基于平行投影法的三维流场重建

在行处理方法的基础上提出了一种基于平行投影的迭代方法，对传统的行处理方法不同，它不是通过向某一超平面作垂线进行迭代，而是作某个超平面的平行线与另一超平面相交进行迭代。与传统方法相比，它明显加快了迭代速度。     

A Pseudo-Stokes Mesh Motion Algorithm

This work presents a moving mesh methodology based on the solution of a pseudo flow problem. The mesh motion is modeled as a pseudo Stokes problem solved by an explicit finite element projection method. The mesh quality requirements are satisfied by employing a null divergent velocity condition. This methodology is applied to triangular unstructured meshes and compared to well known approaches such as the ones based on diffusion and pseudo structural problems. One of the test cases is an airfoil with a fully meshed domain. A specific rotation velocity is imposed as the airfoil boundary condition. The other test is a set of two cylinders that move toward each other. A mesh quality criterion is employed to identify critically distorted elements and to evaluate the performance of each mesh motion approach. The results obtained for each test case show that the pseudo-flow methodology produces satisfactory meshes during the moving process.     

空间光强自动测试装置的研究

通过对灯具空间光强测试方法的研究，提出了一种空间光强测试新方法。建立了灯具空间光强自动对中的数据模型，介绍了空间光强自动测试装置的组成和测试原理。借助二维扫描系统和专用测试软件绘制出空间光强的三维图形，从而可快速求出灯具x和y轴的光强分布曲线以及发散角，故而可获得所需的测试信息，并可通过全过程测试得到更加丰富的测试信息及测试报告。最后给出将一投影灯置于离探测器5m处的测试结果，按文中所述测试原理测得的峰值光强为2634.4cd，发散角为15.25°。     

基于SIFT的电力设备红外与可见光图像的配准和融合-

提出了一种红外与可见光的配准和融合方法,该方法利用SIFT算法提取图像特征,并使用透视变换表示图像的变换关系,最后在HSI空间,对图像进行了加权融合。实验表明,该方法快速稳定、鲁棒性高。     

22nm极紫外光刻物镜热和结构变形及其对成像性能影响

极紫外光刻技术(EUVL)是半导体制造实现22nm及其以下节点的下一代光刻技术。在曝光过程中,EUVL物镜的每一面反射镜吸收35%～40%的入射极紫外(EUV)能量,使反射镜发生热和结构变形,影响投影物镜系统的成像性能。基于数值孔径为0.3,满足22nm技术节点的产业化EUV投影物镜,采用有限元分析(FEA)的方法研究反射镜变形分布,再将变形导入光学设计软件CODE V中,研究反射镜变形其对成像特性的影响。研究结果表明:当达到硅片的EUV能量为321mW,产量为每小时100片时,反射镜最高升温9.77℃,通光孔径内的最大变形为5.89nm;若采用相干因子0.5的部分相干光照明,变形对22nm线宽产生6.956nm的畸变和3.414%的线宽误差。     

极紫外投影光刻掩模阴影效应分析

极紫外（EUV）投影光刻掩模在斜入射光照明条件下,掩模成像图形位置和成像图形特征尺寸（CD）都将随入射光方向变化,即存在掩模阴影效应。基于一个EUV掩模衍射简化模型实现了掩模阴影效应的理论分析和补偿,得到了掩模（物方）最佳焦面位置和掩模图形尺寸校正量的计算公式。掩模（物方）焦面位置位于多层膜等效面上减小了图形位置偏移;基于理论公式对掩模图形尺寸进行校正,以目标CD为22 nm的线条图形为例,入射光方向变化时成像图形尺寸偏差小于0.3 nm,但当目标CD继续减小时理论公式误差增大,需进一步考虑掩模斜入射时整个成像光瞳内的能量损失和补偿。     

基于模式识别技术的色貌模型评价研究

选用Munsell新标数据集,采用基于模式识别技术的圆度、色相角偏差、明度线性度与空间投影点聚集度四个指标来分别评价目前八个典型色貌模型在彩度均匀性、色相预测准确性、明度均匀性、颜色的空间再现的能力。结果表明,不同的色貌模型在四个方面的颜色再现性上表现出不同的优势。八个色貌模型对彩度预测最好的是RLAB,每个色貌模型对红色和绿色预测比较好,CAM02在色相预测整体上占优势;明度的均匀性预测都比较好,尤其是CIELAB;LLAB的颜色的空间再现能力最好。     

应用群论分析甲烷的红外和拉曼光谱特征

应用群论的方法构造CH4的简正坐标从而组合它的9个简正振动模式,根据红外光谱和拉曼光谱的选择定则分析CH4简正振动模式得出CH4分子的红外和拉曼光谱特征,采用群论方法使我们的计算大大简化.     

自反B空间中集值增过程的对偶投影

假定Ａ是以自反Ｂａｎａｃｈ空间中弱紧凸集为值的集值增过程，本文研究了非负有界可测过程关于Ａ的积分以及Ａ在乘积可测空间上生成的集值测度，证明了每个可积集值增过程存在唯一对偶可选（可料）投影．     

Bootstrapping generalizedU-processes andV-processes and their applications in projection pursuit

In this paper, we study bootstrap approximation for generalizedU-processes (GUP) indexed by a class of functions. Under mild conditions we obtain that the asymptotic distributions of bootstrapping generalizedU-processes (BGUP) are the same as those of GUP almost surely. As a result, the asymptotic properties of bootstrap approximation for PP generalizedU-processes (BPPGUP) are obtained. In addition we have derived bootstrap approximation for generalizedV-processes (GVP). Thus, we can use BGUP or bootstrapping GVP (BGVP) to simulate GUP and GVP.This project is supported by the National Natural Science Foundation of China and the Science Foundation of Educational Committee of Guizhou.