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| 二甲二烷氧基硅烷质谱研究 | |
| 引用本文： | 林吉茂,周爱民.二甲二烷氧基硅烷质谱研究[J].结构化学,1995,14(5):412-416. |
| 作者姓名： | 林吉茂 周爱民 |
| 摘 要： | 对二甲基二烷氧基硅烷的电子轰击质谱进行了研究。断裂方式主要包括以下几种：Ｓｉ－Ｃ键的断裂（脱ＣＨ３）、Ｓｉ－Ｏ链的断裂（脱ＯＣＨ２Ｒ、Ｏ－Ｏ键的断裂（＾＋ＣＨ２Ｒ的生成）、Ｃ－Ｃ键的断裂、氢重排脱烯ＣｎＨ２ｎ、氢重排脱醛ＰＣＨＯ等。 |
| 关 键 词： | 二甲基 二烷氧基硅烷 质谱 裂解 |
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