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| 等离子体发射光谱法同时测定工业硅中铁、铝、钙 | |
| 引用本文： | 徐楚华,魏伟.等离子体发射光谱法同时测定工业硅中铁、铝、钙[J].光谱实验室,1991,8(3):61-65. |
| 作者姓名： | 徐楚华 魏伟 |
| 作者单位： | 湖北进出口商品检验局，湖北进出口商品检验局 武汉市汉口万松园路3号，430022，武汉市汉口万松园路3号，430022 |
| 摘 要： | 本文叙述了用ICP-AES法对不同级别出口工业硅中规定的杂质元素Fe,Al,Ca的测定方法。称取0.4克样品用HF-HNO_3-H_2SO_4分解,残留物用稀盐酸溶解,定容于100毫升量瓶中,吸取25毫升于50毫升量瓶中,用水稀释至刻度,用PlasmaⅡ型发射光谱仪测定,精密度均在5%以下。用本法和国标指定方法进行成对试验,用数理统计方法作F检验和t检验,证明两种方法无显著性差异。 |
| 关 键 词： | 工业硅 铁 铝 钙 商品检验 等离子体发射光谱 同时测定 ICP－AES |
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