| 基于反射和透射光谱的氢化非晶硅薄膜厚度及光学常量计算 |
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| 引用本文： | 丁文革,苑静,李文博,李彬,于威,傅广生.基于反射和透射光谱的氢化非晶硅薄膜厚度及光学常量计算[J].光子学报,2011,40(7):1096-1100. |
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| 作者姓名： | 丁文革 苑静 李文博 李彬 于威 傅广生 |
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| 作者单位： | 河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室,河北保定,071002 |
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| 摘 要： | 采用紫外-可见透射光谱仪测量了对靶磁控溅射沉积法制备的氢化非晶硅( a-Si:H)薄膜的透射光谱和反射光谱.利用T/(1-R)方法来确定薄膜的吸收系数,进而得到薄膜的消光系数；通过拟合薄膜透射光谱干涉极大值和极小值的包络线采确定薄膜折射率和厚度的初始值,并利用干涉极值公式进一步优化薄膜的厚度值和折射率；利用柯西公式对得...
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| 关 键 词： | 氢化非晶硅 透射谱 薄膜厚度 光学常量 |
Thickness and Optical Constants Calculation of Hydrogenated Amorphous Silicon Film Based on Transmission and Reflectance Spectra |
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| DING Wen-ge,YUAN Jing,LI Wen-bo,LI Bin,YU Wei,FU Guang-sheng.Thickness and Optical Constants Calculation of Hydrogenated Amorphous Silicon Film Based on Transmission and Reflectance Spectra[J].Acta Photonica Sinica,2011,40(7):1096-1100. |
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| Authors: | DING Wen-ge YUAN Jing LI Wen-bo LI Bin YU Wei FU Guang-sheng |
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