| 非线性曝光对三维全息光子晶体禁带特性的影响 |
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| 引用本文： | 任晓斌,翟天瑞,任芝,林晶,周静,刘大禾.非线性曝光对三维全息光子晶体禁带特性的影响[J].物理学报,2009,58(5):3208-3213. |
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| 作者姓名： | 任晓斌 翟天瑞 任芝 林晶 周静 刘大禾 |
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| 作者单位： | 应用光学北京市重点实验室，北京师范大学物理系，北京 100875 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金（批准号：60277014和60677006）资助的课题. |
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| 摘 要： | 从理论和实验两方面研究了非线性曝光对全息方法制作光子晶体的影响.使用低折射率材料（n=152）制作了金刚石结构光子晶体，通过控制曝光量使记录介质工作在非线性曝光区域，发现光子禁带的特性得到了明显的改善.并由此提出了用低折射率材料实现全空间禁带的设想.
关键词：
光子晶体
光学全息
非线性曝光
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| 关 键 词： | 光子晶体 光学全息 非线性曝光 |
| 收稿时间： | 2008-01-21 |
The effect of nonlinear exposure on bandgap of three-dimensional holographic photonic crystal |
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| Ren Xiao-Bin,Zhai Tian-Rui,Ren Zhi,Lin Jing,Zhou Jing,Liu Da-He.The effect of nonlinear exposure on bandgap of three-dimensional holographic photonic crystal[J].Acta Physica Sinica,2009,58(5):3208-3213. |
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| Authors: | Ren Xiao-Bin Zhai Tian-Rui Ren Zhi Lin Jing Zhou Jing Liu Da-He |
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| Abstract: | The effect of nonlinear exposure on the characteristics of photonic crystal fabricated by holography is investigated theoretically and experimentally. A kind of materials with low refractive index （n=152） is used to fabricate diamond structure. By controlling the exposure in strong nonlinear range, the property of photonic bandgap is improved. Also，some proposals are made to achieve complete band gaps by materials with low refractive index. |
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| Keywords: | photonic crystal holography non-linear exposure |
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