聚合物光盘基板材料

光盘是一种以非接触方式记录/再现信息的信息记录介质,主要由基板、记录层和保护层组成.其中,基板材料所用的光学塑料是光盘生产的主要原材料,对光盘的性能和成本构成至关重要.本文综述了聚合物光盘基板材料的研究现状及其发展趋势.光盘基板材料主要包括传统的聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、环氧树脂以及近年发展起来的非晶环烯烃聚合物.研制具有较低的双折射、吸湿性、固化成型收缩率以及较高的存储密度和存储寿命的光盘基板材料是聚合物光盘基板材料的一个重要研究领域.     

20年来三代可记录光盘记录材料的研究概况

本文综述了近20年来应用于红外光CD-R、红光DVD±R和蓝光BD-R/HD DVD-R三代可记录光盘中的记录材料的研究和应用进展,介绍了菁类、大环氮杂、偶氮、金属螯合物、苯并杂环等类染料作为光记录材料进行的研究,评述了可记录光盘记录材料的薄膜光学、记录灵敏度、光热稳定性、旋涂成膜性等特性,概括了每一代可记录光盘记录材料的特性与光盘系统的关系,讨论了大环氮杂金属配合物具有的良好材料特性,尤其是高光热稳定性和适中的记录灵敏度,并结合大环氮杂金属配合物在早期两代可记录光盘中已得到的重要应用及本课题组对此类材料的研究结果,认为其将是高密度蓝光盘记录材料的重要发展方向之一.     

液晶聚合物材料的红外光谱表征

红外光谱以高选择性、无破坏性以及高超的分辨和实时跟踪能力成为从分子水平研究液晶聚合物的的重要分析手段,而偏振二向色技术、时间分辨步扫描技术和二维相关分析技术的发展进一步提高了红外光谱分析复杂液晶聚合物的能力。本文介绍了传统傅里叶变换红外光谱及各种新型光谱分析技术（主要是二维相关技术）对液晶聚合物材料表征的研究进展,特别是对于液晶聚合物分子氢键、共聚和共混物相容性以及外场（温度、电场、光场、应力场）作用下液晶分子取向等的研究,并分别进行了具体的应用实例分析。     

漆酚醛胺聚合物多孔膜的制备

以漆酚醛胺聚合物(UFDP)为成膜材料,利用水辅助自组装的固体基板展开法和水面展开法制备了漆酚醛胺聚合物多孔膜.研究了在静态(即不在聚合物表面吹扫氮气)高湿度环境下聚合物溶液浓度、环境湿度和固体基板等因素对多孔膜形貌的影响.结果表明,水面展开法更有利于形成单层的多孔膜而固体基板展开法得到的是多层的多孔膜.当UFDP聚合物浓度为6.0 mg/mL,环境相对湿度为90%时,用水面展开法制得的单层多孔膜的孔径分布较均匀.     

激光光盘信息记录光刻胶的合成与感光过程的研究

近年来随着现代科学技术的飞速发展,社会各个领域的信息量急剧增加,原有信息记录材料已不能满足日益增长的信息存储的需要,作为重要的信息记录材料的激光光盘发展十分迅速。     

有机相变材料的合成及性能的研究

在光盘存储技术中,最关键的是发展新型存储材料,有机相变材料作为光信息记录材料已越来越受到人们的重视.     

可释放一氧化氮聚合物材料的制备及其在生物医疗器械中的应用

一氧化氮（NO）是一种很好的血小板黏附或活化的抑制剂，同时也是很有效的抗平滑肌细胞增生剂。可释放NO的聚合物材料显示出较好的抗血栓形成及抑制细胞增生的性能。本文综述了可释放NO聚合物材料的制备方法及其近年来在生物医疗器械中的应用。用来制备可释放NO聚合物材料的NO供体主要有两大类，一类是亲核NO供体N-diazeniumdiolates，另一类是S-亚硝基硫醇（RENOs）。制备可释放NO聚合物材料的方法主要有3种：（1）通过物理掺杂的方式将小分子的NO供体分散到聚合物材料中；（2）对聚合物材料的填料微粒进行化学改性，得到可释放NO的填料粒子，再将其填充到聚合物材料中；（3）通过共价键将可释放NO的基团连接到聚合物主链及侧链上。所得到的可释放NO聚合物材料在血管内传感器、体外血液循环电路和体内移植血管等生物医疗器械中有广泛的应用。     

