首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

三维有序大孔杂化材料SiW11O39^8——SiO2和γ—SiW10O36^8——SiO2的制备与表征
引用本文:郭伊荇,杨宇,胡长文,王恩波.三维有序大孔杂化材料SiW11O39^8——SiO2和γ—SiW10O36^8——SiO2的制备与表征[J].高等学校化学学报,2002,23(11):2035-2039.
作者姓名:郭伊荇  杨宇  胡长文  王恩波
作者单位:东北师范大学化学学院多酸化学研究所 长春130024 (郭伊荇,杨宇,胡长文),东北师范大学化学学院多酸化学研究所 长春130024(王恩波)
基金项目:国家自然科学基金 (批准号 :2 0 0 710 0 7),教育部骨干青年教师基金资助
摘    要:通过溶胶 -凝胶和聚苯乙烯模板等方法制备了含缺位 Keggin阴离子 Si W1 1 O8- 3 9和 γ-Si W1 0 O8- 3 6的三维有序大孔杂化氧化硅复合材料 ,并通过紫外漫反射光谱 ( UV/ DRS)、傅里叶变换红外光谱 ( FTIR)、固体核磁共振波谱 ( MAS NMR)等手段对其结构进行了表征 .结果表明 ,杂化材料中的 Keggin阴离子仍保留其基本骨架结构 ,但其与氧化硅基体之间存在化学作用 .杂化材料的孔道结构用扫描和透射电子显微镜 ( SEM和TEM)进行表征 ,其平均孔径为 ( 335± 5 0 ) nm.对杂化材料孔壁的微孔性通过氮气吸附进行了测定 .此类材料对水溶液中羟基丁二酸的降解反应具有活性 ,光催化过程中未发现 Keggin阴离子自载体中脱落的现象 .

关 键 词:SiW11O39^8--SiO2  γ-SiW10O36^8--SiO2  制备  表征  三维有序大孔杂化材料  多金属氧酸盐  溶胶-凝胶  聚苯乙烯模板  光催化性能  氧化硅    复合材料
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号