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51.
三乙胺分子的共振增强多光子电离解离通道研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
张树东  方黎 《量子电子学报》1998,15(1):36-41,26
利用TOF质谱装置对三乙胺分子在和两谱区进行了共振增强多光子电离解离研究。质谱中除有极强的母体离子101^+和母体上甲基的86^+峰外,还检测到明显的58^+,42^+,30^+,29^+,30^+,29^+,28^+,26^+,27^+和较弱的72^+,70^+,56^+,44^+,15^+,12^+等峰,并与电子轰击谱进行了对照。  相似文献   
52.
亚波长结构是特征尺寸小于工作波长的连续阵列浮雕结构,可看成是一层折射率均匀的介质层,仅存在零级的透射和反射衍射。基于等效介质理论和严格耦合波理论介绍了亚波长抗反射结构。为提高111μm波长太赫兹辐射(2.7THz)的透过率,在硅表面设计了亚波长抗反射结构。该结构的透射率和反射率由其浮雕结构的周期、高度和占空比确定。利用等效介质理论和严格耦合波理论对其结构参数进行了优化设计。当周期为27μm、高度为13μm、占空比为0.75时,得到了99.05%的太赫兹辐射透过率。  相似文献   
53.
54.
根据节目的采集,编辑,演播,播出中对设备的要求,全面地考察、比较各种数字设备的性能特点,针对现阶段我国各电视台设备正处于从模拟向数字过渡的阶段,提出一些建议与思考。  相似文献   
55.
本文主要论述了在班级管理中引入人本观念的必要性和人本观念在班级管理中的具体运用方法,力求为提高工学院班级管理的水平起到抛砖引玉的作用。  相似文献   
56.
研究了真空退火温度对不同流量比工艺参数下PECVD氮化硅薄膜性能的影响,测试了退火后氮化硅薄膜厚度、折射率以及在氢氟酸中的腐蚀速率。结果表明,退火后氮化硅薄膜厚度及折射率变化与薄膜沉积工艺条件有关,而薄膜在氢氟酸中的腐蚀速率在退火后大大降低。结合退火前后氮化硅薄膜的红外透射谱对以上测试结果进行了讨论。  相似文献   
57.
本文设计了一种集题目编辑、测试发布、在线测试和成绩分析等功能于一体的电路课程个性化教学辅助系统,学生在测试和练习时可以逐级获得解题提示,系统根据学生答题情况,自动分析学生学习信息,推送个性化练习题和测试试卷,促进学生个性化知识点的强化训练。教师可全面掌握学生个性化学习信息。经过探索和实践,该系统增强了学生对课程知识点的系统认识,有效促进了课程教学目标的达成。  相似文献   
58.
通过采用时间分辨荧光光谱技术测量了一种卟啉侧链聚合物薄膜:卟啉丙烯酸酯-苯乙烯共聚物poly[porphyrin acrylate-styrene] (P[(por)A-S])在高激发密度下的瞬态荧光特性.实验发现,P[(por)A-S]样品的荧光衰减随聚合物分子浓度的增大而加快.利用Frster机制的双分子猝灭理论对其浓度猝灭的原因进行了分析,理论结果与实验结果符合较好.研究表明,在高激发密度的情况下,Frster机制的双分子作用是加快卟啉侧链聚合物初始荧光衰减和降低其发光效率的主要因素.  相似文献   
59.
多缓冲层对MOCVD生长的GaN性能的影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用多低温缓冲层法和高低温联合缓冲层法在MOCVD系统上生长GaN外延膜.对薄膜进行了X射线衍射和光致发光谱(PL)测试,(0002)X射线摇摆曲线和PL谱的半高宽与常规的单低温缓冲层法制备的薄膜相比均有不同程度的改善.实验结果表明改进的缓冲层法能提高MOCVD生长的氮化镓外延膜晶体质量.  相似文献   
60.
采用不同材料作为有机电致发光器件(OELDs)的电极, 制备了基本结构为[阳极/NPB(40 nm)]/Alq3(50 nm)/阴极]的异质结双层器件, 并通过改变OELDs器件的阴极或阳极来研究电极材料对器件光电性能的影响. 研究结果表明, 各器件电流-电压(I-V)关系的基本特征与陷阱电荷限制电流(TCLC)机制的拟合情况相符. 由于有机材料本身能级的无序性以及载流子迁移率对温度和电场的依赖性, 不同电极的载流子注入能力与其功函数并无直接关系. 双层器件中由于空穴传输层的引入, 使得载流子复合区域位于有机层异质结界面处, 降低了金属阴极对激子的猝灭作用, 从而大大提高了器件性能. 此外, 金属电极OLEDs器件结构具有的微腔效应会导致发射光谱的位移和谱峰宽度变窄, 这表明通过对金属电极的表面改性和优化可使器件性能超过常规结构的器件.  相似文献   
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