全文获取类型
收费全文 | 297篇 |
免费 | 91篇 |
国内免费 | 53篇 |
专业分类
化学 | 49篇 |
晶体学 | 5篇 |
力学 | 10篇 |
综合类 | 3篇 |
物理学 | 374篇 |
出版年
2024年 | 2篇 |
2023年 | 12篇 |
2022年 | 7篇 |
2021年 | 7篇 |
2020年 | 3篇 |
2019年 | 17篇 |
2018年 | 1篇 |
2017年 | 4篇 |
2016年 | 8篇 |
2015年 | 17篇 |
2014年 | 37篇 |
2013年 | 22篇 |
2012年 | 35篇 |
2011年 | 31篇 |
2010年 | 16篇 |
2009年 | 24篇 |
2008年 | 23篇 |
2007年 | 15篇 |
2006年 | 18篇 |
2005年 | 11篇 |
2004年 | 10篇 |
2003年 | 13篇 |
2002年 | 17篇 |
2001年 | 19篇 |
2000年 | 11篇 |
1999年 | 5篇 |
1998年 | 12篇 |
1997年 | 5篇 |
1996年 | 10篇 |
1995年 | 9篇 |
1994年 | 3篇 |
1993年 | 4篇 |
1992年 | 5篇 |
1991年 | 2篇 |
1990年 | 3篇 |
1989年 | 1篇 |
1988年 | 1篇 |
1987年 | 1篇 |
排序方式: 共有441条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
基于软X射线辐射计量和极紫外投影光刻(EUVL)应用,研制了一台使用纳秒激光器的液体微滴喷射靶激光等离子体(LPP)极紫外光源。该光源由一个可连续控温的不锈钢电磁喷气阀门、YAG激光器和能同步控制喷气阀门和激光器的脉冲发生器组成。使用液氮作致冷剂,控温范围77~473 K。对于足够高的背景气压和低的阀门温度,当气体经过阀门脉冲式地喷入真空靶室内时,气体经过气-液相变碎裂成大量的液体微滴形成液体微滴喷射靶。首先,依据非相对论量子力学理论,使用原子光谱分析常用的Cowan程序,计算了O2,CO2和CF4等几种液体在1011~1012W.cm-2激光功率密度下可能相应产生的O4 ,O5 ,O6 ,O7 ,F5 ,F6 和F7 离子的电偶极辐射跃迁波长和跃迁概率。其次,在激光焦点功率密度为8×1011W.cm-2时,测量了CO2,O2,CF4液体微滴喷射靶在6~20 nm波段的光谱。理论计算结果与实验结果相比较,得出了所测量谱线的电偶极辐射跃迁波长和跃迁概率以及跃迁能级所应归属的组态和光谱项。 相似文献
2.
投影光刻机硅片调焦调平测量模型 总被引:4,自引:1,他引:4
成像质量是光学光刻机的最主要指标,硅片调焦调平测量是光刻机控制成像质量的基础.为此建立了硅片调焦调平测量系统单个测量点的测量模型,并根据硅片形貌标准和集成电路尺寸标准,推导了近似运算规则,简化了曝光场高度与测量光斑在光电探测器上的位置之间的数学关系.运用最小二乘法和平面拟合曝光场曲面的方法,推导了基于多个测量点的曝光场高度和倾斜测量的数学模型.该模型能满足调焦调平实时测量和控制的需要,可用于测量精度优于10 nm的高精度调焦调平测量系统,能满足线宽小于100 nm投影步进扫描光刻机的需要. 相似文献
3.
压印光刻中套刻需要粗、精两级对正.实验采用一对斜纹结构光栅作为对正标记.利用物镜组观察光栅标记图像的边界特征进行粗对正,其准确度在精对正信号的捕捉范围内;利用光电接收器件阵列组合接收光栅莫尔信号,在莫尔信号的线区进行精对正.由于线性区的斜率大, 精对正过程中得到相应x,y方向的对正误差信号灵敏度高,利用高灵敏度对正误差信号作为控制系统的驱动信号,对承片台进行驱动定位,实现精对正.最终使X,Y方向上的重复对正准确度分别达到了± 21 nm(± 3σ)和±24 nm(± 3σ). 相似文献
4.
Nanoimprint lithography is an economical and convenient method for manufacturing nanostructures, which has developed very quickly and has been widely used in the nanoindustry. However, during the process of nanoimprinting, mechanical instabilities of soft nanostructures could lead to buckling. In order to study the mechanism of this problem, we analyze the buckling of one vertical elastic column under its own weight. Based on the comparison between two critical heights of different substrates (rigid and elastic), we conclude that the approximation of considering the substrate as rigid is acceptable. Furthermore the interaction between columns with the deformation of a substrate could lead to collective buckling. Our theoretical
calculations show that whether the columns are elastic or rigid makes little difference for the buckling modes. 相似文献
calculations show that whether the columns are elastic or rigid makes little difference for the buckling modes. 相似文献
5.
基于分步式压印光刻的激光干涉仪纳米级测量及误差研究 总被引:1,自引:1,他引:0
针对在未做隔离保护处理的环境中,基于Michelson干涉原理的激光干涉仪测量系统存在严重的干扰误差,不适合分步式压印光刻纳米级对准测量的要求.采用Edlen公式的分析及计算,不仅在理论上揭示出环境温度、湿度、气压等变化对激光干涉仪测量准确度的影响,而且证明影响测量准确度的最大干扰源是空气流动的结果.通过气流隔离措施和系统测量反馈校正控制器,能够实时补偿激光干涉仪两路信号的相差.最终,测量漂移误差在10 min内由13 nm降低到5 nm以内,满足压印光刻在100 mm行程中达到20 nm定位准确度要求. 相似文献
6.
离轴照明和衰减型相移掩模作为重要的分辨力增强技术,不仅可以提高光刻的分辨力,同时还可以改善成像焦深,扩大光刻工艺窗口,实现65~32 nm分辨成像。从频谱的角度分析了离轴照明和衰减型相移掩模对成像系统交叉传递函数和像场空间频率分布的影响,研究这两种技术的物理光学本质,由此进一步优化光学成像系统设计、分辨力增强技术和确定设备使用的参量。对分辨力增强技术的频谱分析研究表明,分辨力增强技术通过调整像场频谱分布,改善了光学光刻的图形质量。对于65 nm密集图形,离轴照明和相移掩模结合后可以使成像衬比度最高达到0.948,工艺窗口在5%曝光范围内焦深达到0.51μm。 相似文献
7.
8.
9.
10.
描述了用高功率脉冲激光打靶产生的等离子体作为软X射线源而进行的接近式软X射线光刻研究,采用负性辐射线光刻胶聚氯甲基苯乙烯,得到了一些新的实验结果。 相似文献