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相似文献
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1.
采用直流-射频等离子增强化学汽相沉积技术制备a-C∶H(N)薄膜,用X射线光电子能谱研究了混合气体中N2含量对薄膜成分与结构的影响.a-C∶H(N)薄膜中含氮量可达9.09%.对a-C∶H(N)薄膜的C1s和N1s结合能谱的分析表明a-C∶H(N)薄膜的结构是由C3N4相镶嵌在sp2键结合的CNx基体中组成.其中C3N4相中N和C原子比接近4∶3,不随薄  相似文献   

2.
 选用体积分数为99.999 9%的H2及反式-2-丁烯(T2B)为工作气体,利用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了α-C∶H薄膜。利用傅里叶变换红外光谱仪和X射线光电子能谱对薄膜化学键和电子结构进行分析,并结合高斯分峰拟合分析了薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3C杂化键分数。结果表明:薄膜中氢含量较高,主要以sp3C—H形式存在;工作气压越高,制备的薄膜中C=C键含量越少,薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3C杂化键分数增加,薄膜稳定性提高。应用UV-VIS光谱仪,获得了波长在400~1 000 nm范围内薄膜的光吸收特性,结果显示: α-C∶H薄膜透过率可达98%。光学常数公式计算得到工作压强为4~14 Pa时光学带隙在2.66~2.76之间,并均随着工作气压的升高而增大。结果表明,随工作气压的升高,薄膜内sp3键减小,从而促使透过率、光学带隙增大。  相似文献   

3.
 选用体积分数为99.999 9%的H2及反式-2-丁烯(T2B)为工作气体,利用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了α-C∶H薄膜。利用傅里叶变换红外光谱仪和X射线光电子能谱对薄膜化学键和电子结构进行分析,并结合高斯分峰拟合分析了薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3C杂化键分数。结果表明:薄膜中氢含量较高,主要以sp3C—H形式存在;工作气压越高,制备的薄膜中C=C键含量越少,薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3C杂化键分数增加,薄膜稳定性提高。应用UV-VIS光谱仪,获得了波长在400~1 000 nm范围内薄膜的光吸收特性,结果显示: α-C∶H薄膜透过率可达98%。光学常数公式计算得到工作压强为4~14 Pa时光学带隙在2.66~2.76之间,并均随着工作气压的升高而增大。结果表明,随工作气压的升高,薄膜内sp3键减小,从而促使透过率、光学带隙增大。  相似文献   

4.
 采用PLD方法制备了Fe/Al合金薄膜,研究了Fe/Al合金薄膜的物相、结构、应力等。研究表明薄膜的沉积速率随着衬底温度的升高而降低。原子力显微镜(AFM)图像显示,薄膜表面平整、致密且光滑,均方根粗糙度小于1 nm。等离子体发射谱(ICP)表明Fe/Al原子比为1∶1。X射线小角衍射(XRD)分析表明薄膜中的物相是Al0.5Fe0.5,Al0.5Fe0.5晶体具有简单立方结构(SC),晶格常数为0.297 nm,平均晶粒尺寸为81.74 nm,平均微畸变为0.007 6。  相似文献   

5.
 以H2和反式-2-丁烯(T2B)为工作气体,利用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了α-C:H薄膜。采用原子力显微镜、扫描电镜测试了α-C:H薄膜的表面形貌,分析了实验参数对其形貌的影响。研究表明:固定压强(15 Pa),当T2B/H2流量比为4时,薄膜均方根粗糙度可达0.97 nm。保持T2B/H2流量比固定,增加工作气压,薄膜均方根粗糙度减小,表面更平整、致密。利用傅里叶变换红外光谱仪对薄膜价键结构进行分析,结果表明:α-C:H薄膜中主要存在sp3C—H键,氢含量较高;T2B/H2流量比越低,薄膜中含有更多的C=C键。应用UV-VIS光谱仪,获得了波长在200~1 100 nm范围内薄膜的光吸收特性,α-C:H薄膜透过率可达98%,计算得到的折射率在1.16~1.40。随工作气压的增加,α-C:H薄膜中sp3杂化键增多,透过率、折射率增大。  相似文献   

6.
选用体积分数为99.999 9%的H2及反式-2-丁烯(T2B)为工作气体,利用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了a-C;H薄膜.利用傅里叶变换红外光谱仪和X射线光电子能谱对薄膜化学键和电子结构进行分析,并结合高斯分峰拟合分析了薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3C杂化键分数.结果表明:薄膜中氢含量较高,主要以sp3C-H形式存在;工作气压越高,制备的薄膜中C=C键含量越少,薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3C杂化键分数增加,薄膜稳定性提高.应用UV-VIS光谱仪,获得了波长在400~1 000 nm范围内薄膜的光吸收特性,结果显示:a-C:H薄膜透过率可达98%.光学常数公式计算得到工作压强为4~14 Pa时光学带隙在2.66~2.76之间,并均随着工作气压的升高而增大.结果表明,随工作气压的升高,薄膜内sp3键减小,从而促使透过率、光学带隙增大.  相似文献   

7.
 研究了不同衬底-阴极距离、直流电压和H2流量对a-CH薄膜沉积速率的影响。结果表明:衬底-阴极距离必须大于0.5cm,随着该距离的增加,薄膜的沉积速率减少;直流电压达550V时沉积速率最大;随着H2含量的增加,CH4含量相对减少,沉积速率随之降低。用AFM观察了以该方法制得的448.4nm CH薄膜的表面形貌,表面粗糙度约为10nm。最后测出了不同条件下CH薄膜的UV-VIS谱,由此可以计算得到薄膜的禁带宽度及折射率。  相似文献   

