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SiC衬底上异质外延GaN薄膜结构缺陷对黄光辐射的影响
引用本文:冯倩,段猛,郝跃.SiC衬底上异质外延GaN薄膜结构缺陷对黄光辐射的影响[J].光子学报,2003,32(11):1340-1342.
作者姓名:冯倩  段猛  郝跃
作者单位:1. 西安电子科技大学技术物理学院,西安,710071;西安电子科技大学微电子研究所,西安,710071
2. 西安电子科技大学微电子研究所,西安,710071
基金项目:国家重大基础研究 (973计划 )与国防预研 (批准号 :4 1 30 80 6 0 1 0 6 )资助项目
摘    要:利用光致发光技术对在SiC衬底上采用MOCVD异质外延未故意掺杂的GaN进行发光特性的研究,发现在室温下有很强的黄光输出,同时,采用扫描电子显微术和X光衍射对样品的表面形貌和结构进行了研究,结果发现,随着缺陷密度的减少,黄光输出强度也有所降低,因此,黄光输出强度与缺陷有很大的关系.

关 键 词:GaN  异质外延  光致发光  扫描电子显微术  X光衍射
收稿时间:2002/12/16
修稿时间:2002年12月16

Influence on Yellow-band Emission of Undoped GaN Induced by Stuctural Defects
Feng Qian,Duan Meng,Hao Yue.Influence on Yellow-band Emission of Undoped GaN Induced by Stuctural Defects[J].Acta Photonica Sinica,2003,32(11):1340-1342.
Authors:Feng Qian  Duan Meng  Hao Yue
Institution:1. School of Technical Physics, Xidian University, Xi′an 710071;2. Research Inst. of Microelectronics, Xidian Univ., Xi′an 710071
Abstract:The photoluminesce(PL) band of undoped GaN grown by MOCVD on SiC substrate has been studied, the measurements show there is yellow band emission under room temperature. At the same time, SEM and XRD are used to investigate the surface morphology and structure characteristics .As a result, it is find the intensity of yellow emission decreases as the density of defects reduces, hence there is a strong relation between the defect density and the intensity of yellow band.
Keywords:GaN  Heteroepitaxy  Photoluminescence  SEM  XRD
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