| Ar离子注入YBa2Cu3O7—x超导薄膜中微结构变化的透射电子显微镜研究 |
| |
| 引用本文： | 李贻杰,任琮欣.Ar离子注入YBa2Cu3O7—x超导薄膜中微结构变化的透射电子显微镜研究[J].物理学报,1993,42(3):482-487,T002. |
| |
| 作者姓名： | 李贻杰 任琮欣 |
| |
| 作者单位： | 北京大学物理系，北京大学物理系，北京大学物理系，中国科学院上海冶金研究所离子束开放研究实验室，中国科学院上海冶金研究所离子束开放研究实验室 北京 100871，北京 100871，北京 100871，上海 200050，上海 200050 |
| |
| 摘 要： | Ar离子注入YBa_2Cu_3O_(7-x)超导薄膜后,不仅会引起样品超导转变温度T_c和临界电流密度J_c的下降,还会使样品的正常态由金属型变为半导体型。透射电子显微镜观察发现在小剂量(<5×10~(12)Ar/cm~2)注入情况下,样品的晶格结构几乎不受影响。随着注入剂量的增加,晶格损伤越来越严重,最终变成非晶态。对实验结果的分析表明,Ar离子注入引起YBa_2Cu_3O_(7-x)薄膜超导性能的变化主要与O原子子晶格的无序化过程有关。
|
| 关 键 词： | 超导膜 离子注入 显微结构 氩 YBCO |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《物理学报》浏览原始摘要信息 |
| 点击此处可从《物理学报》下载免费的PDF全文 |
|
