
Differential scanning calorimetry (DSC) and x-ray diffraction (XRD) are employed to investigate the effects of nickel on the crystallization of the amorphous Zr70Cu20Ni10 alloy. We have found that the crystallization process of the amorphous Zr70Cu20Ni10 alloy is strongly influenced by the addition of nickel. Addition of 10 at% Ni to the Zr70Cu30 amorphous alloy makes the crystallization process proceed from a single-stage mode to a double-stage mode. The activation energy for crystallization of the amorphous Zr70Cu20Ni10 alloy is calculated to be about 388kJ·mol-1 on the basis of the Kissinger equation. The effects of nickel on the crystallization of the amorphous Zr70Cu20Ni10 alloy are discussed in terms of the genetics of metals.  相似文献   
45.
约束装箱问题的混合遗传算法求解   总被引:12,自引:1,他引:11  
本将最佳适应法和遗传算法相结合,提出了一种新的启发式混合遗传算法对具有时间约束的装箱问题进行求解,给出了具体的算法步骤,试算结果表明基于启发式算法的混合遗传算法适合于求解各种约束条件下的大规模装箱问题。  相似文献   
46.
Summary A method for the atomic emission spectrometric analysis of air and water with inductively coupled and two-jet direct current plasmas has been developed. The method has been applied to the determination of impurity contents with good accuracy and sensitivity.  相似文献   
47.
We give some sufficient conditions for proper lower semicontinuous functions on metric spaces to have error bounds (with exponents). For a proper convex function f on a normed space X the existence of a local error bound implies that of a global error bound. If in addition X is a Banach space, then error bounds can be characterized by the subdifferential of f. In a reflexive Banach space X, we further obtain several sufficient and necessary conditions for the existence of error bounds in terms of the lower Dini derivative of f. Received: April 27, 2001 / Accepted: November 6, 2001?Published online April 12, 2002  相似文献   
48.
本文利用不连续罚函数方法将带有不等式约束的全局优化问题的求解转化为 讨论一非线性方程的求根问题,从而得到若干个全局最优性条件.  相似文献   
49.
A rapid and sensitive flow-injection spectrophotometric method is proposed for the determination of sulfadiazine and sulfamethoxazole. This method is based on the diazotization of sulfonamide with sodium nitrite, and a coupling reaction of the diazo-compound with alpha-naphthylamine. The optimum experimental conditions are obtained by using the controlled and weighted centroid simplex method. The linear ranges for the determination of sulfadiazine and sulfamethoxazole are 0.2-20 microg ml(-1) and 0.1-20 microg ml(-1), and their detection limits are 0.06 microg ml(-1) and 0.05 microg ml(-1), respectively, and the sampling frequency is 130 samples per hour. The method has been used to determine sulfadiazine and sulfamethoxazole in pharmaceuticals and urine without separation. The results are in agreement with those obtained by a high-performance liquid chromatograph technique at the 95% confidence level.  相似文献   
50.
介绍了金属Au和Al薄膜的制备方法,研究了其UV光电发射特性,并做了寿命实验。给出了在真空中以及放在大气中光电发射衰减的情况。指出了其在大气中达到一个稳定值之后,再反复多次暴露于干燥大气时仍存在一个稳定光电发射周期的特点,可长达数月。金属薄膜有一个最佳膜层厚度,这与光电发射逸出深度、膜层结构等密切相关。近年来光电子成像器件发展非常迅速,急需光电发射均匀的面电子源,因此在微通道板的特性测试和像管的动态模拟中,Au和Al金属薄膜成为被优选的对象。  相似文献   
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