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双真空烘烤排气台的研制及应用
引用本文:吴守东,陈林,徐敏,姚斌,陈雪松.双真空烘烤排气台的研制及应用[J].强激光与粒子束,2003,15(2):164-166.
作者姓名:吴守东  陈林  徐敏  姚斌  陈雪松
作者单位:中国工程物理研究院 流体物理研究所, 四川 绵阳 621900
基金项目:??????????中国工程物理研究院基金资助课题(20020869)
摘    要: 分析了放电管稳定试验前的烘烤排气对等离子体焦点装置试验结果的影响,介绍了双真空烘烤排气台的原理和结构设计,并利用试验数据说明了该排气台在等离子体焦点装置试验中的重要性,在实际应用中具有潜在的实用价值。

关 键 词:真空烘烤  等离子体焦点  中子产额
文章编号:1001-4322(2003)02-0164-03
收稿时间:2002/7/17
修稿时间:2002年7月17日

Design and application of the double-vacuum bake device
WU Shou-dong,CHEN Lin,XU Min,YAO Bin,CHEN Xue-song.Design and application of the double-vacuum bake device[J].High Power Laser and Particle Beams,2003,15(2):164-166.
Authors:WU Shou-dong  CHEN Lin  XU Min  YAO Bin  CHEN Xue-song
Institution:Institute of Fluid Physics, CAEP, P.O. Box 919-108, Mianyang 621900, China
Abstract:The influence of the vacuum bake of plasma focus device before discharge experiment on stability and reliability of DPF has been discussed in this paper. The structure, mechanical design and the working principle of the double-vacuum bake device have also been introduced. As a result, the importance of double-vacuum bake of DPF device and the potential application have been shown according to the experimental data.
Keywords:Vacuum bake  Plasma focus  Neutron yield  
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