| Si(111)衬底上ZnO薄膜的磁控溅射法制备及表征 |
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| 引用本文： | 汪洪,周圣明,宋学平,刘艳美,李爱侠.Si(111)衬底上ZnO薄膜的磁控溅射法制备及表征[J].人工晶体学报,2005,34(3):479-483. |
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| 作者姓名： | 汪洪 周圣明 宋学平 刘艳美 李爱侠 |
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| 作者单位： | 安徽大学物理与材料科学学院,合肥,230039;中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800 |
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| 基金项目： | 安徽省优秀青年科技基金(No.00047208)，安徽省高校学术技术带头人后备人选科研基金资助 |
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| 摘 要： | 采用磁控溅射法在(111)单晶硅衬底上沉积了ZnO薄膜,并研究了退火温度对ZnO薄膜晶体质量、晶粒度大小、应力和光致发光谱的影响.X射线衍射(XRD)表明薄膜为高度c轴择优取向.不同退火温度下的ZnO薄膜应力有明显变化,应力分布最为均匀的退火温度为500℃.室温下对ZnO薄膜进行了光谱分析,可观测到明显的紫光发射(波长为380nm左右).实验结果表明,用磁控溅射法在单晶硅衬底上能获得高质量的ZnO薄膜.
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| 关 键 词： | ZnO薄膜 磁控溅射 X射线衍射 应力 光致发光 |
| 文章编号： | 1000-985X(2005)03-0479-05 |
Preparation and Characterization of ZnO Films Grown by Magnetron Sputtering on Si(111) Substrates |
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| WANG Hong,ZHOU Sheng-ming,SONG Xue-ping,LIU Yan-mei,LI Ai-Xia.Preparation and Characterization of ZnO Films Grown by Magnetron Sputtering on Si(111) Substrates[J].Journal of Synthetic Crystals,2005,34(3):479-483. |
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| Authors: | WANG Hong ZHOU Sheng-ming SONG Xue-ping LIU Yan-mei LI Ai-Xia |
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| Institution: | WANG Hong~1,ZHOU Sheng-ming~2,SONG Xue-ping~1,LIU Yan-mei~1,LI Ai-xia~1 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ZnO films magnetron sputtering X-ray diffraction stress photoluminescence |
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