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用微波等离子体MOCVD方法低温沉积氧化硅薄膜

引用本文：	一弓.用微波等离子体MOCVD方法低温沉积氧化硅薄膜[J].等离子体应用技术快报,1997(4):5-6.

作者姓名：	一弓

摘要：
关键词：	半导体 MOCVD 微波等离子体薄膜沉积氧化硅
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