8.
黄晓辉  徐骏  李伟  王立  陈坤基 《发光学报》2001,22(4):334-338
在电容耦合式PECVD系统中,以CH4和H2为气源,通过控制H2的流量制备了一系列氢化非晶碳膜(a-C:H)样品。利用傅里叶变换红外光谱(FTIR)、光致发光谱(PL)和吸收谱对a-C:H膜的结构及光学性质进行了研究。结果表明:氢稀释可以在一定程度上减少碳的sp^2团簇的形成,增大它的光学带隙,并改变薄的微结构。与此同时,光致发光峰随郑 光学带隙的增大而蓝移;当光学带隙增大2.72eV时,出现了2.4eV(绿光)和2.97eV(蓝光)组成的发光峰。  相似文献   

9.
沉积压力对氢化非晶硅薄膜特性的影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)系统,以乙硅烷和氢气为气源,普通钠钙玻璃为衬底制备了氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜,研究了沉积压力对非晶硅薄膜的沉积速率、光学带隙以及结构因子的影响。采用台阶仪、紫外可见分光光度计、傅里叶变换红外光谱仪和扫描电子显微镜等手段分别表征了a-Si∶H薄膜的沉积速率,光学带隙、结构因子和表面形貌。结果表明: 随着沉积压力的增加,沉积速率呈现先上升后下降的趋势,光学带隙不断下降。当沉积压力小于210 Pa时,以SiH键存在的H原子较多,而以SiH2或SiH3等形式存在的H较少; 当沉积压力大于210 Pa时,以SiH2,(SiH2)n或SiH3等形式存在的H较多。通过结构因子的计算,发现沉积压力在110~210 Pa的范围内沉积的薄膜质量较好。  相似文献   

10.
采用射频磁控溅射和N2气氛退火处理制备了多晶Ga2O3薄膜和Cu掺杂Ga2O3薄膜.用X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计、荧光光谱仪对Ga2O3薄膜和Cu掺杂Ga2O3薄膜的结构和光学性能进行了表征.结果表明,Cu掺杂后Ga2O3薄膜的结晶质量变差,透过率明显降低,吸收率增加,光学带隙减小.本征Ga2O3薄膜在紫外、蓝光和绿光出现了发光带,Cu掺杂后紫外和蓝光发射增强,且在475 nm 处出现了一个新的发光峰.  相似文献   

11.
Institute of Physicoorganic Chemistry, Academy of Sciences of Belarus, 220603, Minsk, Ul. Surganova, 13, Belarus. Translated from Zhurnal Prikladnoi Spektroskopii, Vol. 62, No. 1, pp. 104–107, January–February, 1995.  相似文献   

12.
B. I. Stepanov Institute of Physics, Academy of Sciences of Belarus, 70, F. Skorina Ave., Minsk, 220072, Belarus. Translated from Zhurnal Prikladnoi Spektroskopii, Vol. 62, No. 2, pp. 200–205, March–April, 1995.  相似文献   

13.
Moscow Power Engineering Institute, 14, Krasnokazarmennaya Str., Moscow, GSP, 105835, Russia. Translated from Zhurnal Prikladnois Spektroskopii, Vol. 63, No. 4, pp. 646–651, July–August, 1996.  相似文献   

14.
S. I. Vavilov State Optical Institute, Russia, 199034, St. Peterburg, Birzhevaya Liniya, 12. Translated from Zhurnal Prikladnoi Spektroskopii, Vol. 62, No. 3, pp. 38–42, May–June, 1995.  相似文献   

15.
M. V. Lomonosov Moscow State University, Vorob'yovy Gory, Moscow, 119899, Russia. Translated from Zhurnal Prikladnoi Spektroskopii, Vol. 63, No. 2, pp. 236–241, March–April, 1996.  相似文献   

16.
Institute of Physics of Solids and Semiconductors, Academy of Sciences of Belarus, 17, P. Brovka Str., GSP, Minsk, 220072. Translated from Zhurnal Prikladnoi Spektroskopii, Vol. 63, No. 4, pp. 667–675, July–August, 1996.  相似文献   

17.
We present the results of comprehensive investigations that include remote spectral measurements under field conditions, laboratory experiments, and mathematical simulation of the radiative regime of winter rye sowings. B. I. Stepanov Institute of Physics, Academy of Sciences of Belarus, 68, F. Skorina Ave., Minsk, 220072, Belarus. Translated from Zhurnal Prikladnoi Spektroskopii, Vol. 64, No. 5, pp. 646–650, September–October, 1997.  相似文献   

18.
Ul'yanovsk State Technical University, 32, Severnyi Venets St., Ul'yanovsk, 432027, Russia. Translated from Zhurnal Prikladnoi Spektroskopii, Vol. 62, No. 3, pp. 182–185, May–June, 1995.  相似文献   

19.
Stable-plasma generators, spectroscopic measuring equipment, and methods for determining the optical properties of an extremely heated medium with a given composition have been developed. The spectral coefficients of absorption and emission of heated air, carbon dioxide, and argon were studied. A comparison with the data of other theoretical and experimental investigations has been performed. Deceased. Institute of Molecular and Atomic Physics of the Academy of Sciences of Belarus, 70, F. Skorina Ave., Minsk, 220072, Belarus. Translated from Zhurnal Prikladnoi Spektroskopii, Vol. 64, No. 6, pp. 818–826, November–December, 1997.  相似文献   

20.
Irkutsk State University, 20, Gagarin Av., Irkutsk, 664003, Russia. Translated from Zhurnal Prikladnoi Spektroskopii, Vol. 62, No. 3, pp. 215–217, May–June, 1995.  相似文献   

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