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进入本世纪以来,磁存储技术经过几十年的发展已日趋成熟。随着计算技术的发展,当今社会对信息存储设备提出了高密度、大容量、小体积和低成本的要求,而磁记录方式在进一步提高记录密度方面受到了局限。 相似文献
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从未来微型计算机对磁存储器应具有超高存储密度的要求出发,讨论了磁存储材料的未来发展.并指出,最有希望的材料是沿用传统模式纵向记录的薄膜磁介质和新型的磁光存储薄膜.对于如何实现此超高密度的磁和磁光存储,文章还讨论了各自需要解决的问题及相关的信息存储和读出技术. 相似文献
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光盘是激光技术在信息记录、存储、提取、传输等方面的重要应用,是光电子技术和计算机技术相结合的产物。自70年代诞生以来,由于其高密度、大容量的信息存储优势获得了广泛的关注,其推广和应用日趋活跃,并迅疾形成一个专门的信息产业。微光存储的基本原理光盘是利用激光相干性好的特点,将光束聚焦到直径1μm以下的焦斑上,使处在该区域内的记录介质受高功率密度光的烧蚀形成小孔,或产生其他改变物质性质的影响。光束受欲存储的信息调制,于是在介质上便记录下这种信息。为了操作方便,记录介质基层都制成圆盘形状,故得名光盘,英文Com-pactOpticalDisk,简称CD。 相似文献
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随着信息科学的迅速发展,对存储介质的存储密度和存储容量的要求在不断提高,然而传统的信息存储方法已几乎接近物理极限,于是寻找新的存储介质和存储方法就成为近年来信息科学的研究热点。光存储技术是继磁存储技术之后的又一新兴技术,它利用光改变物质物理或者化学性质存储信息,近年来不仅取得了重大的技术突破,而且形成了一个庞大的产业。现在以光盘为代表的光学数字数据存储技术已成为信息存储中不可缺少的载体。与以往的磁存储相比,光盘存储的优点是存储容量大、密度高、寿命长、信息的信噪比高,可以非接触式读写和擦除等。 相似文献
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用热分解法在玻璃衬底上制备了Cu添加的Bi,Al:DyIG磁光薄膜,对其静态读、写性能进行了详细的研究。Cu添加的薄膜可获得高的矫顽力和好的矩形化,对记录畸起着稳定的作用。同时,适量Cu的添加可起到细化晶粒的作用,对减少晶界噪声有利。 相似文献
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近年来,随着物联网、云计算、大数据以及人工智能等新兴技术的快速发展,人们对计算能力的要求越来越高.传统半导体器件在小型化、节能和散热等方面面临着巨大的挑战,因此亟需寻找一种全新的信息载体代替电子进行信息传输与处理.自旋波是磁矩进动的集体激发,其量子化的准粒子称为磁子.磁子的传播不依赖于传导电子的运动,因此不会产生焦耳热,能够克服日益显著的器件发热问题,因此磁子器件在低功耗信息存储与计算领域具有重要的应用前景.本文介绍磁子学近年来的一些重要研究进展,主要包括自旋波的手性传播,自旋波与磁孤子非线性散射导致的磁子频率梳,磁孤子的拓扑边界态和高阶角态,以及磁子量子态、基于磁子的混合量子体系和腔磁子学.最后,对磁子学的未来发展趋势及其前景进行分析与展望. 相似文献
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磁光盘反射率是一个重要的参数,在磁光盘的研制和生产过程中必须进行测试。本文首先介绍了反射率测试的典型方法,然后结合磁光盘磁光特性伺服测试系统提出了一种测试磁光盘反射率的实用有效的方法,使磁光盘磁光特性测试仪既能测试克尔角又能测试反射率。最后对该方法测试反射率的误差进行了评估,并给出了测试实例。 相似文献
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数字光盘是现代信息存储技术的结晶,但当今正在被广泛应用的一次只读(ROM)式光盘或一次写入(WORM)式光盘,由于不能写入或多次写入,所以在应用上存在着不可克服的局限性。而近几年开发出来的可擦重写(EDAW)式光盘就从根本上克服了这种缺陷,理论上可以无数次改写,给信息激光存储技术带来了很大的进步。在实现了实用化的可擦重写式光盘中,磁光型光盘是一个典型代表,它主导着目前可擦重写式盘片的领域,具有存储容量大、密度高、可靠性好、信息位价格低等优点,重要的是它应用的是一种独特的近乎全新的数据存取技术。 相似文献
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超分辨技术在光盘中的应用研究 总被引:2,自引:0,他引:2
超分辨技术是一种无需用减小波长或增大数值孔径的方法减小记录点尺寸而能读出超过衍射极限信号从而有效增加存储密度的一种方法,超分辨可以通过调整光学系统或者调整光盘的结构来实现,在超分辨光盘中,超分辨是基于掩膜的光学性质随入射激光强度的非线性变化而实现的,在磁光盘中第一次引入超分辨技术后,超分辨技术的应用有了很大发展,在目前是提高光盘存储密度的有效方法,在各类光盘中都有良好的应用,近场超分辨技术的出现使相变光盘的超高密度记录和读出成为可能,文章综述了超分辨光盘的发展现状和发展方向。 相似文献
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用磁控溅射法制备了GdFeCo/AlN/TbFeCo静磁耦合多层薄膜。振动样品磁强计和克尔磁滞回线测试装置的测试结果表明 :2 5℃不加外磁场时GdFeCo/AlN/TbFeCo静磁耦合多层薄膜读出层 (GdFeCo)的极向克尔角为零 ,读出层呈平面磁化 ;12 5℃不加外场时读出层的克尔角最大 (0 .5 4°) ,读出层的磁化方向为垂直磁化 ;随着温度增高 ,读出层由平面磁化转变为垂直磁化 ,在 75℃到 12 5℃温度范围内读出层磁化方向很快从平面磁化转变为垂直磁化。对磁化过程的机理研究表明 :饱和磁化强度和有效各向异性常量影响读出层磁化方向的转变过程 ,但主要受读出层饱和磁化强度的影响 ;在较高温度时读出层的磁化强度较小 ,退磁场能较小 ,在静磁耦合作用下 ,使GdFeCo读出层的磁化方向发生转变。制备的GdFeCo/AlN/TbFeCo静磁耦合多层薄膜适合作CAD MSR记录介质 相似文献
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将磁光效应作为微扰, 采用耦合模理论分析了磁光薄膜波导中微波静磁波对线性啁啾光脉冲的磁光Bragg衍射作用, 得到了传统磁化时磁光共线和非共线作用下的衍射光脉冲复振幅的解析表达式。在静磁波频率和波数相同的前提下, 通过对实际波导结构的计算表明, 基于静磁表面波的磁光共线作用比基于静磁正向体波的非共线作用更易于实现光脉冲压缩; 衍射光脉冲的半极大全宽度(FWHM)对失配斜率的依赖较为敏感。因此, 选用磁光共线作用和优化相位失配因子的频率变化率有助于改善磁光Bragg脉冲压缩器的性能。 相似文献