| FIB快速加工纳米孔点阵的新方法 |
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| 引用本文： | 陈雷明,李培刚,符秀丽,张海英,L.H.Li,唐为华.FIB快速加工纳米孔点阵的新方法[J].物理学报,2005,54(2):582-586. |
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| 作者姓名： | 陈雷明 李培刚 符秀丽 张海英 L.H.Li 唐为华 |
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| 作者单位： | (1)Department of Physics,University of Rhode Island，Kingston，RI02881，USA; (2)中国科学院物理研究所，北京凝聚态物理国家实验室，北京 100080; (3)中国科学院物理研究所，北京凝聚态物理国家实验室，北京 100080;北京师范大学物理系，北京 100875 |
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| 基金项目： | 中国科学院百人计划和国家自然科学基金优秀创新研究群体项目(批准号：60321001)资助的 课题. |
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| 摘 要： | 纳米尺度的点阵在纳米器件和基础科学研究方面都具有非常重要的应用.目前普遍采用的聚焦离子束和电子束曝光技术可以很方便的在衬底上加工纳米量级的微细结构，但大面积的图形加工过程需要花费太多的机时.介绍一种利用设计图形BMP文件的像素点阵和实际加工区域之间的匹配关系，通过聚焦离子束加工获得所需要的纳米孔点阵的新方法.采用这种方法可以在短时间内获得大面积的纳米点阵结构.
关键词：
聚焦离子束
电子束曝光
纳米孔点阵
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| 关 键 词： | 聚焦离子束 电子束曝光 纳米孔点阵 |
| 收稿时间： | 2004-05-25 |
Fast fabrication of large-area nanopore arrays by FIB |
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| Chen Lei-Ming,Li Pei-Gang,Fu Xiu-Li,Zhang Hai-Ying,L.H.Li,Tang Wei-hua.Fast fabrication of large-area nanopore arrays by FIB[J].Acta Physica Sinica,2005,54(2):582-586. |
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| Authors: | Chen Lei-Ming Li Pei-Gang Fu Xiu-Li Zhang Hai-Ying LHLi Tang Wei-hua |
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| Abstract: | Fabrication of nanopore arrays is of great importance in nanodevices manufacture and basic scientific research. Focused ion beam (FIB) and electron beam lithography (EBL) have been widely used for fabrication of nanostructures.However, it takes very long time to fabricate nanostructure patterns of large area. In this p aper we report a novel fast fabrication method for nanopore arrays of large area by FIB. Each pixel of predesigned BMP file is regarded as a fabrication dot. B y matching the pixel of the presigned BMP pattern with the required fabrication area, nanopore arrays of large area can be fabricated in a very short time. |
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| Keywords: | focused ion beam electron beam lithography nanopore array |
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