| 改性光刻胶制备纳米压印模版 |
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| 引用本文： | 陈雷明,郭艳峰,郭熹,唐为华.改性光刻胶制备纳米压印模版[J].物理学报,2006,55(12):6511-6514. |
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| 作者姓名： | 陈雷明 郭艳峰 郭熹 唐为华 |
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| 作者单位： | (1)中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室，北京 100080; (2)中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室，北京 100080;浙江理工大学物理系，杭州 310018; (3)中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室，北京 100080;郑州航空工业管理学院数理系，郑州 450015 |
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| 基金项目： | 中国科学院百人计划项目 |
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| 摘 要： | 制备纳米压印中的模版是压印技术的基本条件.目前很多压印模版是利用高硬度材料制作的，但是这些材料比较难以加工，从而限制了纳米压印技术的发展.提出一种利用光刻胶制备纳米压印模版的方法.利用聚焦离子束对光刻胶的改性作用，控制加工的条件，将柔性的光刻胶改性为硬度很高的材料，从而形成纳米压印模版.这种方法具有速度快、制备简单等特点，是一种新颖的加工方式，扩展了聚焦离子束的加工范围，可用于其他的纳米加工领域.
关键词：
纳米压印
光刻胶
聚焦离子束
纳米孔阵列
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| 关 键 词： | 纳米压印 光刻胶 聚焦离子束 纳米孔阵列 |
| 文章编号： | 1000-3290/2006/55(12)/6511-04 |
| 收稿时间： | 01 23 2006 12:00AM |
| 修稿时间： | 2006-01-232006-08-10 |
Molds for nanoimprinting made by modified photoresist |
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| Chen Lei-Ming,Guo Yan-Feng,Guo Xi,Tang Wei-Hua.Molds for nanoimprinting made by modified photoresist[J].Acta Physica Sinica,2006,55(12):6511-6514. |
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| Authors: | Chen Lei-Ming Guo Yan-Feng Guo Xi Tang Wei-Hua |
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| Institution: | 1.Beijing National Laboratory for Condensed Matter Physics, Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100080, China; 2.Department of Mathematics and Physics, Zhengzhou Institute of Aeronautical Industry Management, Zhengzhou 450015, China; 3.Department of Physics, Zhefiang Science and Technology University, Hangzhou 310018, China |
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| Abstract: | The molds for nanoimprint is very important for nanoimprinting. Many hard materials have been used to make molds. But these materials are difficult to fabricate. In this paper we present a novel technique for making molds based on the modification of polymer by focused ion beam irradiation. This technique is very fast and simple. It can be used in many other domainus of nanofabrication. |
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| Keywords: | nanoimprint photoresist focused ion beam nano role array |
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