导电聚合物超级电容器电极材料*

导电聚合物（聚苯胺,聚吡咯,聚噻吩）作为超级电容器电极材料的研究引起了人们广泛的兴趣,该类材料制备的超级电容器具有成本低、容量高、充放电时间短、环境友好和安全性高等优点。本文综述了近年来基于导电聚合物及其与无机材料（碳材料/金属氧化物材料）复合所得电极材料在超级电容器中的应用进展,指出具有纳米结构导电聚合物材料及导电聚合物与无机纳米材料的复合是超级电容器电极材料研究的重要发展方向。     

树枝状电光材料研究进展

电光材料是以光子为载体的新一代信息材料. 目前, 研究的焦点主要集中在树枝状电光材料. 综述了近几年树枝状电光材料的研究进展, 主要包括树枝状电光大分子、树枝状电光高分子以及超分子自组装电光聚合物.     

用于光存储的菁染料—聚合物薄膜

用于光存储的菁染料－聚合物薄膜姚祖光＊顾超陈欣唐福龙顾冬红（华东理工大学精细化工研究所上海２００２３７）（中国科学院上海光学精密机械研究所上海）关键词光存储材料，菁染料，合成，激光光盘１９９７－０４－０２收稿，１９９７－０７－０２修回国家自然科学基金...     

KARI酶及其抑制剂

酮醇酸还原异构酶(Keto-Acid Reducto－Isomerase, KARI或称作乙酰羟基酸异构还原酶, Aceto-Hydroxyacid Isomero-Reductase, AHIR)是植物、微生物中的支链氨基酸生物合成途径中第二步的关键性酶。由于哺乳动物和人体内并不存在这种酶,因此靶向KARI酶的抑制剂具有安全、高效等特点,成为农用除草剂以及医药抗真菌药物的一个引人注目的研究方向。本文综述了KARI的酶学,KARI抑制剂及其抑制机理和理论研究进展,并对其发展趋势进行了展望。     

New Approaches to Chemical Sensing‐Sensors Based on Polymer Swelling

Abstract

Although there is an extensive literature on polymer swelling, only in recent years has work been performed to exploit this phenomenon for chemical sensing. The lifetime of most sensors based on polymer swelling is limited by delamination of the polymer film. Swelling and shrinking introduce a shear force at the sensor/polymer interface that eventually severs the covalent bonds holding the polymer layer onto the substrate. This is a problem for any sensor configuration that involves immobilization of a swellable layer on a rigid substrate. Recently, sensor platforms have been developed to address this problem. Furthermore, coupling polymer swelling to optical, magneto, and electrochemical transduction technologies has greatly increased the scope of applications for sensors based on swellable polymers.     

可录型光盘与菁染料光存储媒体的研究进展

本文简介绍了可录型光盘光学数据存储过程和作为存储介质同的菁染料５的稳定性及其应用研究概况,学一些新型光存储技术作了简要评述,并讨论了可录型光存储材料的发展趋势。     

氧钒酞菁在激光光盘系统中的应用研究

氧钒酞菁在激光光盘系统中的应用研究董长征，沈永嘉，任绳武（华东理工大学精细化工研究所上海２００２３７）袁海俊（中国科学院上海光学精密机械研究所上海２０１８００）关键词：信息储存，激光光盘，功能染料，氧钒酞菁自１９７２年Ｐｈｉｌｉｐｓ公司推出激光光盘（...     

