光学元件激光预处理技术研究进展及其应用 |
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引用本文: | 张晶晶,杨峰,寇洋,王灼寒,袁磊,高宏伟,薄勇,彭钦军.光学元件激光预处理技术研究进展及其应用[J].强激光与粒子束,1996(收录汇总):1-14. |
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作者姓名: | 张晶晶 杨峰 寇洋 王灼寒 袁磊 高宏伟 薄勇 彭钦军 |
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作者单位: | 1.中国科学院理化技术研究所固体激光重点实验室100190;2.中国科学院理化技术研究所功能晶体与激光重点实验室100190;3.中国科学院大学100149; |
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摘 要: | 光学元件中的杂质和缺陷会引起其激光损伤阈值的大幅降低,现阶段这一问题已成为激光装置向高功率、高能量方向发展的“瓶颈”,亟待解决。在对光学元件激光损伤的研究中发现,用低于光学元件损伤阈值的激光对元件表面进行预处理,可以有效提高光学元件的抗激光损伤能力。对激光预处理技术的提出背景、定性作用机理、定量理论模型及国内外技术应用现状进行了概述。并且介绍了一种可在薄膜制备过程中进行原位实时激光预处理的新型薄膜制备技术。最后指出,激光预处理技术作为一种无污染,可有效改善光学薄膜、光学玻璃、光学晶体元件损伤阈值的最有效方法之一,其作用机理、实用化、仪器化还有待进一步发展。
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关 键 词: | 激光预处理 光学薄膜 杂质和缺陷 激光损伤阈值 |
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