光致变色二芳烯掩膜及在近场光存储中的应用

合成了在超分辨率近场结构(Super-RENS)存储方式中适合做掩膜层和记录层材料的两种全氟二芳烯,旋涂法制备了实验存储盘片,并进行了近场存储实验.初步的实验表明,光致变色二芳烯掩膜层可以缩小聚焦激光的直径,得到小尺寸记录信息.掩膜层中二芳烯的浓度,对近场存储结果影响很大,存在一个最佳浓度使记录光斑的尺寸减少到最小.     

Photosensitive polyimides for applications in electrical and optical interconnection technology

The application of photosensitive polyimides in electrical and optical interconnection technology is discussed. Critical properties of two photosensitive polyimide formulations with significantly different structural chemistries have been compared. Polyamic ester based formulations such as Selectilux® HTR3 show significant distortions in the photopatterned features upon high-temperature baking, which can be ascribed to anisotropic shrinkage. A BTDA-alkylated diamine based preimidized formulation (Probimide®), on the other hand, shows a more uniform shrinkage of the photopatterned features. HTR3 films interacts strongly with metals such as copper, which adversely affect the photopatternability of these materials. Planarization behavior in multiple layer structures has also been investigated. We explored the viability of these materials for applications in optical interconnection. Probimide® materials exhibit low scattering losses and appear to be promising candidates for the development of a MCM-compatible optical interconnection technology. We also describe here a novel technique for optical recording of refractive index patterns in Probimide® films.     

高分子金属络合物的性能及应用进展

介绍了高分子金属络合物的种类及合成。综述了高分子金属络合物不同于低分子络合物的催化性能、电学性能、光学性能和磁性 ,以及高分子金属络合物作为催化剂、光学材料、电学材料等方面的应用进展。     

纳米金属-偶氮染料共掺杂复合膜的制备与吸收蓝移现象

为了达到高密度存储, 关键而有效的方法是获得更短波长的光存储材料. 报道了具有纳米金属-偶氮染料包覆共掺杂结构复合材料的制备及光吸收蓝移现象. 实验发现, 在这种独特结构的复合膜中, 具有存储功能的偶氮染料甲基橙的最大吸收波长比其单独存在于复合膜中蓝移约23 nm, 复合膜的热稳定性提高. 用TEM, SPM, UV-vis, TGA对样品的物理特性进行了表征. 描述了包覆结构的模型, 分析了波长蓝移的机理. 研究结果表明, 具有这种结构的甲基橙有望成为与蓝紫光半导体激光器(GaN)匹配的新一代光存储材料.     

电子俘获材料在光记录中的应用

研究了自行研制的CaS(Eu,Sm)电子俘获材料的光学性质;利用～200μm厚的CaS(Eu,Sm)高聚物膜作为记录底片,进行了实物图象的拍摄实验。这种记录材料具有很多有吸引力的优点:不需要用化学溶液进行定影显影,可以实时读出,可快速擦除,能反复使用,具有大的线性范围等。实验表明,电子俘获材料是一种很有前途的光记录材料。     

ORMOCER®s for Optical Interconnection Technology

New inorganic-organic hybrid polymers (ORMOCER®s) for integrated optical and opto-electronic devices were synthesized by sol-gel processing of functionalized alkoxysilanes. Process parameters (catalyst, temperature etc.) were optimized to achieve highly reproducible low cost materials which are photopatternable even in higher layer thickness (presently 100 m within one step).The resulting materials have low optical losses at the most important wavelengths for telecommunications in the NIR range (0.3 dB/cm at 1320 nm, 0.6 dB/cm at 1550 nm) and a variety of additional advantageous properties for optical interconnection technology and production of opto-electronic devices: good wetting and adhesion on various substrates (e.g. glass, silicon and several polymers), low processing temperatures (post-bake at 150°C) and high thermal stability (decomposition at 270°C) compared to alternative opto-polymers for NIR applications. A further advantage is a tunable refractive index, which can be achieved by mixing different resins.